清洗装置

技术领域

本申请属于半导体工艺设备技术领域，具体涉及一种用于清洗晶圆夹持机构的清洗装置。

背景技术

在晶圆清洗工艺中，晶圆传输机构用于将待清洗的晶圆从暂存区传输至清洗工艺区以及将清洗完成的晶圆从清洗工艺区传输至暂存区。在此过程中，晶圆传输机构夹持待清洗的晶圆时会沾到待清洗的晶圆上的污物，从而容易被污染。被污染的晶圆传输机构再夹持清洗后的晶圆时会将污物传递至清洗后的晶圆上，最终会影响晶圆的清洗效果。

为了解决此问题，相关技术采用清洗晶圆夹持机构的方式来缓解上述问题。但是，相关技术涉及的用于清洗晶圆夹持机构的清洗装置为水幕喷射装置。但是，相关技术涉及的水幕喷射装置的水幕喷射缝隙，无法较好地满足不同供水场景下的清洗任务，进而导致清洗效果较差。

发明内容

本发明公开一种清洗装置，以解决相关技术涉及的清洗装置存在的水幕喷射缝隙无法较好地适应不同供水场景下的清洗任务，而导致清洗效果较差的问题。

为了解决上述技术问题，本发明提供如下技术方案：

本申请实施例公开一种清洗装置，所公开的清洗装置用于清洗晶圆夹持机构，所述清洗装置包括装置主体和调节件，所述装置主体设有进水口和与所述进水口连通的过水空间，所述调节件与所述装置主体相连，且所述调节件与所述装置主体形成水幕喷射缝隙，所述水幕喷射缝隙与所述过水空间连通；

所述调节件可相对于所述装置主体具有多个相对位置，所述调节件处在不同的所述相对位置时与所述装置主体形成的所述水幕喷射缝隙的第一尺寸均不相等，所述第一尺寸为所述调节件与所述装置主体用于形成所述水幕喷射缝隙的部位之间的距离。

本发明采用的技术方案能够至少达到以下技术效果：

本申请实施例公开的清洗装置通过对相关技术中的清洗装置的结构进行改进，通过设置调节件以及将调节件连接于装置主体上，并使其能够相对装置主体具有多个相对位置，进而使得调节件处在不同的相对位置的情况下能够与装置主体形成第一尺寸不相等的水幕喷射缝隙。此种结构使得清洗装置能够以不同的第一尺寸的水幕喷射缝隙来喷射水幕，不同的第一尺寸的水幕喷射缝隙能够较好地适应不同的供水场景下水幕的形成，进而较好地进行晶圆夹持机构的清洗工作，最终能够提升清洗装置的适应性。由于能够较好地适配不同的供水场景下的清洗工作，因此有利于提升清洗效果。

附图说明

图1是本申请实施例公开的清洗装置的爆炸结构示意图，图1中的虚线示意的是相应构件的装配方向；

图2是本申请实施例公开的清洗装置的部分结构示意图，图2包含局部放大图；

图3是本申请实施例公开的清洗装置的装置主体的结构示意图；

图4是图3的A-A向剖视图；

图5是图3的B-B向剖视图；

图6是本申请实施例公开的清洗装置的调节件的结构示意图；

图7是图6的A-A向剖视图。

附图标记说明：

100-装置主体、101-进水口、102-过水空间、103-水幕喷射缝隙、104-第二连接孔、110-外延部、111-第一定位槽、100a-顶壁、100b-底壁、100c-侧壁、120-加强部、200-调节件、201-第一连接孔、202-平直斜面、203-U形安装槽、300-连接件、400-顶丝、500-挡水部件、600-密封条、700-连接头、800-输水管。

具体实施方式

为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明具体实施例及相应的附图对本发明技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

相关技术涉及的清洗装置在进行晶圆夹持机构的清洗工作时，会通过喷淋管以喷嘴散射状的出水方式出水，此过程较容易产生大量的水汽，进而影响清洗装置所在环境的环境湿度。与此同时，喷淋管的供水压力较大，进而较容易导致水与晶圆夹持机构碰撞后，溅射出大量水珠，这又会进一步影响清洗装置所在环境的环境湿度。为此，发明人经过研究发现，水以水幕的形式喷射到晶圆夹持机构上，进而对晶圆夹持机构进行清洗，则可明显减少水雾的产生，而且水幕与晶圆夹持机构碰撞后则很少甚至不会溅射出大量的水珠，最终能够有效地降低清洗装置周围的环境湿度的影响。

但是，在相关的研发过程中，发明人进一步发现，清洗装置的水以水幕的形式喷射出以进行清洗时仍存在清洗效果不佳的问题。通过对清洗装置的进一步分析发现，清洗装置的供水场景并不稳定，最终使得水幕喷射缝隙在一些供水场景(例如供水压力较大或供水量较大的场景)时，能够形成稳定的水幕以进行清洗，但是在另一些供水场景(例如供水压力较小或供水量较小的场景)时，无法形成稳定的水幕。由于无法形成较为稳定的水幕，因此会导致对晶圆夹持机构的清洗效果仍然不够好。为此，本发明创造的发明人进一步对清洗装置进行改进，并得到本发明创造的技术方案。

以下结合附图，详细说明本发明各个实施例公开的技术方案。

请参考图1至图7，本申请实施例公开一种清洗装置。所公开的清洗装置用于清洗晶圆夹持机构。所公开的清洗装置可以包括装置主体100和调节件200。

装置主体100是清洗装置的主体部分，除了发挥本有的功能(例如进水功能、过水功能等)之外，还能够发挥为清洗装置的其它构件提供安装基础的功能。在本申请实施例中，装置主体100设有进水口101和过水空间102，进水口101与过水空间102连通。在具体的工作过程中，清洗晶圆夹持机构的水会从进水口101注入到装置主体100内的过水空间102中，进而进行后续的清洗作业。

为了方便连接进水，进水口101可以安装有连接头700，进水口101可以通过连接头700与输水管800连接，输水管800连接水源。连接头700可以选用方便拆装的连接头700，进而方便操作人员的拆装。例如，连接头700可以通过插接、螺纹连接等方式实现与进水口101的快速连接。

调节件200与装置主体100相连，调节件200与装置主体100形成水幕喷射缝隙103，水幕喷射缝隙103与过水空间102连通，进入到过水空间102中的水会从水幕喷射缝隙103以水幕的形式喷射出。换句话说，进水口101、过水空间102和水幕喷射缝隙103依次连通。喷射出的水幕用于清洗晶圆夹持机构。

调节件200具有调节功能。具体的，调节件200可相对于装置主体100具有多个相对位置，调节件200处在不同的相对位置时与装置主体100形成的水幕喷射缝隙103的第一尺寸均不相等。也就是说，调节件200在多个相对位置时能够分别与装置主体100形成多个水幕喷射缝隙103，这些多个水幕喷射缝隙103的第一尺寸均不相等，最终实现调节件200调节水幕喷射缝隙103的第一尺寸的功能。

需要说明的是，本文中的第一尺寸为调节件200与装置主体100之间用于形成水幕喷射缝隙103的部位之间的距离。具体的，本文中第一尺寸为水幕喷射缝隙103在第一方向的尺寸。如图1所示，第一方向与图1中的Z向平行，图1中，X向与Y向垂直，X向与Z向相垂直，Y向与Z向相垂直。

本申请实施例公开的清洗装置通过对相关技术中的清洗装置的结构进行改进，通过设置调节件200以及将调节件200连接于装置主体100上，并使其能够相对装置主体100具有多个相对位置，进而使得调节件200处在不同的相对位置的情况下能够与装置主体100形成第一尺寸不相等的水幕喷射缝隙103。此种结构使得清洗装置能够以不同的第一尺寸的水幕喷射缝隙103来喷射水幕，不同的第一尺寸的水幕喷射缝隙103能够较好地适应不同的供水场景下水幕的形成，进而较好地进行晶圆夹持机构的清洗工作，最终能够提升清洗装置的适应性。由于能够较好地适配不同的供水场景下的清洗工作，因此有利于提升清洗效果。

如上文所述，调节件200可相对于装置主体100具有多个相对位置，实现调节件200能相对于装置主体100具有多个相对位置的结构可以有多种。

例如，调节件200与装置主体100可以通过驱动机构相连，驱动机构驱动调节件200相对于装置主体100移动，进而实现调节件200相对于装置主体100具有多个相对位置。驱动机构可以是直线电机、液压伸缩件等。在驱动机构为直线电机或液压伸缩件的情况下，直线电机或液压伸缩件的两端可以分别与调节件200和装置主体100相连，进而通过自身的伸缩来驱使调节件200相对于装置主体100移动，从而相对于装置主体100具有多个相对位置。当然，在清洗装置包含有驱动机构的情况下，驱动机构驱使调节件200在不同的相对位置之间切换，无疑能够进一步优化清洗装置的智能化性能，进而方便用户使用。

驱动机构的种类可以有多种，不局限于上文列举的直线电机、液压伸缩件等，本申请实施例不限制驱动机构的具体种类。

当然，需要说明的是，调节件200在不同的相对位置之间切换还可以通过手动操控的方式来实现。基于此，请再次参考图1和图2，本申请实施例公开一种具体的实现调节件200可相对于装置主体100具有多个相对位置，并且多个相对位置之间的切换可以通过手动操控完成的结构。具体如下：调节件200可以设有第一连接孔201，装置主体100设有第二连接孔104，清洗装置还可以包括连接件300，连接件300穿过第一连接孔201，且与第二连接孔104固定连接，调节件200通过连接件300与装置主体100相连。第一连接孔201与连接件300在水幕喷射缝隙103的开合方向可滑动配合，从而改变调节件200相对于装置主体100的相对位置，达到调节第一尺寸的目的。此种方式能够通过操作人员手动操控的方式(例如手动直接推动调节件200的方式)来改变调节件200的相对于装置主体100的相对位置，无需再在清洗装置中额外配置上文所述的驱动机构，进而有利于简化清洗装置的结构，达到降低清洗装置的造价的目的。

需要说明的是，调节件200通过连接件300与装置主体100实现相连实质是一种固定连接方式，调节件200在不受到外力驱使的情况下，不会相对于装置主体100移动，从而相对于装置主体100维持在某一个相对位置。调节件200在受到外力驱使的情况下，会相对于装置主体100移动，从而从相对于装置主体100的一个相对位置切换至另一个相对位置，在此过程中，第一连接孔201与连接件300在开合方向相对滑动，从而避免对调节件200移动的限制。如上文所述，第一尺寸为水幕喷射缝隙103在第一方向的尺寸。需要补充的是，本文中，开合方向与第一方向相平行，也与图1中的Z向相平行。

本文中，连接件300可以是螺钉、螺栓、铆钉等具备连接功能的结构件，本申请实施例不限制连接件300的具体种类。在连接件300为螺纹连接件(例如螺钉、螺栓)的情况下，第二连接孔104实质是螺纹孔，为了与后文的第一螺纹孔区分，我们称此螺纹孔为第二螺纹孔。

通过上文的描述可知，第一连接孔201在发挥连接功能的同时，还应具备避让的功能。实现此功能的第一连接孔201的结构可以有多种，例如，第一连接孔201可以为直径大于连接件300的圆孔，再例如，第一连接孔201可以为条形孔，条形孔的长度方向与开合方向相互平行。一种可选的方案中，第一连接孔201可以为腰型孔，且沿水幕喷射缝隙103的开合方向延伸，此种结构的第一连接孔201具有易于制造的优点。当然，第一连接孔201还可以为其它形状的条形孔(例如长方形孔)，本申请实施例不限制第一连接孔201的具体形状。

调节件200与装置主体100之间形成水幕喷射缝隙103的方式有多种，只要两者之间具有间隔分布的两部分(即这两部分不接触)形成缝隙结构即可，本申请实施例不限制调节件200和装置主体100的具体结构。如图2所示，一种可选的方案中，调节件200可以为板状结构件。

请再次参考图1和图2，本申请实施例公开一种具体结构的装置主体100，所公开的装置主体100可以包括外延部110，外延部110相对于装置主体100的除外延部110之外的其它部分凸出，具体的，外延部110位于装置主体100的边缘，且沿水幕喷射缝隙103的喷射方向(需要说明的是，喷射方向与水幕喷射缝隙103的贯通方向平行)凸出。调节件200可活动地连接于装置主体100，并且调节件200与外延部110相对设置，外延部110与调节件200间隔设置，以形成水幕喷射缝隙103，具体的，水幕喷射缝隙103可以位于装置主体100的边缘，从而使得在清洗过程中形成的水幕从装置主体100的边缘喷射出，最终有利于朝向位于清洗装置的侧向的晶圆夹持机构喷射水幕。

当然，如图1所示，外延部110可以为长条形结构，且凸出于装置主体100的长度方向的边缘，此种结构能够在形成较长的外延部110，进而通过较长的外延部110与调节件200形成第二尺寸较大的水幕喷射缝隙103，进而有利于形成面积较大的水幕，达到提升清洗装置的清洗能力的目的。

需要说明的是，水幕喷射缝隙103的第二尺寸指的水幕喷射缝隙103在第二方向的尺寸，第二方向与第一方向相垂直，第一尺寸与第二尺寸的乘积为水幕喷射缝隙103的流通面积。换句话说，第一方向、第二方向分别与水幕喷射缝隙103的贯通方向垂直。调节件200与外延部110间隔设置形成水幕喷射缝隙103，调节件200与外延部110之间的距离为第一尺寸。具体的，贯通方向与说明书附图中所示的X向相平行。装置主体100的长度方向与说明书附图中所示的Y向相平行。第二方向与说明书附图所示的Y向相平行。

与此同时，外延部110相对于装置主体100的除外延部110之外的其它部分在水幕喷射缝隙103的喷射方向凸出一定的长度，调节件200与外延部110相对，从而较容易与外延部110形成具有一定贯通长度(即水幕喷射缝隙103在贯通方向的尺寸)的水幕喷射缝隙103，进而有利于形成较为平稳的水幕。在外延部110沿水平方向凸出的情况下，调节件200可以位于外延部110的上方。

为了方便对调节件200的手动调节操作，在装置主体100包含外延部110的情况下，本申请实施例公开的清洗装置还可以包括顶丝400，外延部110可以设有第一螺纹孔，顶丝400与第一螺纹孔螺纹配合，顶丝400穿过第一螺纹孔的端部与调节件200配合，顶丝400在转动的情况下可驱动调节件200移动，以改变调节件200相对于装置主体100的相对位置，最终形成不同的第一尺寸的水幕喷射缝隙103。此种结构能够使得操作人员直接手动旋转顶丝或借助工具手动旋转顶丝即可实现对调节件200的操控，具有操作简单、方便的优点。当然，顶丝400与第一螺纹孔为螺纹配合关系，旋转顶丝400使得顶丝400驱动调节件200运动的方式是一种无极调节，能够提高对调节件200运动的调节精度。

在一种可选的方案中，本申请实施例公开的清洗装置还可以包括挡水部件500，调节件200与挡水部件500相抵接，从而使得两者之间不会形成漏水间隙，外延部110的朝向调节件200的表面的两端均可以设有第一定位槽111，位于外延部110的两端的第一定位槽111中均设有挡水部件500，挡水部件500与对应的第一定位槽111定位配合，以实现安装，与此同时，还使得挡水部件500封堵水幕喷射缝隙103的两端，以保证水幕喷射缝隙103的第二尺寸不变。也就是说，外延部110的两端的挡水部件500能够明确水幕喷射缝隙103在第二方向的边界，从而使得调节件200相对于装置主体100在多个相对位置切换，均不会导致第二尺寸发生变化。如上文所述，第二尺寸为水幕喷射缝隙103在第二方向上的尺寸。

在本申请实施例中，顶丝400的端部穿过第一螺纹孔后可与调节件200配合，进而实现对调节件200的调节。在清洗装置包含有挡水部件500的情况下，在一种实施例中，顶丝400的穿过第一螺纹孔的端部与挡水部件500接触，顶丝400在转动的情况下，可通过驱动挡水部件500带动调节件200移动，以调节第一尺寸，在此种情况下，顶丝400直接驱动挡水部件500移动，来达到间接驱动调节件200相对于装置主体100移动的目的。当然，如图2所示，连接件300的数量可以为多个，第一连接孔201和第二连接孔104均为多个，且一一对应，第一连接孔201、第二连接孔104分别与连接件300一一对应。

当然，在顶丝400驱使挡水部件500移动的过程中，由于挡水部件500定位于第一定位槽111中，因此挡水部件500即便相对于外延部110发生移动，也仍然能够发挥挡水作用，也就是说，挡水部件500即便相对于外延部110移动，那么在与第一定位槽111的配合情况下(控制挡水部件500不从第一定位槽111中移出，外延部110与挡水部件500有重叠，仍能够发挥挡水作用)，仍能够确定水幕喷射缝隙103在第二方向的边界，达到确定第二尺寸的目的。

在其它的实施例中，顶丝400的端部可以直接顶住调节件200，进而实现对调节件200的调节，在此过程中，调节件200的移动能够调节第一尺寸。在此实施例中，挡水部件500可以固定于外延部110上，外延部110可以不开设第一定位槽111，取而代之的是，调节件200的朝向外延部110的底面可以开设有第二定位槽，挡水部件500可以位于第二定位槽中，顶丝400直接顶住调节件200移动的过程中，控制挡水部件500不从第二定位槽中脱离(第二定位槽可以设计较大的深度)，从而使得在调节调节件200的过程中，挡水部件500仍发挥挡水作用，进而维持第二尺寸不变。

本申请实施例不限制第一定位槽111和第二定位槽的具体深度，本领域技术人员可以根据具体的产品规格来合理的设计第一定位槽111和第二定位槽的深度，以使挡水部件500不与第一定位槽111或第二定位槽分离，进而使得挡水部件500与外延部110或调节件200有重叠，进而确保挡水功能。

如上文所述，调节件200与装置主体100之间形成水幕喷射缝隙103。具体的，调节件200与装置主体100形成水幕喷射缝隙103的部位的结构可以有多种。一种较为优选的方案中，外延部110与调节件200的相对的表面可以分别为第一平面和第二平面，第一平面与第二平面间隔设置，以形成上文所述的水幕喷射缝隙103。在此种情况下，由于第一平面与第二平面均为规整的平面，因此较容易形成形状较为规整的水幕喷射缝隙103，进而有利于确保水幕形成质量和稳定性。具体的，第一平面与第二平面相互平行。当然，在其它的实施例中，第一平面与第二平面不但相互平行，而且均沿水平面延伸。另外，第一平面和第二平面均可以与说明书附图中所示的X向相平行。

在实现本发明创造的过程中，发明人发现水通过进水口101进入到过水空间102后，即便进水压力较大，也会存在水幕喷射缝隙103的出水量不足的问题，这不利于提升清洗效果。

经过发明人研究发现，如何减少水在经过过水空间102的压损，则有利于缓解上述问题，基于此，在进一步的技术方案中，调节件200的朝向过水空间102的表面可以包括平直斜面202，平直斜面202与第一平面之间可以形成渐缩通道，渐缩通道的流通面积在靠近水幕喷射缝隙103的方向递减。当然，渐缩通道连通过水空间102和水幕喷射缝隙103，渐缩通道的流通面积在靠近水幕喷射缝隙103的方向(该方向与水幕喷射缝隙103的贯通方向相平行)逐渐减小，因此能够减小在清洗过程中水的压损。在相同的厂务供水条件下，有利于增加形成水幕的出水量。与此同时，调节件200不但能发挥形成水幕喷射缝隙103的功能，而且还发挥与装置主体100相配合以形成减小水压损失的减缩通道的功能，达到一物多用的目的。

而且，调节件200可以可拆卸地连接于装置主体100上。在制造的过程中，制造厂商完全可以在调节件200上直接加工出平直斜面202，然后再通过与装置主体100的装配来一并形成渐缩通道，无需额外再设计结构较为复杂的减小水压损失的结构。

一种具体的实施例中，在渐缩通道的延伸方向(该方向与水幕喷射缝隙103的贯通方向平行)上，第二平面的尺寸为L，具体的，L可以≥4mm。L≥4mm使得第二平面不会太短，进而能够确保水幕喷射缝隙103在其贯通方向具有足够的长度，进而有利于确保形成的水幕的稳定性。

在另一种具体的实施例中，平直斜面202与第一平面之间的夹角可以为δ，具体的，30°≤δ≤60°。δ在此角度范围内，能够使得平直斜面202与第一平面之间的夹角较为适中，不会过小，也不会过大。

如上文所述，调节件200相对于装置主体100具有多个相对位置，从而在不同的相对位置处形成第一尺寸不相等的水幕喷射缝隙103。在本申请实施例中，第一尺寸为h，h可以≥0.5mm。当然，本申请实施例不限制第一尺寸h的具体数值大小。在一种具体的应用场景中，进水口101的进水压力为0.35～0.6MPa的情况下，第一尺寸h可以为0.5mm～1mm，进而能够形成较为稳定的水幕。

在本申请实施例中，构成清洗装置的构件可以采用多种材质，只要不影响对晶圆夹持机构的清洗作业即可。在较为优选的方案中，清洗装置所包含的构件的材质可以为符合半导体洁净等级的树脂。由于树脂具有较好的耐腐蚀性，而且具有质轻的优势，因此构成清洗装置的构件的材质为树脂，能够使得清洗装置具有较多的优势。当然，本申请实施例不限制构成清洗装置的构件的具体材质，本申请实施例公开的清洗装置的构件还可以选择其它的能够满足半导体清洁等级要求的材料制成。

如上文所述，为了使得过水空间102内的水能够尽可能地通过水幕喷射缝隙103以水幕的形式喷射出，在一种可选的方案中，本申请实施例公开的清洗装置还可以包括密封条600，密封条600密封于调节件200与装置主体100的连接表面之间。在此种情况下，密封条600能够将除了调节件200与装置主体100的形成水幕喷射缝隙103之外的其它部位实现密封，避免过水空间102中的水从这些部位流出。在此种情况下，进入到过水空间102内的水会全部通过水幕喷射缝隙103以水幕的形式喷射出，从而使的过水空间102内的水尽可能多地用于清洗晶圆夹持机构，达到更大程度的利用。

在本申请实施例中，密封条600可以是硅胶密封条，也可以是橡胶密封条，当然还可以是树脂密封条，本申请实施例不限制密封条600的具体材质。

为了更好地提高装配效果，一种可选的方案中，调节件200的朝向过水空间102的表面可以开设有安装槽，密封条600可以安装于安装槽内。具体的，安装槽可以是U形安装槽203，密封条600与U形安装槽203的形状相适配，且安装于U形安装槽203内。密封条600与装置主体100滑动密封配合，在调节件200相对于装置主体100在多个相对位置之间切换时，密封条600会跟随运动，与此同时，密封条600会与装置主体100滑动密封配合，从而确保密封的维持。

一种可选的方案中，水幕喷射缝隙103位于过水空间102的底侧，密封条600安装于U形安装槽203内，U形安装槽203的部分位于过水空间102的顶侧，U形安装槽203的其它部分分别位于过水空间102的左侧和右侧。具体的，密封条600会顺着U形安装槽203的形状分布，从而使得密封条600可以形成半包围结构，实现在调节件200与装置主体100之间的除水幕喷射缝隙103之外的其它区域的密封。

在研发设计的过程中，本发明创造的发明人进一步发现，由于装置主体100为空腔结构，在进水口101向过水空间102注水的过程中，受水压的影响，装置主体100容易发生鼓包现象(即发生鼓包变形)，进而导致形成水幕的水幕喷射缝隙103也会受到水压的影响，进而容易出现水幕喷射缝隙103的中间位置发生变形，导致水幕喷射缝隙103的中间位置的开合程度大于水幕喷射缝隙103的两端位置的开合程度，换句话说，水幕喷射缝隙103各个部位的第一尺寸并不完全均等，即具有较小的偏差。此种结构最终会导致从水幕喷射缝隙103喷射出来的水幕存在出水量不均匀的问题(即水幕中间的出水量大于水幕两侧的出水量)，这仍会影响对晶圆夹持机构的清洗效果。

为此，在本申请实施例公开的进一步的技术方案中，装置主体100可以包括围成过水空间102的顶壁100a、底壁100b和侧壁100c。侧壁100c位于顶壁100a与底壁100b之间，且侧壁100c连接顶壁100a与底壁100b。进水口101开设于顶壁100a。装置主体100还可以包括加强部120，加强部120同样位于顶壁100a与底壁100b之间，并且加强部120连接顶壁100a和底壁100b。在此种情况下，加强部120能够发挥加强的作用，从而能够提高装置主体100的整体强度，进而能够使得调节件200与装置主体100之间形成的水幕喷射缝隙103不易发生中间部位的变形。此种结构也就能够缓解水压导致的水幕喷射缝隙103的中间部位的开合程度大于两端部位的开合程度的问题，最终能够使得水幕喷射缝隙103形成的水幕的各个部位的出水量较为均匀，进而能进一步提升清洗的均衡性。

由于装置主体100的邻近进水口101的位置发生鼓包变形的情况较为严重，基于此，一种可选的方案中，加强部120可以设置在过水空间102内邻近进水口101的位置，从而能够更好地缓解鼓包变形问题。

为了进一步提升加强效果，加强部120分别与顶壁100a、底壁100b和侧壁100c相连，在此种情况下，加强部120与装置主体100的其它更多的部位发生连接，达到进一步加强的效果。

在本申请实施例中，加强部120可以通过粘接、焊接等方式实现与顶壁100a、底壁100b和侧壁100c的装配连接，在此种情况下，加强部120可以与装置主体100的其它部分是分体式结构。

为了方便制造，在其它的实施例中，本申请实施例公开的装置主体100可以为整体式结构件，也就是说，加强部120、顶壁100a、底壁100b和侧壁100c可以为一体成型构件。具体的，装置主体100可以通过注塑、切割等一体成型工艺制造而成。

在本申请实施例中，调节件200可以为一个，也可以为多个。本申请实施例不限制调节件200的数量。当然，在调节件200为多个的情况下，多个调节件200可以分别与装置主体100形成多个水幕喷射缝隙103。多个水幕喷射缝隙103能够提升清洗装置的清洗能力。当然，多个水幕喷射缝隙103能够对多个晶圆夹持机构同时实施清洗，进而能够提升清洗效率。

一种可选的方案中，调节件200可以为两个，两个调节件200可以分别设于装置主体100的相背的两侧，两个调节件200分别与装置主体100形成朝向相反的水幕喷射缝隙103，两个调节件200分别与装置主体100形成两个水幕喷射缝隙103，从而能够朝向装置主体100的相背的两侧喷射水幕，从而能够分别清洗相对分布，且间隔设置的晶圆夹持机构的夹持臂，达到较好的适配清洗、独立清洗的目的。需要说明的是，本文中，水幕喷射缝隙103的朝向与水幕喷射缝隙103的贯通方向相平行，也与说明书附图中所示的X向相平行。

同理，加强部120可以为一个，也可以为多个，本申请实施例也不限制加强部120的数量。一种可选的方案中，加强部120可以为两个，两个加强部120在第二方向间隔分布，两个加强部120对称分布于进水口101的两侧。需要说明的是，本文中，第二方向与水幕喷射缝隙103的朝向相垂直，第二方向与进水口101的轴线相垂直。如上文所述，第一尺寸为水幕喷射缝隙103在第一方向的尺寸，第二方向与第一方向相垂直，换句话说，进水口101的轴线方向(即进水口101贯通方向)与第一方向相平行。在此种情况下，两个加强部120对称分布，能够使得位于进水口101的两侧的两个水幕喷射缝隙103的出水情况尽可能一致，进而有利于提升清洗效果的一致性。

在本申请实施例中，加强部120的形状可以有多种，本申请实施例也不会限制加强部120的具体形状。一种可选的方案中，加强部120的横截面的形状为等腰梯形，等腰梯形的短边邻近进水口101，换句话说，加强部120的与其横截面的短边相对应的第一端部邻近进水口101，加强部120的与其横截面的长边(等腰梯形的短边与等腰梯形的长边平行)相对应的另一端远离进水口101，且与侧壁100c相连。等腰梯形的两个等腰的斜边(相对于等腰梯形的长边或短边倾斜)。此种结构的加强部120能够具有较大的面积与侧壁100c相连，进而较好地确保加强功能，同时邻近进水口101的部位的尺寸较小，从而不会对注入进水口101的水在过水空间102内的流动，进而能够确保装置主体100的过水性能。

在本申请实施例中，进水口101的形状可以有多种，例如进水口101为方形口、椭圆形口等，本申请实施例不限制进水口101的形状。

与此同时，本申请实施例也不限制加强部120的各个部位的尺寸。一种可选的方案中，等腰梯形的短边的长度为a，其中，d≤a≤1.5d，其中，d为进水口101的直径(此种情况下，进水口101为圆形口)。在其它的实施例中，短边与等腰梯形的斜边之间的夹角可以为β，60°≤β≤80°。当然，短边与等腰梯形的斜边之间的夹角β还可以为其它数值，本申请实施例不作限制。

本申请实施例公开的清洗装置在工作的过程中，可以采用超纯水清洗晶圆夹持机构。当然，还可以采用其它种类的能满足清洗工艺的水来清洗晶圆夹持机构，本申请实施例不作限制。

本发明上文实施例中重点描述的是各个实施例的不同，各个实施例的不同的区别特征只要不矛盾，均可以组合形成更具体的实施例，考虑到行文简洁，在此则不再赘述。

上面结合附图对本发明的实施例进行了描述，但是本发明并不局限于上述的具体实施方式，上述的具体实施方式仅仅是示意性的，而不是限制性的，本领域的普通技术人员在本发明的启示下，在不脱离本发明宗旨和权利要求所保护的范围情况下，还可做出很多形式，均属于本发明的保护之内。