显示装置以及制造其的方法

技术领域

实施方式大体上提供显示装置以及制造其的方法。

背景技术

显示装置是显示图像的装置，并且可以包括作为用于显示图像的最小单元的像素以及与像素重叠的颜色转换层。颜色转换层可以包括转换从像素发射的光的波长的颜色转换材料，并且因此，从像素发射的光可以转换成具有各种颜色的光。

颜色转换层可以设置在形成于分隔层中的容纳开口中。在这种情况下，在容纳开口的区域相对小以便在有限的显示区域中显示高分辨率图像的情况下，可能难以在容纳开口中形成颜色转换层。

发明内容

实施方式提供了能够在有限的显示区域中显示高分辨率图像的显示装置。

根据本公开的实施方式的显示装置可以包括：衬底；分隔层，设置在衬底上，并且包括第一容纳开口、第二容纳开口、第三容纳开口以及与第一容纳开口和第二容纳开口间隔开的间隔物区域；第一颜色转换层，设置在第一容纳开口中；第二颜色转换层，设置在第二容纳开口中；散射层，设置在第三容纳开口中；以及间隔物，设置在分隔层的间隔物区域上。间隔物和散射层可以包括相同的材料。

在实施方式中，散射层和间隔物可以包括散射材料。

在实施方式中，分隔层还可以包括：第一虚设开口，设置在第二容纳开口和第三容纳开口之间；以及第二虚设开口，设置在第一容纳开口和第二容纳开口之间以及第一容纳开口和第三容纳开口之间。

在实施方式中，散射层还可以设置在第一虚设开口和第二虚设开口中。

在实施方式中，分隔层还可以包括第四容纳开口。第四容纳开口可以由第一容纳开口、第二容纳开口和第三容纳开口围绕，并且可以包括中央虚设开口和围绕中央虚设开口的多个周边虚设开口。

在实施方式中，间隔物区域可以是分隔层的与中央虚设开口相邻的部分。

在实施方式中，散射层还可以设置在第四容纳开口中。

在实施方式中，显示装置还可以包括：封盖层，覆盖分隔层、第一颜色转换层和第二颜色转换层。

在实施方式中，封盖层还可以设置在第三容纳开口中的分隔层和散射层之间。

在实施方式中，第一容纳开口的平面面积可以大于第二容纳开口的平面面积，并且第二容纳开口的平面面积可以大于第三容纳开口的平面面积。

在实施方式中，显示装置还可以包括：填充层，覆盖分隔层、第一颜色转换层、第二颜色转换层、散射层和间隔物。

根据本公开的实施方式的制造显示装置的方法可以包括：在衬底上形成预分隔层；通过去除预分隔层的第一部分，形成包括第一容纳开口、第二容纳开口、第三容纳开口以及与第一容纳开口和第二容纳开口间隔开的间隔物区域的分隔层；在第一容纳开口中形成第一颜色转换层；在第二容纳开口中形成第二颜色转换层；将光刻胶材料整体施加在衬底上，以覆盖分隔层、第一颜色转换层和第二颜色转换层；以及通过去除光刻胶材料的一部分，同时形成设置在第三容纳开口中的散射层和设置在分隔层的间隔物区域上的间隔物。

在实施方式中，形成第一颜色转换层可以包括：通过喷墨方法将包括第一颜色转换材料的第一墨水供应到第一容纳开口中，并且形成第二颜色转换层可以包括：通过喷墨方法将包括第二颜色转换材料的第二墨水供应到第二容纳开口中。

在实施方式中，方法还可以包括在形成第二颜色转换层之后，形成覆盖衬底、分隔层、第一颜色转换层和第二颜色转换层的封盖层。

在实施方式中，光刻胶材料可以施加到封盖层上。

在实施方式中，光刻胶材料可以包括散射材料。

在实施方式中，形成分隔层还可以包括：通过去除预分隔层的第二部分，形成设置在第二容纳开口和第三容纳开口之间的第一虚设开口以及设置在第一容纳开口和第三容纳开口之间的第二虚设开口。

在实施方式中，形成分隔层还可以包括：通过去除预分隔层的第三部分，形成由第一容纳开口、第二容纳开口和第三容纳开口围绕、并且包括中央虚设开口和围绕中央虚设开口的多个周边虚设开口的第四容纳开口。

在实施方式中，散射层还可以设置在第一虚设开口、第二虚设开口和第四容纳开口中。

在实施方式中，方法还可以包括：形成覆盖分隔层、第一颜色转换层、第二颜色转换层、散射层和间隔物的填充层。

根据本公开的实施方式的制造显示装置的方法可以包括：将光刻胶材料整体施加在衬底上；以及通过去除光刻胶材料的一部分，同时形成设置在第三容纳开口中的散射层和设置在分隔层的间隔物区域上的间隔物。因此，即使第三容纳开口的平面面积相对小，也可以在第三容纳开口中有效地形成散射层。此外，由于在不单独形成散射层和间隔物的情况下同时形成散射层和间隔物，因此显示装置的成品率可以相对高。

附图说明

从以下结合附图的详细描述，将更清楚地理解示例性的、非限制性的实施方式。

图1是示出根据实施方式的显示装置的示意性立体图。

图2和图3是示出包括在图1的显示装置中的上部结构的示意图。

图4和图5是示出包括在图1的显示装置中的下部结构的示意图。

图6至图11是示出制造图3的上部结构的方法的示意图。

具体实施方式

在下文中，将参考附图详细说明本公开的实施方式。相同的附图标记用于附图中相同的部件，并且将省略对相同部件的冗余描述。

出于描述的目的，可以在本文中使用诸如“下面”、“下方”、“之下”、“下部”、“上”“上方”、“上部”、“之上”、“更高”、“侧”(例如，如在“侧壁”中)等的空间相对术语，并且从而来描述如附图中所示的一个元件与另一元件(多个元件)的关系。除了附图中描绘的定向之外，空间相对术语旨在包含设备在使用、操作和/或制造中的不同定向。例如，如果附图中的设备被翻转，则被描述为在其它元件或特征“下方”或“下面”的元件将随之被定向在其它元件或特征“上方”。因此，术语“下方”可以包含上方和下方两种定向。此外，设备可以以其它方式定向(例如，旋转90度或处于其它定向)，并且因此，本文中使用的空间相对描述语应相应地进行解释。

术语“和/或”包括相关配置可以限定的一个或多个的所有组合。例如，“A和/或B”可以理解为意指“A、B、或者A和B”。

出于本公开的目的，短语“A和B中的至少一个”可以解释为仅A、仅B、或者A和B的任意组合。此外，“X、Y和Z中的至少一个”和“从由X、Y和Z组成的组中选择的至少一个”可以解释为仅X、仅Y、仅Z、或者X、Y和Z中的两个或更多个的任意组合。

如本文中所使用的，术语“约”或“近似”包括所述值以及由本领域普通技术人员在考虑到所讨论的测量和与特定量的测量相关的误差(即，测量系统的限制)时所确定的特定值的可接受偏差范围内的平均值。例如，“约”可以意指在所述值的一个或多个标准偏差内，或者在所述值的±30％、±20％、±10％、±5％内。

除非本文中另有定义或暗示，否则本文中使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)具有与本公开所属领域中的普通技术人员通常理解的含义相同的含义。还将理解，术语，诸如在常用字典中定义的那些术语，应被解释为具有与它们在相关领域和本公开的上下文中的含义一致的含义，并且除非在本文中明确地如此定义，否则不应以理想化或过于形式化的含义进行解释。

图1是示出根据实施方式的显示装置的示意性立体图。

参考图1，显示装置DD可以包括上部结构1000、下部结构2000和填充层3000。

下部结构2000可以包括作为用于发射光的最小单元的像素。上部结构1000可以设置在下部结构2000上。上部结构1000可以包括转换从像素发射的光的波长的颜色转换层以及散射从像素发射的光的散射层。填充层3000可以设置在上部结构1000和下部结构2000之间。填充层3000可以提供粘着力，使得下部结构2000可以附接在上部结构1000之下。

图2和图3是示出包括在图1的显示装置中的上部结构的示意图。图2是示出在第三方向DR3上观察的上部结构1000的示意性平面图，并且图3是沿着图2的线I-I'、II-II'和III-III'截取的示意性剖视图。

参考图2，上部结构1000可以包括开口和间隔物区域SPA。开口可以包括与下部结构2000的像素开口PXG、PXR和PXB(参见图4)重叠的第一开口以及不与像素开口重叠的第二开口。

在实施方式中，第一开口可以包括第一容纳开口OP1、第二容纳开口OP2和第三容纳开口OP3，并且第二开口可以包括第一虚设开口OP_D1、第二虚设开口OP_D2和第四容纳开口OP4。第一容纳开口OP1可以与第一像素开口PXG(参见图4)重叠，并且第二容纳开口OP2可以与第二像素开口PXR(参见图4)重叠，并且第三容纳开口OP3可以与第三像素开口PXB(参见图4)重叠。

第二容纳开口OP2和第三容纳开口OP3可以在与第二方向DR2和第三方向DR3相交的第一方向DR1上交替布置，以限定第一开口行。第一容纳开口OP1和第四容纳开口OP4可以在第一方向DR1上交替布置，以限定第二开口行。第一开口行和第二开口行可以在与第一方向DR1和第三方向DR3相交的第二方向DR2上交替布置。

在第一开口行中，第一虚设开口OP_D1可以设置在第二容纳开口OP2和第三容纳开口OP3之间。例如，如图2中所示，两个第一虚设开口OP_D1可以设置在一个第二容纳开口OP2和与其相邻的一个第三容纳开口OP3之间。

第二虚设开口OP_D2可以设置在第一开口行和第一容纳开口OP1之间。例如，如图2中所示，两个第二虚设开口OP_D2可以设置在一个第一容纳开口OP1和与其相邻的一个第一开口行之间。

第四容纳开口OP4可以包括中央虚设开口OP_DC和环绕中央虚设开口OP_DC设置的周边虚设开口OP_DP。例如，如图2中所示，第四容纳开口OP4可以包括一个中央虚设开口OP_DC和围绕该一个中央虚设开口OP_DC的八个周边虚设开口OP_DP。

在实施方式中，第一容纳开口OP1的平面面积可以大于第二容纳开口OP2的平面面积，并且第二容纳开口OP2的平面面积可以大于第三容纳开口OP3的平面面积。

间隔物SPC可以设置在间隔物区域SPA中。例如，间隔物区域SPA可以限定为其中设置有间隔物SPC的区域。间隔物区域SPA可以与第一容纳开口OP1和第二容纳开口OP2间隔开。

参考图2和图3，上部结构1000可以包括上部衬底BSU、滤色器层CF、折射层RL、保护层PL、分隔层PW、第一颜色转换层CCL1、第二颜色转换层CCL2、封盖层CAP、散射层SCL和间隔物SPC。填充层3000可以设置在上部结构1000上并且可以覆盖上部结构1000。

上部衬底BSU可以包括具有相对高透光率的材料。例如，上部衬底BSU可以包括玻璃或塑料。在实施方式中，上部衬底BSU可以具有柔性，并且因此上部衬底BSU可以反复折叠或展开。

滤色器层CF可以设置在上部衬底BSU上。滤色器层CF可以选择性地透射具有特定波长的光。

在实施方式中，滤色器层CF可以包括第一滤色器层CF1、第二滤色器层CF2和第三滤色器层CF3。第一滤色器层CF1可以选择性地透射具有第一波长范围的光，第二滤色器层CF2可以选择性地透射具有第二波长范围的光，并且第三滤色器层CF3可以选择性地透射具有第三波长范围的光。例如，第一滤色器层CF1可以选择性地透射具有绿色的光，并且第二滤色器层CF2可以选择性地透射具有红色的光，并且第三滤色器层CF3可以选择性地透射具有蓝色的光。

在实施方式中，第一滤色器层CF1可以与第一容纳开口OP1重叠并且可以不与第二容纳开口OP2和第三容纳开口OP3重叠，并且第二滤色器层CF2可以与第二容纳开口OP2重叠并且可以不与第一容纳开口OP1和第三容纳开口OP3重叠，并且第三滤色器层CF3可以与第三容纳开口OP3重叠并且可以不与第一容纳开口OP1和第二容纳开口OP2重叠。

在实施方式中，在与第一虚设开口OP_D1、第二虚设开口OP_D2、第四容纳开口OP4和间隔物区域SPA重叠的区域中，第一滤色器层CF1、第二滤色器层CF2和第三滤色器层CF3可以堆叠在上部衬底BSU上。该区域可以限定为不通过其透射光的遮光区域。

折射层RL可以设置在滤色器层CF上。折射层RL可以覆盖滤色器层CF。折射层RL可以包括具有相对高折射率的材料和/或具有相对低折射率的材料。

保护层PL可以设置在折射层RL上。在实施方式中，保护层PL可以包括硅氧化物。例如，保护层PL可以包括SiON。

分隔层PW可以设置在保护层PL上。分隔层PW可以限定第一容纳开口OP1、第二容纳开口OP2、第三容纳开口OP3、第四容纳开口OP4、第一虚设开口OP_D1和第二虚设开口OP_D2。分隔层PW可以包括具有相对高的吸光率的材料。例如，分隔层PW可以包括包含黑色染料的有机材料。

分隔层PW可以限定间隔物区域SPA。分隔层PW在间隔物区域SPA中的上表面可以具有等于或大于预定或可选面积的面积，使得间隔物SPC可以形成为具有预定或可选高度。例如，分隔层PW在间隔物区域SPA中的上表面的平面面积可以是第三容纳开口OP3的平面面积的约10％或更多以及约40％或更少。

第一颜色转换层CCL1可以设置在第一容纳开口OP1中。第一颜色转换层CCL1可以包括散射材料SC和第一颜色转换材料CC1。散射材料SC可以包括散射光的材料。例如，散射材料SC可以包括TiO

第二颜色转换层CCL2可以设置在第二容纳开口OP2中。第二颜色转换层CCL2可以包括散射材料SC和第二颜色转换材料CC2。第二颜色转换材料CC2可以包括转换光的波长的材料。例如，第二颜色转换材料CC2可以将从第二发光层EL2(参见图5)发射的光的波长转换成第二波长。第二波长可以是在第二波长范围内的波长。从第二发光层EL2发射的光可以依次穿过第二颜色转换层CCL2和第二滤色器层CF2，并且可以被显示装置DD的用户视觉识别到。

封盖层CAP可以覆盖分隔层PW、第一颜色转换层CCL1和第二颜色转换层CCL2。在实施方式中，封盖层CAP和保护层PL可以包括相同的材料。例如，封盖层CAP可以包括SiON。

散射层SCL可以设置在第三容纳开口OP3中。散射层SCL可以包括散射材料SC。在实施方式中，从第三发光层EL3(参见图5)发射的光可以具有第三波长，并且第三波长可以是在第三波长范围内的波长。从第三发光层EL3发射的光可以依次穿过散射层SCL和第三滤色器层CF3，并且可以被显示装置DD的用户视觉识别到。

在实施方式中，在第三容纳开口OP3中，封盖层CAP可以设置在分隔层PW和散射层SCL之间。光可以在第三容纳开口OP3中的散射层SCL和封盖层CAP之间的界面处反射。因此，从第三发光层EL3发射并穿过第三容纳开口OP3中的散射层SCL的光可以在不被分隔层PW吸收的情况下在界面处反射，并且因此可以改善显示装置DD的光效率。

在实施方式中，散射层SCL还可以设置在第一虚设开口OP_D1、第二虚设开口OP_D2、中央虚设开口OP_DC和周边虚设开口OP_DP中的至少一个中。例如，如图3中所示，散射层SCL可以设置在第一虚设开口OP_D1、第二虚设开口OP_D2、中央虚设开口OP_DC和周边虚设开口OP_DP中的每一个中。

间隔物SPC可以设置在间隔物区域SPA中的分隔层PW上。间隔物SPC和散射层SCL可以包括相同的材料。间隔物SPC和散射层SCL可以通过相同的工艺形成。

图4和图5是示出包括在图1的显示装置中的下部结构2000的示意图。图4是示出当在与第三方向DR3相反的方向上观察时的下部结构2000的示意性平面图，并且图5是沿着图4的线IV-IV'和V-V'截取的示意性剖视图。

参考图4，下部结构2000可以包括像素开口。像素开口中的每一个可以与作为用于发射光的最小单元的像素相对应。

在实施方式中，像素开口可以包括第一像素开口PXG、第二像素开口PXR和第三像素开口PXB。第一像素开口PXG可以与上部结构1000的第一容纳开口OP1重叠，第二像素开口PXR可以与上部结构1000的第二容纳开口OP2重叠，并且第三像素开口PXB可以与上部结构1000的第三容纳开口OP3重叠。

第二像素开口PXR和第三像素开口PXB可以在第一方向DR1上交替布置以限定第一像素行。第一像素开口PXG可以在第一方向DR1上重复布置以限定第二像素行。第一像素行和第二像素行可以在第二方向DR2上交替布置。

参考图4和图5，下部结构2000可以包括下部衬底BS1、电路层CIR、第一像素电极PE1、第二像素电极PE2、第三像素电极PE3、第一发光层EL1、第二发光层EL2、第三发光层EL3、像素限定层PDL、公共电极层CE、第一封装层EN1、第二封装层EN2和第三封装层EN3。填充层3000可以设置在下部结构2000上并且可以覆盖下部结构2000。

下部衬底BS1可以包括玻璃或塑料。在实施方式中，下部衬底BS1可以具有柔性，并且因此下部衬底BS1可以反复折叠或展开。

电路层CIR可以设置在下部衬底BS1上。电路层CIR可以包括晶体管。例如，晶体管可以包括电连接到第一像素电极PE1的第一晶体管、电连接到第二像素电极PE2的第二晶体管以及电连接到第三像素电极PE3的第三晶体管。

第一像素电极PE1、第二像素电极PE2和第三像素电极PE3可以设置在电路层CIR上。在实施方式中，第一像素电极PE1、第二像素电极PE2和第三像素电极PE3可以被称为阳极电极。

像素限定层PDL可以设置在电路层CIR上。像素限定层PDL可以限定暴露第一像素电极PE1的一部分的第一像素开口PXG、暴露第二像素电极PE2的一部分的第二像素开口PXR以及暴露第三像素电极PE3的一部分的第三像素开口PXB。像素限定层PDL可以包括有机材料。

第一发光层EL1可以设置在第一像素开口PXG中，第二发光层EL2可以设置在第二像素开口PXR中，并且第三发光层EL3可以设置在第三像素开口PXB中。第一发光层EL1、第二发光层EL2和第三发光层EL3可以包括发射光的材料。例如，第一发光层EL1、第二发光层EL2和第三发光层EL3可以包括有机发光材料。在实施方式中，第一发光层EL1、第二发光层EL2和第三发光层EL3可以包括发射基本上相同波长的光的材料。例如，第一发光层EL1、第二发光层EL2和第三发光层EL3可以包括发射第三波长的光的材料。

公共电极层CE可以设置在像素限定层PDL上。公共电极层CE可以覆盖像素限定层PDL、第一发光层EL1、第二发光层EL2和第三发光层EL3。在实施方式中，公共电极层CE可以被称为阴极电极。

第一封装层EN1可以设置在公共电极层CE上。第一封装层EN1可以覆盖公共电极层CE。第一封装层EN1可以包括无机绝缘材料。

第二封装层EN2可以设置在第一封装层EN1上。第二封装层EN2可以覆盖第一封装层EN1。第二封装层EN2可以包括有机绝缘材料。

第三封装层EN3可以设置在第二封装层EN2上。第三封装层EN3可以覆盖第二封装层EN2。第三封装层EN3可以包括无机绝缘材料。

图6至图11是示出制造图3的上部结构的方法的示意图。

参考图6，分隔层PW可以形成在上部衬底BSU上。分隔层PW可以限定第一容纳开口OP1、第二容纳开口OP2、第三容纳开口OP3、第一虚设开口OP_D1、第二虚设开口OP_D2、中央虚设开口OP_DC和周边虚设开口OP_DP。分隔层PW可以限定间隔物区域SPA。

在上部衬底BSU上形成分隔层PW的方法没有限制，并且可以使用各种方法来形成分隔层PW。例如，在上部衬底BSU上完全形成预分隔层之后，可以去除预分隔层的一部分以形成第一容纳开口OP1、第二容纳开口OP2、第三容纳开口OP3、第一虚设开口OP_D1、第二虚设开口OP_D2、中央虚设开口OP_DC和周边虚设开口OP_DP。

参考图7，第一颜色转换层CCL1可以形成在第一容纳开口OP1中，并且第二颜色转换层CCL2可以形成在第二容纳开口OP2中。第一颜色转换层CCL1的形成和第二颜色转换层CCL2的形成可以单独执行，或者可以基本上同时执行。

在实施方式中，可以通过喷墨方法将包括第一颜色转换材料CC1和散射材料SC的第一墨水INK1供应到第一容纳开口OP1来形成第一颜色转换层CCL1，并且可以通过喷墨方法将包括第二颜色转换材料CC2和散射材料SC的第二墨水INK2供应到第二容纳开口OP2来形成第二颜色转换层CCL2。

由于喷墨工艺中的误差或喷射第一墨水INK1和第二墨水INK2的喷墨头的未对准，可能将第一墨水INK1供应到第一容纳开口OP1的外部，和/或可能将第二墨水INK2供应到第二容纳开口OP2的外部。供应到第一容纳开口OP1外部的第一墨水INK1可以被称为第一错误墨水，并且供应到第二容纳开口OP2外部的第二墨水INK2可以被称为第二错误墨水。在第一错误墨水和第二错误墨水残留在分隔层PW上并且形成突起的情况下，显示装置DD中可能出现显示缺陷。

在本公开中，分隔层PW可以限定第一虚设开口OP_D1、第二虚设开口OP_D2、中央虚设开口OP_DC和周边虚设开口OP_DP。因此，第一错误墨水和第二错误墨水可以容纳在第一虚设开口OP_D1、第二虚设开口OP_D2、中央虚设开口OP_DC和/或周边虚设开口OP_DP中。因此，能够防止由突起导致的显示装置DD的显示缺陷。

在本公开中，由于分隔层PW限定第一虚设开口OP_D1、第二虚设开口OP_D2、中央虚设开口OP_DC和周边虚设开口OP_DP，因此分隔层PW的上表面的面积可以相对小。因此，即使第一错误墨水和第二错误墨水滴落到分隔层PW的上表面上，突起的尺寸也可以相对小。

在本公开中，分隔层PW的上表面在间隔物区域SPA中具有等于或大于的预定或可选面积的面积，并且因此，在第一错误墨水和第二错误墨水滴落到分隔层PW的间隔物区域SPA上的情况下，突起可能形成为相对大。

为了防止这种情况，分隔层PW的间隔物区域SPA可以与第一容纳开口OP1和第二容纳开口OP2间隔开。换句话说，第一虚设开口OP_D1、第二虚设开口OP_D2、中央虚设开口OP_DC和周边虚设开口OP_DP中的至少一个可以定位在间隔物区域SPA、第一容纳开口OP1和第二容纳开口OP2之间。

在实施方式中，间隔物区域SPA可以限定为分隔层PW的与中央虚设开口OP_DC相邻的部分。周边虚设开口OP_DP可以定位在间隔物区域SPA和第一容纳开口OP1之间以及间隔物区域SPA和第二容纳开口OP2之间。

参考图8，封盖层CAP可以形成在上部衬底BSU上。封盖层CAP可以覆盖分隔层PW、第一颜色转换层CCL1和第二颜色转换层CCL2。形成封盖层CAP的方法没有限制，并且可以使用各种方法来形成封盖层CAP。

参考图9，可以将光刻胶材料PR施加在上部衬底BSU上。光刻胶材料PR可以包括散射材料SC。

在实施方式中，可以将光刻胶材料PR整体施加在上部衬底BSU上。光刻胶材料PR可以设置在第三容纳开口OP3、第一虚设开口OP_D1、第二虚设开口OP_D2、周边虚设开口OP_DP和中央虚设开口OP_DC中。

在实施方式中，施加在分隔层PW的间隔物区域SPA上的光刻胶材料PR可以形成突起。例如，在光刻胶材料PR可以包括具有相对大粘度的材料的情况下，可以通过将光刻胶材料PR整体施加在上部衬底BSU上而在分隔层PW的间隔物区域SPA上形成突起。

参考图10，在去除光刻胶材料PR的一部分以同时形成散射层SCL和间隔物SPC之后，可以形成覆盖上部结构1000的填充层3000。

例如，在光刻胶材料PR可以包括正型光刻胶材料的情况下，在将光刻胶材料PR的与第一容纳开口OP1和第二容纳开口OP2重叠的部分曝光之后，光刻胶材料PR的曝光部分可以显影。设置在第三容纳开口OP3、第一虚设开口OP_D1、第二虚设开口OP_D2、周边虚设开口OP_DP和中央虚设开口OP_DC中的光刻胶材料PR可以形成散射层SCL，并且形成在分隔层PW的间隔物区域SPA上的突起可以形成间隔物SPC。

在另一示例中，在光刻胶材料PR可以包括负型光刻胶材料的情况下，在将光刻胶材料PR的不与第一容纳开口OP1和第二容纳开口OP2重叠的部分曝光之后，光刻胶材料PR的未曝光部分可以显影。设置在第三容纳开口OP3、第一虚设开口OP_D1、第二虚设开口OP_D2、周边虚设开口OP_DP和中央虚设开口OP_DC中的光刻胶材料PR可以形成散射层SCL，并且形成在分隔层PW的间隔物区域SPA上的突起可以形成间隔物SPC。

在又一示例中，在光刻胶材料PR可以包括正型光刻胶材料的情况下，光刻胶材料PR的与第一容纳开口OP1和第二容纳开口OP2重叠的第一部分可以通过半色调掩模的透射部分暴露，光刻胶材料PR的与第三容纳开口OP3、第一虚设开口OP_D1、第二虚设开口OP_D2、周边虚设开口OP_DP和中央虚设开口OP_DC重叠的第二部分可以通过半色调掩模的半透部分暴露，并且暴露的第一部分和第二部分可以显影。

参照图11，在形成散射层SCL和间隔物SPC之后，可以形成填充层3000。形成填充层3000的方法没有限制，并且可以使用各种方法来形成填充层3000。

在实施方式中，散射层SCL可以设置在第一虚设开口OP_D1、第二虚设开口OP_D2、周边虚设开口OP_DP和中央虚设开口OP_DC中，并且因此，填充层3000可以设置于在第一虚设开口OP_D1、第二虚设开口OP_D2、周边虚设开口OP_DP和中央虚设开口OP_DC中设置的散射层SCL上。因此，覆盖上部结构1000所需的填充层3000的量可以相对减少，并且制造显示装置DD的成本可以相对减少。

以上描述是本公开的技术特征的示例，并且本公开所属领域中的技术人员将能够进行各种修改和改变。因此，以上所描述的本公开的实施方式可以单独实现或彼此组合实现。

因此，在本公开中公开的实施方式不旨在限制本公开的技术精神，而是描述本公开的技术精神，并且本公开的技术精神的范围不受这些实施方式的限制。本公开的保护范围应当由所附权利要求来解释，并且应当解释为等同范围内的所有技术精神都包括在本公开的范围内。