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一种分离装置的消泡构造

文献发布时间:2024-04-18 20:01:30


一种分离装置的消泡构造

技术领域

本发明涉及一种分离装置的消泡构造。

背景技术

利用机械设备加工金属材料等时,为了提高加工精度、延长工具的寿命及促进碎屑、金属分等的排出,采用各种研磨液、切削液、冷却剂等液体。

这些液体含有机械加工中生成的碎屑、金属风等的异物从机械设备中排出。排出的液体将通过分离并去除异物后,返回机械设备中重复利用。关于从含有异物的液体中分离并去除异物的分离装置,至今已提出了各种方案。

如特许文件1中公开了发泡抑制型液体气旋分离器。其特征在于,该液体气旋分离器包括气旋分离器本体和上室,其中,所述气旋分离器本体包括旋流室、排出口及上升流路,所述旋流室包括向重力方向内径逐渐变小的部分,将从大径部供给的分离对象液体旋转分离处比重大的物质和比重小的液体;所述排出口设置于下端,并且将已分离的所述比重大的物质排出;所述上升流路设置于上端,并且将已分离的所述比重小的液体作为旋流使其上升,所述上室设置于所述气旋分离器本体的上端,并且通过所述上升流路的所述比较小的液体流入所述上室中,所述气旋分离器本体的下端的排出口的气压P为,表压-0.5kg/cm

该气旋分离器以充分抑制分离后回收的液体产生气泡为目的。特许文献1:日本特开2008-665号

发明内容

发明所要解决的问题

根据上述特许文献1公开的气旋分离器,关于抑制液体发泡的构造,还有各种需要改善的余地。在这里,本发明的目的在于提供一种可以有效抑制液体发泡的分离装置的消泡构造。

解决技术问题的技术方案

本发明的一实施例的分离装置的消泡构造,包括气旋分离器和筒部件,

所述气旋分离器包括导入部和排出部,所述导入部沿中心轴延伸,并且包括用于导入内部含有异物的液体的导入口,所述排出部设置于下端,包括用于排出所述液体及所述异物的排出口;

所述气旋分离器用于在所述内部旋转所述液体;

所述筒部件,从所述中心轴远离的半径方向上相隔间距所述排出口,同时在所述气旋分离器的延伸方向上延伸至比所述排出口更下方的位置;

所述排出部包括与所述导入部连接的第一部件;与所述第一部件连接并且设有所述排出口的第二部件;及跨越所述第一部件到所述第二部件形成,并且朝向所述延伸方向的下方内径逐渐变小的第一内周面,

所述排出口包括第二内周面,所述第二内周面与所述第一内周面连接,并且在所述延长方向上朝向所述第一内周面的下方内径逐渐变大,

所述筒部件包括围住所述排出口的第三内周面;设置于一端,所述异物通过的开口部,

沿着所述延长方向,将所述第二内周面向所述第三内周面延伸形成的假想面,与所述第三内周面相交,

从所述排出口排出的所述液体及所述异物,通过所述开口部向下方排出。

有益效果

根据本发明,提供一种分离装置的消泡构造,可以有效抑制液体发泡。

附图说明

图1为第一实施例的分离装置的示意性立体图;

图2为第一实施例的分离装置的示意性侧面图;

图3为第一实施例的气旋分离器的示意性立体图;

图4为图2中IV部的局部放大图;

图5为第一实施例的筒部件的示意性立体图;

图6为第一实施例的筒部件的示意性俯视图;

图7为第一实施例的分离装置的比较例的示意图;

图8为第二实施例的分离装置的示意性侧面图;

图9为图8中IX部的局部放大图;

图10为第二实施例的筒部件的示意性俯视图。

具体实施方式

下面对分离装置的消泡构造的各具体实施例,结合附图进行说明。

另外,所公开的仅为一个实施例,下述各实施例中记载的内容并非限定发明。本领域技术人员容易想到的变形,均落入公开范围中。为了更明确说明,有时会将附图的各部分的尺寸、形状等变更为,与实施例不同的模式图表示。有时对于多个附图中相对应的特征用相同的标号标注,并且省略详细说明。

各实施例中公开了分离装置,该分离装置通过离心力分离并去除液体中异物。液体中含有研磨液、切削液及冷却剂等。异物中含有金属材料等的碎屑、金属粉。

(第一实施例)

图1为第一实施例的分离装置1的示意性立体图。图2为第一实施例的分离装置1的示意性侧面图。图3为第一实施例的气旋分离器10的示意性立体图。图4为图2中IV部的局部放大图。图5为第一实施例的筒部件30的示意性立体图。图6为第一实施例的筒部件30的示意性俯视图。下面各图中为了便于说明,会透明显示部件的一部分。

如图1-图2所示,分离装置1包括气旋分离器10、导入管21、排出管22、筒部件30、沉淀槽40及异物回收箱23。气旋分离器10在其内部分离并去除液体中含有的异物。气旋分离器10设置于沉淀槽40的上方。如图2所示,气旋分离器10沿中心轴CX的方向延伸。

其中,平行于中心轴CX延伸的方向定义为轴向Dx。轴向Dx的一侧定义为上或者上方,轴向Dx的另一侧定义为下或者下方。气旋分离器10的延伸方向相当于轴向Dx方向。以中心轴CX为中心,远离中心轴CX的方向定义为径向Dr,定义以中心轴CX为中心的周向θ。

如图3所示,气旋分离器10包括气旋分离器本体11、清洁箱60、气液分离管71及内壁72。气旋分离器本体11包括端部12、位于端部12相反方向的端部13。端部12相当于气旋分离器本体11的上端,端部13相当于气旋分离器10和气旋分离器本体11的下端。

气旋分离器本体11包括导入部51、与导入部51连接的排水部52。导入部51位于靠近气旋分离器本体11的上端的位置,排水部52位于靠近气旋分离器本体11的下端的位置。导入部51呈圆柱形。导入部51包括内周面511。内周面511沿轴向Dx以相同直径延伸。

排水部52位于与导入部51同轴的位置。排水部52包括与导入部51连接的圆台状第一部件53;与第一部件53连接的圆柱形第二部件54。排水部52包括内周面521(第一内周面),该内周面521由第一部件53和第二部件54的内表面形成。

内周面521在内周面511下端沿周向θ与内周面511相连接。内周面521呈圆台状,从与内周面511的连接处开始沿气旋分离器本体11的下端延伸。内周面521的内径沿气旋分离器本体11的下端方向逐渐变小。下面,由内周面511和内周面521围成的区域称为气旋分离器本体11的内部。

气旋分离器本体11包括导入口55和排出口56。导入口55向气旋分离器本体11的内部导入含有异物的液体。导入口55设置于导入部51上。导入口55沿圆柱形导入部51的切线方向开口。

导入口55上连接有导入管21。导入管21中流入含有异物的液体。导入管21是通过导入口55连通气旋分离器11的内部和气旋分离器本体11的外部。

导入管21上连接有软管。由导入管21导入的液体,沿导入部51的切线方向供给至气旋分离器11的内部。在导入部21上可以设置有压力计24。压力计24可以是压力传感器。

排出口56从气旋分离器本体11的内部向气旋分离器本体11的外部排出液体,该液体含有从液体中分离出的异物。排出口56连通气旋分离器本体11的内部和气旋分离器本体11的外部。排出部56设置于气旋分离器本体11的端部13上。

具体地,排出口56设置在下端的第二部件54的端部,并沿轴向Dx方向延伸。如图4所示,排出口56包括内周面561(第二内周面)。内周面561呈圆台状,其内径从与内周面521的连接处开始向下方逐渐变大。

清洁箱60其内部存有由气旋分离器本体11分离出异物的液体。如图3所示,清洁箱60设置于气旋分离器本体11的上端。

清洁箱60包括侧壁61、底壁62、在轴向Dx上位于底壁62相反侧的上壁63。底壁61及上壁63与侧壁61连接。下面,由侧壁61、底壁62及上壁63围成的区域称为清洁箱60的内部。

侧壁61以中心轴CX为中心的圆柱形。侧壁61沿轴向Dx以相同直径延伸。底壁62和上壁63为以中心轴CX为中心的圆形板。上壁63相对于侧壁61可装卸地设置。

底壁62分隔气旋分离器本体11的内部和清洁箱60的内部。在底壁62上设有以中心轴CX为中心的连通孔64。连通孔64连通气旋分离器本体11的内部和清洁箱60的内部。如图3所示,连通孔64呈以中心轴CX为中心的圆形。

清洁箱60还包括排出口65。排出口65将分离出异物的液体从清洁箱60的内部向清洁箱60的外部排出。排出口65设置于侧壁61上。

排出口65上连接有排出管22。排出管22排出由气旋分离器10分离出异物的液体。排出管22朝向液体回收罐(未图示)延伸,该液体回收罐留存从排出口65排出的液体。排出管22上可以连接有软管。

如图1所示,排出管22上设有阀门25。阀门25通过调整开度以此调整排出管22排出的流量。阀门25的开度调整是通过操作设置在阀门25上的手把26实现。阀门25可以是切断阀。

气液分离管71设置于清洁箱60内部,以中心轴CX为同轴设置。气液分离管71呈圆柱形。气液分离管71沿轴向Dx以相同直径延伸。

气液分离管71沿轴向Dx从连通孔64向上壁63延伸。气液分离管71的内部通过连通孔64与气旋分离器本体11的内部连接。

气液分离管71包括多个孔73。多个孔73可以设置于气液分离管71的整体。多个孔73分别沿轴向Dx及周向θ以均一间隔设置。如图3所示,显示一部分多个孔73。孔73是贯通气液分离管71的内周面和外周面的贯通孔。孔73的形状可以是圆形。

内壁72设置于清洁箱60内部,并将气液分离管71以半径方向Dr从外侧围绕,并与中心轴CX同轴设置。内壁72呈圆柱形。

内壁72沿轴向Dx从底壁62开始向上壁63延伸。内壁72包括内周面74。内周面74沿轴向Dx以相同直径延伸。内壁72将位于气旋分离器本体11上端的气液分离管71的一部分以周向θ整体围住。内壁72的内径比气液分离管71的外径要大,比侧壁61的内径要小。

在半径方向Dr上,清洁箱60的内部形成有第一留存部66和第二留存部67,该第一留存部66为气液分离管71和内壁72之间的空间,该第二留存部67为内壁72和侧壁61之间的空间。

气旋分离器10包括外罩80,该外罩80将导入部51和第一部件53以半径方向Dr在外侧围住。外罩80包括侧壁81和底壁82,该侧壁是以中心轴CX为中心的圆柱,底壁82与侧壁81连接。侧壁81沿轴向Dx以相同直径延伸。侧壁81的外径可以与侧壁61的外径大致相等,也可以比侧壁61的外径要小。

如图3-图4所示,底壁82在轴向Dx上位于与第一部件53和第二部件54的连接部57相同的位置。底壁82与中心轴CX垂直相交。底壁82可以是以中心轴CX为中心的圆形板。

下面,对筒部件30进行说明。

筒部件30为分离装置1中消泡结构的一部分。如图2-图4所示,筒部件30设置于气旋分离器11的下端。筒部件30在轴向Dx上,延伸至比排出口56更下方的位置。

筒部件30包括第一筒部件31、与第一筒部件31连接的第二筒部件32。第一筒部件31和第二筒部件32可以分别由不同部件形成,也可以一体成型。

第一筒部件31呈圆柱形。第一筒部件31包括端部33、位于端部33相反侧的端部34及内周面311(第三内周面)。筒部件30在端部33处于底壁82连接。

第一筒部件31沿轴向Dx以相同的直径形成。在沿中心轴CX的截面中,第一筒部件31的在半径方向Dr上的宽设为宽W1。宽W1相当于第一筒部件31的内径。如上所述,宽W1在轴向Dx上保持一定。如图4所示,在轴向Dx上第一筒部件31的长度比在轴向Dx上第二筒部件32的长度要长。

分离装置1的消泡构造中,第一筒部件31包围住排出口56。如图4所示,在半径方向Dr上,内周面311和第二部件54的外周面541间隔设置。内周面311与第二部件54的外周面541之间不接触,并且第一筒部件31与第二筒部件54之间沿周向θ整体形成有间隙。另一方面,第一筒部件31的内径比第二部件54的外径要大。

如图5所示,第一筒部件31上形成有连通孔35。连通孔35连通第一筒部件31的内部和外部。如图4所示,连通孔35的位置在轴向Dx上优选位于比排出口56更上方的位置。连通孔35可以形成在端部33上,并与底壁82连接。

如图5所示,连通孔35的形状为,沿周向θ上形成的长方形。连通孔35的形状可以是方形、圆形等其他形状。连通孔35的形状为沿轴向Dx延伸的长孔。连通孔35的数量可以在周向θ上形成2个以上,也可以在轴向Dx上形成2个以上。

第二筒部件32与第一筒部件31同轴设置。第二筒部件32呈圆柱形。第二筒部件32在轴向Dx上向第一筒部件31下方延伸。如图4所示,第二筒部件32的厚度比第一筒部件31的厚度要小。第二筒部件32的厚度可以比第一筒部件31的厚度要大,也可以与第一筒部件31的厚度相等。

第二筒部件32包括与端部34连接的端部36、在轴向Dx上位于端部36的相反侧的端部37及内周面321。在内周面321在端部36上与内周面311以周向θ上连接。

内周面321为圆台状,并从与内周面311的连接处向下方延伸。沿中心轴CX的截面中,第二筒部件32的半径方向Dr的宽设为宽W2。宽W2相当于第二筒部件32的内径。第二筒部件32的宽W2,在轴向Dx上越向下方逐渐变小。另一方面,第二筒部件32的宽W2向开口部38逐渐变小。

如图4所示,端部37向半径方向Dr倾斜。第二筒部件32可以是将圆台状部件的一端向半径方向Dr斜向切断而形成。

在端部37上设置有开口部38。开口部38只在第二筒部件32上形成。开口部38朝向轴向Dx的下方开口。从排出口56排出的液体及异物,通过开口部38设置在轴向Dx下方的沉淀槽40排出。

开口部38包括开口边缘381。由于端部37在半径方向Dr上倾斜,因此开口边缘381向半径方向Dr倾斜。如图6所示,在俯视图中,开口部38的面积比第一筒部件31的面积要小。看与中心轴CX垂直相交的平面称为“俯视”。在图6中,在轴向Dx上,从第一筒部件31的端部33侧看到筒部件30。

其中,开口部38的面积为,由开口边缘381围绕的区域的面积。第一筒部件31的面积为,与中心轴CX垂直相交的第一筒部件31的截面面积中,由第一筒部件31的内周面311围绕的区域的面积。

第二筒部件32的面积为,朝向轴向Dx的下方越来越小。其中,第二筒部件32的面积为,与中心轴CX垂直相交的第二筒部件32的截面面积中,由内周面321围绕的区域的面积。

下面,对沉淀槽40进行说明。

沉淀槽40留存从排出口56排出的液体及异物。如图1-图2所示,沉淀槽40包括槽本体41、传送带42、驱动机构43及阻挡版44。槽本体41在轴向Dx中设置于比排出口56更下方的位置。如图2-图4所示,气旋分离器10设置于沉淀槽40时,第二部件54及筒部件30将设置于槽本体41的内部。

槽本体41内部形成有由留存液体形成的液面。从图2以后的图中,液面用液面L4表示。排出口56离液面L4预设间隔设置。在轴向Dx上从液面L4到端部13的间距称为距离H4。作为优选例,距离H4优选为100mm以上。

槽本体41上形成有用于排出异物的搬出路411。搬出路411从槽本体41的底部412向斜上方延伸。在搬出路411的一端上形成有异物排出口413。异物排出口413在轴向Dx上比液面L4更上方的位置上设置。

槽本体41上还形成有液体排出口414。液体排出口414可以设置于远离异物排出口413的位置。液体排出口414将留存于槽本体41上的液体,从槽本体41向未图示的罐中排出。

由于液面L4上升至液体排出口414,则液体会从液体排出口414排出,因此液面L4不能高于液体排出口414的位置。液面L4可以根据轴向Dx上液体排出口414的位置进行调整。

传送带42将槽本体41的异物向异物回收箱23排出。如图2所示,传送带42是沿搬出路411从槽本体41的底部412直到异物排出口413上设置。

传送带42包括链条421、链轮422及多个刮板423。传送带42是由驱动机构43驱动。如图1所示,驱动机构43设置于槽本体41的外部。驱动机构43可以将马达作为驱动源。

多个刮板423沿链条421以预设间隔设置。堆积在槽本体41的底部412的异物,随着传送带42的驱动,通过刮板423沿搬出路411从底部412送至异物排出口413。送至异物排出口413的异物,落入异物回收箱23。

阻挡板44阻挡从筒部件30排出的异物直接流入液体排出口414。如图2所示,阻挡板44位于筒部件30和液体排出口414之间的位置。

下面,对分离装置1中含有异物的液体中分离并去除异物的工艺进行说明。

首先,气旋分离器本体11内部,通过导入管21导入含有异物的液体。液体是向导入部51的切线方向按预设流速供给。被供给的液体沿导入部51的内周面511及排水部52的内周面521旋转并向下至排出口56。

由此,在气旋分离器本体11的内部形成以中心轴CX为中心的下降旋涡。如图3所示,下降旋涡用旋涡DV表示。液体中含有的异物在气旋分离器本体11的内部根据下降旋涡的离心力进行分离。

分离的异物,聚集在排水部52的内周面521的同时,沿着排水部52的内周面521旋转下降。异物可以成淤泥同液体一起从排出口56排出。排出的异物及液体回收至沉淀槽40中。从排出口56排出的液体的流量可以为每分钟10L(10L/min)以下。

沿排水部52的内周面521下降的下降旋涡,在排出口56的附近受到向上的力转变为上升。由此,沿气旋分离器10的中心轴CX形成从排出口56至清洁箱60的上升旋涡。如图3所示,上升旋涡用箭头RV表示。

上升旋涡包括以中心轴CX为中心的柱状空气层,和形成在空气层周边的液体层。空气层沿轴向Dx,从排出口56通过连通孔64延伸至气液分离管71。液体层沿空气层的外周面,从排出口56向气液分离管71形成上升的已分离了异物的液体。

随着上升旋涡流入气液分离管71,已分离出异物的液体沿空气层从排出口56上升至气液分离管71。从位于上升旋涡的表层部分的液体层,通过气液分离管71的多个孔73向第一留存部66流入液体。流入第一留存部66的液体越过内壁72流入第二留存部67中。

从气液分离管71流入的液体,主要在第一留存部66及第二留存部67中留存一段时间。由于在气旋分离器本体11的内部中异物已从液体中分离,因此留存在清洁箱60中的液体中几乎不含异物。第二留存部67中留存的液体,从排出口65通过排出管22向液体回收罐排出。

下面,对排出口56排出的液体进行说明。

从排出口56排出的液体中含有异物。液体随着下降旋涡沿内周面561向沉淀槽40排出。内周面561由于朝下方变得越来越大,因此液体从排出口56在半径方向Dr上变宽的同时,向沉淀槽40排出。

如图4所示,在轴向Dx上端部13和液面L4之间,内周面311与假想面562相交。假想面562是从端部13向内周面311,延长内周面561的面。

在图4中,从排出口56排出的液体的流向用箭头表示。如图4所示,排出的液体的一部分在到达液面L4之前会与内周面311冲突。由于排出的液体与内周面311冲突,因此不超过第一筒部件31的面积。

内周面311和假想面562相交的位置设为位置P3。在分离装置1的消泡构造中,如端部13和液面L4之间设有位置P3一样,设定第一筒部件31的宽W1。在轴向Dx上,从位置P3开始到端部34的距离设为距离H3。距离H3优选为40mm以上。

进一步地,液体与内周面311冲突会减速。到达液面L4时的液体的流速比从排出口56排出时的液体流速要小。与内周面311冲突后的液体,沿着内周面311和内周面321流入液面L4中。

由于内周面321呈圆锥形,因此通过内周面321的液体可以流向液面L4中。液体沿着内周面321流,使得液体的流速更加变小。

在分离装置1中,如图2-图4所示,筒部件30的一部分浸在液体中。具体地,第二筒部件32的一部分浸在液体中。在轴向Dx上,第二筒部件32的浸在液体中的区域可以比未浸在液体中的区域要大。

开口部38的视角来看,开口部38浸在液体中。开口边缘381的整体浸在液体中。在轴向Dx上,液面L4形成在比端部37更上方的位置。

形成在第二筒部件32的内部的液面L4的面积与在轴向Dx上液面L4位置处的第二筒部件32的面积相等。由于在轴向Dx上液面L4的位置处的第二筒部件32的面积逐渐变小,因此排出的液体流向液面L4的流入面积也变小。

另一方面,通过在轴向Dx上液面L4的位置处的第二同步奸恶面积变小,使排出的液体和液面L4冲突的面积变小。如图4所示,形成在第二筒部件32的内部的液面L4的面积比第一筒部件31的面积要小。

如图2所示,第二筒部件32中,开口部38朝向传送带42设置。另一方面,开口部38未朝向液体排出口414。具体地,端部37倾斜设置,使得随着离液体排出口414越远,在轴向Dx上离底部412的距离越大。

由于第二筒部件32的端部37在半径方向Dr上倾斜设置,因此第二筒部件32不干涉传送带42和刮板423。端部37和传送带42的刮板423之间形成有间隙。根据传送带42的位置,相对中心轴CX的端部37的角度,可以做适当变化。

图7为第一实施例的分离装置1的比较例的示意图。如图7所示,分离装置100不具有筒部件30。如图7所示,从排出口56排出的液体,从排出口56开始变宽,流向液面L4。分离装置100中排出的液体和液面L4之间冲突的面积比在分离装置1中排出的液体与液面L4冲突的面积要大。

从排出口56排出的液体流入液面L4时容易产生气泡。例如,排出的液体流入液面L4时卷入空气使得产生气泡。排出的液体与液面L4之间冲突的面积变大,使得容易产生气泡。另外,液体的流速变大,也容易产生气泡。

由于排出的液体中含有很多异物,因此产生的气泡中附着有异物。在槽本体41中产生气泡时,不仅从液面L4到排出口56的附近产生气泡,使得排出口56也浸在气泡中。在运行分离装置时,排出口56的附近产生受上述上升旋涡的影响从排出口56到气旋分离器本体11的内部的流向。

由此,从排出口56吸入气泡,该气泡会流入清洁箱60的内部。由于气泡上附着有异物,因此从清洁箱60的内部通过排出管22向液体回收罐排出异物。

另外,还有通过将气泡从液体排出管414排出,或者气泡从槽本体41溢出的方式,向沉淀槽40的外部排出气泡地情况,或者在液面L4产生的气泡通过传送带42向异物排出口413排出气泡,会留存于异物回收箱23中的情况。由此在分离装置中的气泡的产生是降低从液体中分离异物的分离精度的原因。分离精度有时也称为过滤精度。

如上所述,本实施例的分离装置1包括筒部件30,该筒部件30包围排出口56的同时,延伸至比排出口56更下方的位置。通过筒部件30包围住排出口56,使得从排出口56排出的液体与第一筒部件31的内周面311冲突。由此,可以防止排出的液体在半径方向Dr上变宽的同时,减小排出的液体的流速。

组合气旋分离器10和沉淀槽40使用时,可以变小排出的液体和液面L4之间的冲突面积的同时,也可以将减速状态的液体流向液面L4。

通过从排出口56通过筒部件30向沉淀槽40排出液体,可以抑制液体流向液面L4时产生气泡。因此,如图7所示,分离装置1与不具有筒部件30的分离装置100进行比较,可以有效抑制液体产生气泡。分离装置1通过气旋分离器10、筒部件30及沉淀槽40,构成抑制液体产生气泡的消泡构造。即,分离装置1的消泡构造中,无需向液体中添加消泡剂,也可以抑制液体产生气泡。

另外,在第一筒部件31和第二部件54之间,在轴向θ上整体形成有间隙。另一方面,第二部件54的外周面541和第一筒部件31的内周面311之间不接触。

因此,即使在筒部件30的内部产生气泡,在分离装置1的运行中,气泡通过第二筒部件32的内周面321及第一筒部件31的内周面311,不容易从排出口56被气旋分离器本体11的内部吸入。

另外,筒部件30中,在轴向Dx的液面L4的位置处第二筒部件32的面积,比第一筒部件31的面积要小。在俯视中,开口部38的面积比第一筒部件31的面积要小。第二筒部件32的宽W2朝向开口部38逐渐变小。

通过形成在第二筒部件32内部的液面L4比第一筒部件31的面积要小,可以将排出的液体和液面L4的冲突面积变得更小。其结果,液体流向液面L4时可以更好地抑制气泡的产生。

通过设置第二筒部件32,可以将与第一筒部件31的内周面311冲突的液体的流速变小,因此可以使液体在减速的状态下流入液面L4中。其结果,液体流入液面L4时可以更好地抑制气泡的产生。

通过开口部38浸在液体中,使得在筒部件30的内部即使产生了气泡,气泡也不容易向筒部件30外部扩散。因此,通过抑制液体的气泡的产生,能从沉淀槽40向异物回收箱23排出异物,可以通过分离装置1高效地分离异物。

在第一筒部件31中设有连通孔35。通过在第一筒部件31上设有连通孔35,使得分离装置1运行时,第一筒部件31及第二筒部件32的内部的压力不容易变负压。

因此,在运行分离装置1时,不容异从排出口56吸入气泡。通过在轴向Dx上,连通孔35形成在比排出口56更上方的位置,使得连通孔35远离液面L4,即使筒部件30的外部产生气泡,该气泡也不容易通过连通孔35流入筒部件30的内部。

排出口56从液面L4以预设间隔设置。由此将排出口56离液面L4间隔一定距离以上,使得在筒部件30的内部即使产生了气泡,也可以确保排出口56和气泡之间的距离。

由此,不仅可以稳定发挥筒部件30的消泡效果,在分离装置1运行时不容易从排出口56吸入气泡。由于不容易从排出口56吸入气泡的结构,因此不容易降低分离装置1的分离精度。

第二筒部件32的开口部38浸在液体中。由此,可以在液体中将开口部38的异物向槽本体41的底部412排出,因此可以抑制在液体中异物的分散。其结果,与如图7所示的分离装置100相比,可以提升沉淀槽40中异物的排出效果及沉淀效果。

在本实施例中,提供可以更有效地抑制液体产生气泡的分离装置1的消泡构造。在上述其他说明中,也可以得出本实施例的各种有益效果。

(第二实施例)

图8为第二实施例的分离装置1的示意性侧面图。图9为图8中IX部的局部放大图。图10为第二实施例的筒部件30的示意性俯视图。在第二实施例中,筒部件30及沉淀槽40与第一实施例不同。

如图8所示,沉淀槽40包括槽本体41和阻挡板44。槽本体41上设有液体排出口414。与第一实施例不同的是,沉淀槽40中不具有传送带42及驱动机构43。

如图9所示,筒部件30包括第一筒部件31、与第一筒部件31连接的第二筒部件32。在第二实施例中第一筒部件31和第一实施例中第一筒部件31形状相同。

第二筒部件32与第一筒部件31同轴设置。第二筒部件32呈圆台状。第二筒部件32在轴向Dx上,从第一筒部件31向下方延伸。第二筒部件32具有内周面321。内周面321在周向θ上与内周面311连接。

内周面321呈圆锥形,其从内周面311的连接处向下方延伸。在半径方向Dr上第二筒部件32的宽W2,朝向开口部38越来越小。如图10所示,在俯视中,开口部38的面积比第一筒部件31的面积要小。

第二实施例中第二筒部件32的端部37与半径方向Dr平行。另一方面,第二筒部件32的端部37与中心轴CX垂直相交。沉淀槽40不具有传送带42,第二筒部件32的端部37不干涉刮板423。

如图8-图9所示,第二筒部件32的一部分浸在液体中。在轴向Dx上,第二筒部件32的浸在液体中的区域可以比未浸在液体中的区域大。

从开口部38来看,开口部38浸在液体中。开口边缘381的整体浸在液体中。在轴向Dx上,液面L4形成在比端部37更上方的位置。

形成在第二筒部件32的内部的液面L4的面积,与在轴向Dx上液面L4位置处的第二筒部件32的面积相等。将在轴向Dx的液面L4的位置处的第二筒部件32的面积变小,使得排出的液体流入液面L4的流入面积变小。

第二实施例中分离装置1的消泡构造,也可以得出与第一实施例相同的效果。在第二实施例的筒部件30,由于第二筒部件32的端部37与半径方向Dr平行,因此容易将排出的异物向槽本体41的底部412排出,也可以提高沉淀槽40中异物的排出效果及沉淀效果。

另外,在第二实施例中的筒部件30,由于端部37相对于半径方向Dr倾斜设置,因此比第一实施例的筒部件30更容易制作。其结果,第二实施例的筒部件30比第一实施例的筒部件30可以用更低的价格制作。

另外,第一筒部件31的宽W1,可以在轴向Dx上向下方逐渐变小。另外,第二筒部件32的宽W2,可以在轴向Dx上向下方单调变小,也可以在轴向Dx上宽W2具有恒定部分。第二筒部件32可以是宽W2比宽W1小的圆柱形。

另外,在轴向Dx上第一筒部件31的长度,可以比在轴向Dx上第二筒部件32的长度短,也可以与在轴向Dx上第二筒部件32的长度相等。第一筒部件31的长度及第二筒部件32的长度,在与液面L4的关系中可以做出适当变化。

另外,第一筒部件31和第二筒部件32的形状,与中心轴CX垂直相交的截面形状除了圆形以外,还可以为多边形。分离装置1的各部分可以由金属材料制成。但是,分离装置1也可以包括采用树脂等非金属材料形成的部件。

符号说明:

1、分离装置;10、气旋分离器;30、筒部件;31、第一筒部件;32、第二筒部件;38、开口部;40、沉淀槽;55、导入口;56排出口。

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