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一种铜排清洗机及其清洗工艺

文献发布时间:2024-04-18 20:00:50


一种铜排清洗机及其清洗工艺

技术领域

本发明涉及铜排技术领域,更具体地说,它涉及一种铜排清洗机及其清洗工艺。

背景技术

铜排一般是指铜母线,常见于电机绕组和高低压电器等电力领域,常见的铜排具有优秀的机械性能、导电性、导热性、抗腐蚀性和电镀性,且随着我国经济的发展,铜排的需求量不断增加,而铜排在生产完成后,需要通过清洗装置对其表面进行清洗,保障铜排后续稳定加工以及使用;

现有的铜排清洗装置多采用单工位螺旋式清洗方式,清洗的清洗效果不足易导致铜排表面残留杂质,且清洗效率较差,影响铜排的后续加工和使用。

发明内容

针对现有技术存在的不足,本发明的目的在于提供一种铜排清洗机及其清洗工艺,以解决上述技术问题。

为实现上述目的,本发明提供了如下技术方案:一种铜排清洗机,包括底座、固设于底座上的固定底板、等距且周向设置于固定底板上方的支撑柱,各支撑柱上共同连接有固定基板,固定基板上方设置有抬升基板且固定基板与抬升基板之间设置有抬升机构,抬升机构用以带动固定基板径向上下升降,抬升基板上方设置有转动基板且抬升基板与转动基板之间设置有转动机构,转动机构用以带动转动基板转动,转动基板顶部等距且周向设置有若干力臂,各力臂外端向外延伸且连接有固定架且固定架转动连接有清洗筒,底座外侧等距且周向设置有若干清洗单元以及一个上料单元。

本发明进一步设置为:升降机构包括固设于固定基板顶面中心处的丝杆升降机,丝杆升降机前部驱动连接有第一电机,丝杆升降机中心活动穿设有升降丝杆,升降丝杆顶端与抬升基板下端中心处固定连接,固定基板、固定基板、抬升基板以及转动基板同轴设置。

本发明进一步设置为:抬升基板下端以其轴心为中心等距且周向设置有若干引导柱,固定基板位于各引导柱对应处均设置有第一引导轴套,各支撑柱上共同设置有导向环座,导向环座位于各个引导柱对应处均设置有第二引导轴套,每个引导柱依次穿过对应的第一引导轴套及第二引导轴套以实现导向配合。

本发明进一步设置为:转动机构包括固设于抬升基板上方的固定座,固定座上方转动连接有齿轮盘,齿轮盘与转动基板固定连接且与转动基板同轴设置,抬升基板下端面固设有第二电机,第二电机的驱动轴延伸至抬升板下方且连接有驱动齿轮,驱动齿轮与齿轮盘啮合配合以带动齿轮盘转动。

本发明进一步设置为:固定架背离力臂的一端延伸有两个延伸臂,清洗筒转动设置于两个延伸臂之间且设置有驱动链轮,驱动链轮与外部动力源连接以带动清洗筒转动。

本发明进一步设置为:清洗单元包括支撑腿以及设置于支撑腿上方的清洗池,每个清洗池顶部均固对应设置设有两个溢流池且溢流池与清洗池相互导通,上料单元包括支撑架以及设置于支撑架上的料池。

本发明进一步设置为:各溢流池均连接有输送管且输送管另一端与外部废水箱或回水箱连接。

本发明进一步设置为:铜排清洗机的清洗工艺包括如下步骤:

S1、将待清洗的铜排零件置入清洗筒内;S2、启动第一电机并通过丝杆升降机带动抬升基板径向向上运动,以带动各清洗筒径向向上运动;S3、启动第二电机并带动驱动齿轮转动,驱动齿轮带动齿轮盘转动,带动各个清洗筒转动至所需位置;S4、启动第二电机并通过丝杆升降机带动基板径向向下运动,以带动各清洗筒再次下降,完成各清洗筒的换位,各个清洗筒经过换位操作依次换位至五个清洗池,最后换位至料池内进行上下料;S5、通过外部动力源驱动链轮转动,链轮带动清洗筒在清洗池内转动,以使得清洗筒内部的铜排零件翻转,同时对位于料池内的清洗筒进行上下料;S6、洗过程中各溢流池顶部的水体由溢流池排出,将前两个清洗工位的清洗池的溢流池通过输送管与废水箱连接以对废水进行集中处理,将后三个清洗工位的清洗池的溢流池通过输送管与回水箱连接,回水箱收集三个清洗池中的水体,而后通过管路回送至前两个清洗工位的清洗池中,以对清洁水体实现二次利用,保证对于铜排清洗效果,同时提高对于清洗水体的利用率。

综上所述,本发明具有以下有益效果:采用多工位同步清洗的方式,保证对于铜排零件的清洗效果,每个清洗筒依次经过五个清洗单元完成充分清洗,而后到达上料单元进行上下料,且上料单元内的清洗筒上下料过程中另外5个清洗筒始终保持清洗状态,以保持装置的工作连续性,提高装置的使用效率。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明的整体结构示意图;

图2为本发明的部分立体结构示意图;

图3为本发明升降机构及转动机构的结构示意图;

图4为本发明上料机构的立体结构示意图。

附图标记:1、底座;10、固定底板;11、支撑柱;12、固定基板;13、导向环座;2、抬升基板;20、丝杆升降机;21、第一电机;22、升降丝杆;23、引导柱;24、第一引导轴套;25、第二引导轴套;3、转动基板;30、固定座;31、齿轮盘;32、第二电机;33、驱动齿轮;4、力臂;40、固定架;41、清洗筒;42、延伸臂;43、驱动链轮;5、清洗单元;50、上料单元;51、支撑腿;52、清洗池;53、溢流池;54、支撑架;55、料池;6、底板;60、固定立板;61、连接座;62、翻转轴;63、轴套;64、滑轨;65、滑移凹位;7、上料架体;70、固定耳;71、提升滑轮;72、U型座;73、提升绳;74、安装架;75、配合板;76、收卷辊;77、伺服电机;78、吊环;79、拉绳;8、定位滑座;80、料仓;81、侧板;82、配合杆;83、出料口;84、仓门;9、固定板;90、配合轴;91、摆臂;92、配合座;93、连杆。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。

请参阅图1-4所示,本发明实施例的一种铜排清洗机,包括底座1、固设于底座1上的固定底板10、等距且周向设置于固定底板10上方的支撑柱11,各支撑柱11上共同连接有固定基板12,固定基板12上方设置有抬升基板2且固定基板12与抬升基板2之间设置有抬升机构,抬升机构用以带动固定基板12径向上下升降,抬升基板2上方设置有转动基板3且抬升基板2与转动基板3之间设置有转动机构,转动机构用以带动转动基板3转动,转动基板3顶部等距且周向设置有若干力臂4,各力臂4外端向外延伸且连接有固定架40且固定架40转动连接有清洗筒41,底座1外侧等距且周向设置有若干清洗单元5以及一个上料单元50。

在使用时,本发明清洗单元5设置有5个、上料单元50设置有1个,清洗单元5及上料单元50共同环绕且等距设置于底座1外侧,清洗筒41对应清洗单元5及上料单元50的数量设置有6个,工作状态下其中5个清洗筒41分别位于5个清洗单元5内,清洗单元5并对料筒内的铜排零件进行清洗,其中一个清洗筒41位于上料单元50内,构清洗筒41一侧开设有料口且料口设置有可锁定式筒门,工作人员可打开筒门并将清洗筒41内已经清洗完成的铜排倒出,而后通过加料机构将待清洗的铜排加入清洗筒41内完成上下料;

工作时,完成上料单元50内清洗筒41的上下料,此时另外5个清洗筒41位于对应的清洗单元5内并对内部的铜排零件进行清洗,每间隔一段时间,抬升机构带动抬升基板2向上抬升,而后转动机构带动转动基板3转动,而后抬升机构带动基板下降至初始位置,通过上述操作促使各个清洗单元5内的清洗筒41同步换位至顺时针侧相邻的清洗单元5内,各清洗筒41通过上述换位操作依次经过5个清洗单元5后到达上料单元50即可进行上下料操作;

本发明采用多工位同步清洗的方式,保证对于铜排零件的清洗效果,每个清洗筒41依次经过五个清洗单元5完成充分清洗,而后到达上料单元50进行上下料,且上料单元50内的清洗筒41上下料过程中另外5个清洗筒41始终保持清洗状态,以保持装置的工作连续性,提高装置的使用效率。

升降机构包括固设于固定基板12顶面中心处的丝杆升降机20,丝杆升降机20前部驱动连接有第一电机21,丝杆升降机20中心活动穿设有升降丝杆22,升降丝杆22顶端与抬升基板2下端中心处固定连接,固定基板12、固定基板12、抬升基板2以及转动基板3同轴设置。

在使用时,启动第一电机21并通过第一电机21与丝杆升降机20之间的配合带动升降丝杆22上下轴向运动,升降丝杆22带动抬升基板2上下径向运动,以带动各清洗筒41稳定上下升降。

抬升基板2下端以其轴心为中心等距且周向设置有若干引导柱23,固定基板12位于各引导柱23对应处均设置有第一引导轴套24,各支撑柱11上共同设置有导向环座,导向环座位于各个引导柱23对应处均设置有第二引导轴套25,每个引导柱23依次穿过对应的第一引导轴套24及第二引导轴套25以实现导向配合。

在使用时,升降丝杆22带动抬升基板2上下升降时,通过各引导柱23与对应的第一引导轴套24以及第二引导轴套25之间的配合保证抬升基板2的稳定升降,提高装置的使用稳定性。

转动机构包括固设于抬升基板2上方的固定座30,固定座30上方转动连接有齿轮盘31,齿轮盘31与转动基板3固定连接且与转动基板3同轴设置,抬升基板2下端面固设有第二电机32,第二电机32的驱动轴延伸至抬升板下方且连接有驱动齿轮33,驱动齿轮33与齿轮盘31啮合配合以带动齿轮盘31转动。

在使用时,升降机构带动抬升基板2抬升至预定高度后,启动第二电机32并带动驱动齿轮33转动,驱动齿轮33通过与齿轮盘31之间的啮合配合带动齿轮盘31转动,齿轮盘31转动并带动转动基板3转动,以带动各个清洗筒41的转动换位。

固定架40背离力臂4的一端延伸有两个延伸臂42,清洗筒41转动设置于两个延伸臂42之间且设置有驱动链轮43,驱动链轮43与外部动力源连接以带动清洗筒41转动;清洗单元5包括支撑腿51以及设置于支撑腿51上方的清洗池52,每个清洗池52顶部均固对应设置设有两个溢流池53且溢流池53与清洗池52相互导通,上料单元50包括支撑架54以及设置于支撑架54上的料池55;各溢流池53均连接有输送管且输送管另一端与外部废水箱或回水箱连接。

在使用时,链轮通过链条与外部动力源连接以驱动其转动,清洗筒41位于清洗池52内时持续转动以保证清洗筒41内铜排零件的充分清洗,有效提高装置的清洗效果;

其中,每个清洗池52顶部均固对应设置设有两个溢流池53,且溢流池53与清洗池52相互导通,清洗过程中各溢流池53顶部的水体由溢流池53排出,由于位于料池55顺时针侧两个清洗池52位于前两个清洗工位,清洗筒41内的杂质大多于两个工位的清洗池52中清洗脱离,因此这两个清洗池52的水体较脏,将这两个清洗池52的溢流池53通过输送管与废水箱连接以对废水进行集中处理;由于位于料池55逆时针侧的后三个清洗池52位于后三个清洗工位,由于清洗筒41内的杂质大多在前两个工位的清洗池52中清洗脱离,因此后三个清洗工位的清洗池52中水体仍具备清洗作用,因此将后三个清洗工位清洗池52的溢流池53通过输送管与回水箱连接,回水箱收集三个清洗池52中的水体,而后通过管路回送至前两个清洗工位的清洗池52中,以对清洁水体实现二次利用,保证对于铜排清洗效果,同时提高对于清洗水体的利用率;

其中,上述提及的各溢水池与废水箱或回水箱的连接管路以及回水箱与各清洗池52的连接管路,属于现有技术,在此不做过多赘述,因此图中未示出;

其中,料池55底部呈漏斗状且形成有开口,清洗筒41卸料时直接将内部铜排零件倾倒至料池55内,零件由料池55底部的开口排出并收集;

铜排清洗机的清洗工艺包括如下步骤:S1、将待清洗的铜排零件置入清洗筒内;S2、启动第一电机并通过丝杆升降机带动抬升基板径向向上运动,以带动各清洗筒径向向上运动;S3、启动第二电机并带动驱动齿轮转动,驱动齿轮带动齿轮盘转动,带动各个清洗筒转动至所需位置;S4、启动第二电机并通过丝杆升降机带动基板径向向下运动,以带动各清洗筒再次下降,完成各清洗筒的换位,各个清洗筒经过换位操作依次换位至五个清洗池,最后换位至料池内进行上下料;S5、通过外部动力源驱动链轮转动,链轮带动清洗筒在清洗池内转动,以使得清洗筒内部的铜排零件翻转,同时对位于料池内的清洗筒进行上下料;S6、洗过程中各溢流池顶部的水体由溢流池排出,将前两个清洗工位的清洗池的溢流池通过输送管与废水箱连接以对废水进行集中处理,将后三个清洗工位的清洗池的溢流池通过输送管与回水箱连接,回水箱收集三个清洗池中的水体,而后通过管路回送至前两个清洗工位的清洗池中,以对清洁水体实现二次利用,保证对于铜排清洗效果,同时提高对于清洗水体的利用率。

进一步的,铜排清洗机一侧还设置有上料机构,包括有底板6,底板6顶面对应设置有两个固定立板60,两个固定立板60之间设置有上料架体7,上料架体7底部与两侧的固定立板60转动连接且连接有翻转机构,翻转机构用以控制上料架体7转动以配合上下料,上料架体7内侧滑移设置有定位滑座8,定位滑座8连接有升降机构且内部设置有料仓80,升降机构驱动定位滑座8及料仓80升降以配合上下料;

升降机构包括固定耳70以及提升滑轮71,提升滑轮71连接有U型座72且U型座72两个竖向端与提升滑轮71轴心处固定连接,固定耳70数量为两个且对应设置于定位滑座8顶面,两个固定耳70共同连接有提升绳73且提升绳73穿过U型座72与滑轮连接配合;上料架体7内顶壁设置有安装架74,安装架74内底壁固设有配合板75且配合板75与安装架74内侧壁之间转动设置有收卷辊76,安装架74内位于配合板75背离收卷辊76的一端设置有伺服电机77,收卷辊76的转动轴贯穿延伸至配合板75另一侧且与伺服电机77的输出轴驱动连接,上料架体7内顶壁还固设有吊环78,收卷辊76上连接有拉绳79且拉绳79绕过提升滑轮71与吊环78固定连接;

翻转机构包括设置于底板6上的两个固定板9,两个固定板9之间转动设置有配合轴90,配合轴90一端贯穿其中一个固定板9且与外部动力源连接,配合轴90外侧位于上料架体7对应处固设有两个摆臂91,上料架体7位于两个摆臂91对应处固设有两个配合座92,配合座92上转动设置有连杆93且连杆93另一端与对应摆臂91转动连接;上料架体7底部两侧对应固设有两个连接座61,连接座61外端面具有翻转轴62,两个固定立板60位于翻转轴62对应处设置有轴套63,翻转轴62延伸至轴套63内且与轴套63转动连接;

上料架体7内侧壁对应设置有两个滑轨64,定位滑座8两侧开设有与两滑轨64适配的滑移凹位65;

上料架体7前侧对应设置有两个侧板81,两个侧板81之间固设有用以促使料仓80下摆的配合杆82,料仓80一侧成型有出料口83,出料口83外侧铰接有可锁定式仓门84。

该文中出现的电器元件均与外界的主控器及220V市电电连接,并且主控器可为计算机等起到控制的常规已知设备。

同时需要指出的本发明指出的术语,如:“前”、“后”、“竖直”、“水平”、等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明保护范围的限制。

以上所述仅是本发明的优选实施方式,本发明的保护范围并不仅局限于上述实施例,凡属于本发明思路下的技术方案均属于本发明的保护范围。应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明原理前提下的若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。

技术分类

06120116541335