有机发光显示装置

相关申请的交叉引用

本申请要求于2019年12月23日在韩国知识产权局提交的韩国专利申请No.10-2019-0172790的优先权，通过引用将该专利申请的公开内容结合在此。

技术领域

本发明涉及一种有机发光显示装置。

背景技术

在屏幕上实现各种信息的图像显示装置被认为是信息通信时代的核心技术。这种图像显示装置正变得更薄、更轻且更便携，同时具有更高的性能特性。

有机发光元件是使用电极之间的薄发光层的自发光元件，就轻薄而言是有利的。一般的有机发光显示装置具有像素驱动电路和有机发光元件形成在基板上的结构，从有机发光元件发射的光穿过基板或阻挡层，由此显示图像。

由于有机发光显示装置在不具有单独光源器件的情况下来实现，所以能够容易实现为柔性显示装置。在这种情况下，诸如塑料或金属箔之类的柔性材料可用作有机发光显示装置的基板。

由于当暴露于湿气时有机发光元件的性能劣化，所以显示装置的外部部分的防水设计非常重要。因此，对显示装置的外部部分应用各种防水设计。另一方面，由于美观原因，需要减小外部部分(边框)的宽度。如上所述，难以同时满足需求，但是本发明人正在持续进行对满足两种需求的研究。

发明内容

本发明要实现的目的是提供一种有机发光显示装置和应用于有机发光显示装置的边框结构。

本发明的目的不限于上述目的，所属领域技术人员通过下面的描述能够清楚理解到上面未提到的其他目的。

根据本发明的一个方面，一种有机发光显示装置包括：基板，所述基板包括有源区域和围绕所述有源区域的非有源区域；在所述有源区域中的有机发光元件；和在所述非有源区域中的导线，所述导线设置成具有垂直凹凸形状，并且用于向所述有机发光元件传输电力。

所述导线可覆盖包括至少一个凹槽的区域，在所述凹槽中无机层被挖出。

所述无机层可包括缓冲层、栅极绝缘层、层间绝缘层和保护层中的至少一个。在这种情况下，所述缓冲层可包括多重缓冲部和有源缓冲部。可从所述凹槽去除所述有源缓冲部，而不从所述凹槽去除所述多重缓冲部。

所述有机发光显示装置可进一步包括覆盖所述有机发光元件的封装层。所述封装层可包括：在所述有机发光元件上的第一无机层；在所述第一无机层上的有机层；和在所述有机层上的第二无机层。

所述有机发光显示装置可进一步包括：在所述非有源区域中的至少两个阻挡结构，所述阻挡结构用于阻挡所述封装层的有机层的流动。

所述导线可不与所述阻挡结构之中的设置在最外侧位置处的阻挡结构垂直交叠。

所述阻挡结构可包括：第一阻挡结构；比所述第一阻挡结构更远离所述有源区域的第二阻挡结构；和比所述第二阻挡结构更远离所述有源区域的第三阻挡结构。所述导线可不与所述第三阻挡结构垂直交叠。

所述第一阻挡结构可由与所述有源区域的平坦化层和堤部相同或基本相同的材料形成。所述第二阻挡结构可以是通过依次堆叠与所述有源区域的平坦化层、堤部和间隔件相同的材料形成的。所述第三阻挡结构可由与所述有源区域的平坦化层相同或基本相同的材料形成。

详细描述和附图中包括示例性实施方式的其他细节。

根据本发明的示例性实施方式，可提供一种改善对外部部分的导线的损坏的有机发光显示装置。更具体地，根据本发明的示例性实施方式，可提供一种能够防止对导线的损坏和由此带来的驱动故障且同时具有窄边框的结构。因此，可提高根据本发明示例性实施方式的有机发光显示装置的防水性能和长期可靠性。

根据本发明的效果不限于上面举例说明的内容，本申请中包括更多的各种效果。

附图说明

将从下面结合附图的详细描述更清楚地理解本发明的上述和其他的方面、特征和其他优点，其中：

图1是图解根据本发明一示例性实施方式的有机发光显示装置的平面图；

图2是图解根据本发明一示例性实施方式的有机发光显示装置的有源区域的一部分的剖面图；

图3是图解根据本发明另一示例性实施方式的有机发光显示装置的非有源区域的一部分的剖面图；

图4是图解应用于根据本发明另一示例性实施方式的有机发光显示装置的外部部分结构的剖面图；

图5是图4的部分X的放大图。

具体实施方式

本发明的优点和特点及实现这些优点和特点的方法通过参照下面与附图一起详细描述的示例性实施方式将很清楚。然而，本发明不限于在此公开的示例性实施方式，而是将以各种形式实现。仅通过示例的方式提供示例性实施方式，以便所属领域技术人员能够充分理解本发明的公开内容及本发明的范围。因此，本发明仅由所附权利要求书的范围限定。

为了描述本发明的示例性实施方式而在附图中示出的形状、尺寸、比例、角度、数量等仅仅是示例，本发明并不限于此。此外，在本发明下面的描述中，可省略对已知相关技术的详细解释，以避免不必要地使本发明的主题模糊不清。在此使用的诸如“包括”、“具有”和“包含”之类的术语一般旨在允许添加其他部件，除非这些术语与术语“仅”一起使用。即使没有明确说明，要素仍被解释为包含通常的误差范围。

当使用诸如“在……上”、“在……上方”、“在……下方”和“在……之后”之类的术语描述两部分之间的位置关系时，可在这两个部分之间设置一个或多个部分，除非这些术语与术语“紧接”或“直接”一起使用。当一元件或层设置在另一元件或层“上”时，其可直接设置在该另一元件或层上或者在它们之间可插置其他层或其他元件。

当描述任何部件“连接至”或“结合至”另一部件时，该部件可直接连接至或结合至另一部件，但当应当理解，也可在它们之间“插入”任何其他部件，或者各个部件可通过第三部件彼此“连接”、“结合”或“接合”。

尽管使用术语“第一”、“第二”等描述各种部件，但这些部件不受这些术语限制。这些术语仅仅是用于区分一个部件与其他部件。因此，在本发明的技术构思内，下面提到的第一部件可以是第二部件。

在整个申请中相似的参考标记一般表示相似的元件。

为了便于描述而显示出图中所示的每个部件的尺寸和厚度，本发明不限于图中示出的部件的尺寸和厚度。本发明各实施方式的特征可彼此部分或整体地组合或结合并且可在技术上以各种方式互锁和操作，并且这些实施方式可彼此独立实施，或者彼此结合地实施。

下文中，将参照附图详细描述根据本发明示例性实施方式的显示装置。

图1是图解根据本发明一示例性实施方式的有机发光显示装置的平面图。

参照图1，有机发光显示装置100包括至少一个有源区域A/A，并且在有源区域中设置有像素阵列。可在有源区域周围设置一个或多个非有源区域I/A。就是说，非有源区域可与有源区域的一个或多个侧表面相邻。在图1中，非有源区域围绕具有矩形形状的有源区域。然而，有源区域的形状、以及与有源区域相邻的非有源区域的形状和布置不限于图1中所示的示例。有源区域和非有源区域可以是对于其上安装有显示装置100的电子装置的设计来说适合的形式。有源区域的形状例如是五边形、六边形、圆形或椭圆形。

有源区域A/A中的每个像素可与像素电路相关。像素电路可包括一个或多个开关晶体管和一个或多个驱动晶体管。每个像素电路可电连接至信号线(栅极线、数据线等)，以与位于非有源区域中的栅极驱动器、数据驱动器等通信。

栅极驱动器可在非有源区域I/A中实现为薄膜晶体管(TFT)。这种驱动器可被称为面板内栅极(GIP)。此外，诸如数据驱动器IC之类的一些部件安装在单独的印刷电路板上，并且可通过诸如柔性印刷电路板(FPCB)、膜上芯片(COF)、载带封装(TCP)等之类的电路膜与设置在非有源区域中的连接接口(焊盘、凸块、引脚等)接合。印刷电路(COF、PCB等)可位于显示装置100的后方。

有机发光显示装置100可包括用于产生各种信号或用于驱动有源区域中的像素的各种附加元件。用于驱动像素的附加元件可包括反相器电路、多路复用器、静电放电(ESD)电路等。有机发光显示装置100还可包括与像素驱动以外的其他功能有关的附加元件。例如，有机发光显示装置100可包括用于提供触摸感测功能、用户认证功能(例如，指纹识别)、多级压力感测功能、触感反馈功能等的附加元件。上述附加元件可位于非有源区域和/或与连接接口连接的外部电路中。

根据本发明一示例性实施方式的有机发光显示装置可包括其上布置有薄膜晶体管和有机发光元件的基板101、封装层120、偏振层145等。

基板101支撑有机发光显示装置100的各种部件。基板101可由透明绝缘材料，例如，诸如玻璃、塑料等之类的绝缘材料形成。基板(阵列基板)也指包括其上形成的元件和功能层(例如，开关TFT、与开关TFT连接的驱动TFT、与驱动TFT连接的有机发光元件、保护膜等)的概念。

有机发光元件设置在基板101上。有机发光元件包括阳极、有机发光层和阴极。有机发光元件可配置为发射一种光的单个发光层结构，或者可配置为由多个发光层构成以发射白色光的结构。当有机发光元件发射白色光时，可进一步设置滤色器。有机发光元件可与有源区域对应地形成在基板101的中央部分中。

封装层120可至少部分地覆盖有机发光元件。封装层保护有机发光元件免受外部湿气或氧气的影响。

有机发光显示装置100可配置为具有多个像素，多个像素的每一个可包括多个子像素。在这种情况下，子像素是用于呈现一种颜色的最小单元。

一个子像素电路可包括多个晶体管、电容器和多条线。子像素电路可由两个晶体管和一个电容器(2T1C)构成，但不限于此，其可实现为由4T1C、7T1C、6T2C等构成的子像素电路。此外，子像素可实现为适合于顶部发光型的有机发光显示装置100。

图2是图解根据本发明一示例性实施方式的有机发光显示装置的有源区域的一部分的剖面图。

有机发光显示装置100可包括基板101、薄膜晶体管、有机发光元件和各种功能层。

基板101用于支撑和保护设置在其上的有机发光显示装置100的部件。基板101可以是由具有柔性特性的延展性材料形成的柔性基板。基板101可以是玻璃或塑料基板。在塑料基板的情况下，可使用基于聚酰亚胺或基于聚碳酸酯的材料，以具有柔性。特别是，聚酰亚胺能够应用于高温工艺并且因为是能够涂布的材料而广泛用于塑料基板。

缓冲层103是用于保护电极/引线免受从基板101或下部层流出的诸如碱性离子等之类的杂质影响的功能层。缓冲层可由硅氧化物(SiOx)、硅氮化物(SiNx)或其多层形成。缓冲层103可包括多重缓冲部(multi-buffer)和/或有源缓冲部(active buffer)。可通过交替堆叠硅氮化物(SiNx)和硅氧化物(SiOx)形成多重缓冲部，多重缓冲部可延迟渗透到基板101中的湿气和/或氧气的扩散。有源缓冲部保护晶体管的半导体层102并且用于阻挡从基板101引入的各种缺陷。有源缓冲部可由非晶硅(a-Si)等形成。

薄膜晶体管包括栅极电极104、源极电极和漏极电极108、以及半导体层102。半导体层102可由非晶硅或多晶硅形成。多晶硅具有比非晶硅更出色的迁移率，因而具有较低能耗和优异的可靠性。近来，氧化物半导体因其优异的迁移率和一致性而受到关注。半导体层102可包括：包括p型或n型杂质的源极区域、漏极区域、以及在源极区域与漏极区域之间的沟道，并且半导体层102可包括在与沟道相邻的源极区域和漏极区域之间的低浓度掺杂区域。

栅极绝缘层105是由硅氧化物(SiOx)或硅氮化物(SiNx)的单层或多层构成的绝缘膜，并且设置栅极绝缘层105以使得流过半导体层102的电流不流到栅极电极104。

栅极电极104用作基于通过栅极线从外部传输的电信号而使薄膜晶体管导通或截止的开关，栅极电极104可由作为导电金属的铜(Cu)、铝(Al)、钼(Mo)、铬(Cr)、金(Au)、钛(Ti)、镍(Ni)、钕(Nd)等或其合金的单层或多层构成。源极电极和漏极电极108连接至数据线并且使从外部传输的电信号从薄膜晶体管传送至有机发光元件。源极电极和漏极电极108可由作为金属材料的铜(Cu)、铝(Al)、钼(Mo)、铬(Cr)、金(Au)、钛(Ti)、镍(Ni)、钕(Nd)等或其合金的单层或多层构成。

为了将栅极电极104与源极电极和漏极电极108彼此绝缘，可在栅极电极104与源极电极和漏极电极108之间设置由硅氧化物(SiOx)或硅氮化物(SiNx)的单层或多层构成的层间绝缘层106。

由诸如硅氧化物(SiOx)或硅氮化物(SiNx)之类的无机绝缘膜形成的保护层107可位于薄膜晶体管上。保护层107可防止薄膜晶体管的部件之间不必要的电连接并且防止来自外部的污染或损坏。根据薄膜晶体管和有机发光元件的配置和特性，可省略保护层107。

为了便于描述，仅示出了各种薄膜晶体管之中的驱动薄膜晶体管，但是有源区域中还可包括开关薄膜晶体管、电容器等。当信号从栅极线施加至开关薄膜晶体管时，开关薄膜晶体管将来自数据线的信号传输至驱动薄膜晶体管的栅极电极。驱动薄膜晶体管利用从开关薄膜晶体管接收的信号将通过电源线传输的电流传输至阳极，并且利用传输至阳极的电流控制光发射。

平坦化层109设置在薄膜晶体管上。平坦化层109保护薄膜晶体管，缓解由薄膜晶体管导致的台阶，并且减小在薄膜晶体管、栅极线和数据线与有机发光元件之间产生的寄生电容。平坦化层109可由丙烯酸树脂、环氧树脂、酚醛树脂、聚酰胺树脂、聚酰亚胺树脂、不饱和聚酯树脂、聚苯树脂、聚苯硫醚树脂和苯并环丁烯中的一种或多种形成。

有机发光元件设置在平坦化层109上。有机发光元件包括阳极112、发光单元114和阴极116。阳极112可直接设置在平坦化层109上。阳极112是用于向发光单元114提供空穴的电极并且可通过平坦化层109中的接触孔电连接至薄膜晶体管。阳极112可由作为透明导电材料的氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)等形成。当有机发光显示装置100是向上发射光的顶部发光型时，其可进一步包括反射层，使得发射的光更顺利地沿朝向设置有阴极133的上部的方向发射。阳极112可以是由透明导电材料形成的透明导电层和反射层依次堆叠的双层结构、或者透明导电层、反射层和透明导电层依次堆叠的三层结构。反射层可由银(Ag)或包括银的合金形成。

堤部110设置在阳极112和平坦化层109上并且可实际上限定发光的区域。在阳极112上形成光刻胶之后通过光刻形成堤部110。光刻胶是指其在显影剂中的溶解度由于光的作用而变化的光敏树脂，可通过曝光和显影光刻胶来获得具体图案。

可使用作为沉积掩模的精细金属掩模(FMM)来形成有机发光元件的发光单元114。此时，为了防止由于与设置在堤部110上的沉积掩模接触而可能发生的损坏并且保持堤部110与沉积掩模之间的恒定距离，可在堤部110上设置间隔件111，间隔件111由作为透明有机材料的聚酰亚胺、光学丙烯酸(photoacryl)和苯并环丁烯(BCB)之一形成。

发光单元114设置在阳极112与阴极116之间。发光单元114用于发射光并且可包括空穴注入层(HIL)、空穴传输层(HTL)、发光层(EML)、电子传输层(ETL)和电子注入层(EIL)中至少之一，可根据有机发光显示装置100的结构或特性省略发光单元114的一些部件。

阴极116设置在发光单元114上并且用于向发光单元114提供电子。由于阴极116需要提供电子，所以其可由作为具有低功函数的导电材料的金属材料，比如镁(Mg)、银-镁(Ag:Mg)形成。在有机发光显示装置100是顶部发光型的情况下，阴极116可以是透明导电氧化物，比如氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(ITZO)、氧化铟锡锌(ITZO)、氧化锌(IZO)和氧化锡(ITO)。

可在有机发光元件上设置封装层120，封装层120用于防止由于从外部引入的湿气、氧气或杂质而导致的氧化或损坏。可通过堆叠多个无机层、异物补偿层和多个阻挡膜来形成封装层120。无机层可设置在有机发光元件的上部的整个表面上，并且有机层可由作为无机材料的硅氮化物(SiNx)和铝氧化物(AlyOz)之一形成。可在异物补偿层上堆叠和设置附加的无机层。异物补偿层设置在无机层上，并且异物补偿层可使用有机材料，比如硅碳氧化物(SiOCz)、丙烯酸、或环氧基树脂。当由于在工序期间可能产生的异物或颗粒所产生的裂纹而发生缺陷时，可通过覆盖弯曲部(curve)和异物来补偿这些缺陷。

阻挡膜可设置在封装层120上，以进一步延迟来自外部的氧气和湿气的渗透。阻挡膜配置成透光的双面胶带膜的形式，并且阻挡膜可由烯烃基、丙烯酸基和硅基绝缘材料中的任意之一构成。可选择地，可进一步使用由COP(环烯烃聚合物)、COC(环烯烃共聚物)和PC(聚碳酸酯)中的任意之一构成的阻挡膜。可在封装层120上进一步设置触摸电极(面板)、偏振膜、玻璃盖等。

图3是图解根据本发明另一示例性实施方式的有机发光显示装置的非有源区域的一部分的剖面图。

如图1中所示，非有源区域I/A可位于有源区域A/A的外部，并且其上可设置驱动电路(例如，GIP)、电源线等。尽管在非有源区域I/A中未设置像素电路和发光元件，但其中可存在基板101和有机/无机功能层103、105、107、109、120等。此外，在构造有源区域A/A时使用的材料可设置在非有源区域I/A中而用于其他用途。例如，与有源区域的TFT的栅极电极相同的金属104’、或者与源极电极/漏极电极相同的金属108’可设置在非有源区域I/A中而用于线或电极。此外，与有机发光二极管的一个电极(例如，阳极)相同的金属112’可设置在非有源区域I/A中而用于线和电极。

封装层120覆盖有机发光元件的上部。封装层可由无机层构成，无机层由玻璃、金属、铝氧化物(AlOx)或硅(Si)基材料形成，或者封装层可具有其中有机层和无机层交替堆叠的结构。无机层121-1和121-2用于阻挡湿气和氧气的渗透，有机层122用于平坦化无机层121-1和121-2的表面。

有机层122具有一定程度的流动性，并且可在施加过程中流到非有源区域的外部。因此，设置阻挡结构190-1、190-2和190-3来控制有机层122到非有源区域I/A的扩散。图3图解了设置三个阻挡结构190-1、190-2和190-3，即，三个堰部(dam)190-1、190-2和190-3，但堰部的数量可变化。此外，堰部190-1、190-2和190-3可设置成围绕有源区域A/A或者可设置在有源区域A/A的内部。堰部190-1、190-2和190-3可利用至少一种或多种材料由多层形成。例如，可使用在形成平坦化层109、堤部110和间隔件111时使用的材料制造堰部190-1、190-2和190-3。

在封装层120上，可交替设置触摸感测线154和触摸驱动线152，触摸绝缘层158插入在触摸感测线154与触摸驱动线152之间。在触摸感测线154和触摸驱动线152的交叠位置处形成互电容(Cm)。因此，互电容(Cm)通过利用提供至触摸驱动线152的触摸驱动脉冲充入电荷以及将充入的电荷放电至触摸感测线154而用作触摸传感器。

触摸驱动线152包括多个第一触摸电极和将第一触摸电极彼此电连接的第一桥接部。多个第一触摸电极沿第一方向以规则间隔彼此分隔开。多个第一触摸电极的每一个通过第一桥接部电连接至与其相邻的第一触摸电极。第一桥接部设置在与第一触摸电极相同的层上并且不需单独的接触孔就能够电连接至第一触摸电极。

触摸感测线154包括多个第二触摸电极和将多个第二触摸电极电连接的第二桥接部。多个第二触摸电极沿第二方向以规则间隔彼此分隔开。多个第二触摸电极的每一个通过第二桥接部电连接至与其相邻的第二触摸电极。第二桥接部设置在与第二触摸电极不同的层上并且能够通过接触孔电连接至第二触摸电极。

第一触摸电极、第二触摸电极、第一桥接部和第二桥接部的每一个可利用具有高耐腐蚀性和耐酸性并且具有优良导电性的导电层，比如铝(Al)、钛(Ti)、铜(Cu)或钼(Mo)形成为单层或多层结构。例如，第一触摸电极、第二触摸电极、第一桥接部和第二桥接部的每一个形成为诸如Ti/Al/Ti或Mo/Al/Mo之类的三层堆叠结构。

触摸驱动线152和触摸感测线154的每一条通过设置在非有源区域中的布线和触摸焊盘连接至触摸驱动器。因此，触摸布线将由触摸驱动器产生的触摸驱动脉冲通过触摸焊盘传输至触摸驱动线152，并且将来自触摸感测线154的触摸信号传输至触摸焊盘。

设置在非有源区域I/A中的各种电路和电极/线可由栅极金属104’和/或源极金属/漏极金属108’形成。此时，在相同工艺中使用相同或基本相同的材料形成栅极金属104’和TFT的栅极电极，并且在相同工艺中使用相同或基本相同的材料形成源极金属/漏极金属108’和TFT的源极电极/漏极电极。

例如，源极金属/漏极金属可用作电源(例如，低电平电源(VSS)、高电平电源(VDD)等)线108’。此时，电源线108’连接至金属层112’，并且有机发光元件的阴极116通过与源极金属/漏极金属108’和金属层112’的连接而被提供电力。金属层112’可与电源线108’接触并且沿平坦化层109的最外部部分的侧壁延伸，由此与平坦化层109上的阴极106接触。可在相同工艺中使用相同或基本相同的材料形成金属层112’和有机发光元件的阳极112。

发明人已经发现在如图3中所示的有机发光显示装置的最外部结构中的弱点。弱点之一是电源线108’的端部附近W中示出的湿气渗透。

电源线108’被设计为尽可能地宽，以便降低电阻并稳定地提供电力。因此，电源线108’的端部与设置在最外侧位置处的阻挡结构190-3交叠了预定程度。由于电源线108’与设置在其上的保护层107之间的粘附力不是很高，所以当设置在阻挡结构190-3外部的绝缘层158的端部收缩时，设置在下方的无机层121-1和121-2被提拉(lift)。因而，在电源线108’与设置在其上的保护层107之间产生空隙。此外，由于封装层的无机层121-1和121-2的工艺变化和荫罩(shadow)，无机层121-1和121-2不会完全覆盖电源线108’。

当湿气渗透到由于这些原因导致的空隙和/或未完全覆盖的部分中时，发生电源线108’的腐蚀。结果，线金属可被洗脱或变形，并且层间分层还可扩散，由此导致显示装置的不良驱动。

本发明的发明人认识到上述弱点和危险，发明了一种结构来防止湿气渗透和最外部部分中的导线的腐蚀。

图4是图解应用于根据本发明另一示例性实施方式的有机发光显示装置的外部结构的剖面图。图5是图4的部分X的放大图。

在图4中的部件之中，将省略对与图1至图3中的那些部件相同的部件的重复描述。根据本示例性实施方式的有机发光显示装置可包括这样一种结构，其中线宽度被调节，使得非有源区域的导线408’不设置在外边缘，并且抑制由于导线导致的电阻的增加。通过形成这样的形状(其中导线408’沿垂直方向具有凹凸部(uneveness))来提供导线的结构。作为示例，外部部分中的导线408’仅设置到位于最外侧位置的阻挡结构的内侧，使得在利用被去除了下部无机层的凹槽(凹陷区域)而具有凹凸部的同时，其表面积保持为与之前相同或相似。

根据本示例性实施方式的有机发光显示装置包括：基板401，基板401具有有源区域A/A和至少部分地围绕有源区域A/A的非有源区域I/A。有机发光显示装置包括在有源区域A/A中的有机发光元件。有机发光显示装置进一步包括设置在非有源区域I/A中的导线408’，导线408’设置成具有垂直凹凸形状，并且用于向有机发光元件传输电力。如图4和图5所示，导线408’具有沿垂直方向的凹凸形状。在一些实施方式中，导线408’的至少一些部分并不沉积在相同层上。也就是说，导线408’的一些部分可以彼此不共面。在其他实施方式中，导线408’的至少一些部分可延伸穿过除了导线408’所沉积到的层之外的其他层并与其接触。例如，导线408’的一些部分可延伸以接触基板401。

导线408’可以是向有机发光元件传输低电平电源(VSS)的电源线。导线408’可由与薄膜晶体管的源极电极或漏极电极相同或基本相同的材料(例如，Ti/Al/Ti)形成。导线408’可至少部分地覆盖包括至少一个沟槽的区域，在沟槽中无机层被挖出。或者，导线408’可至少部分地填充在无机层中的至少一个沟槽。就是说，可通过蚀刻等提供至少一个凹槽，然后在凹槽和凹槽周围的平坦部上沉积导线408’，由此获得导线408’的凹凸形状。无机层可包括缓冲层403、栅极绝缘层405、层间绝缘层406和保护层407中的至少一个。参照图5，能够看出，当制备凹槽时，缓冲层403的仅一部分被去除。例如，缓冲层403包括多重缓冲部403-1和有源缓冲部403-2，并且从凹槽去除有源缓冲部403-2，而不从凹槽去除多重缓冲部403-1，这可用作调节凹槽的深度的方式。当需要更深的凹槽时，甚至可去除多重缓冲部403-1。凹槽的深度、布置间隔、宽度等可根据导线的表面积而变化。

有机发光显示装置可进一步包括：在平坦化层409上的有机发光元件；和覆盖有机发光元件的封装层420。此时，封装层420可包括：在有机发光元件上的第一无机层421-1；在第一无机层421-1上的有机层422；和在有机层422上的第二无机层421-2。

有机发光显示装置可进一步包括在平坦化层409上的堤部410。堤部410划分(子)像素之间的边界。就是说，堤部410被开口的区域是作为发光区域的一个发光单元。堤部410还可用于形成阻挡结构。

有机发光显示装置可进一步包括在非有源区域I/A中的用于阻挡封装层420的有机层422的流动的阻挡结构490-1、490-2和490-3。可设置多个阻挡结构。例如，阻挡结构490-1、490-2和490-3可包括：最靠近有源区域的第一阻挡结构490-1；比第一阻挡结构490-1更远离有源区域的第二阻挡结构490-2；和比第二阻挡结构490-2更远离有源区域，即，更靠近基板401的端部的第三阻挡结构490-3。在这种情况下，第一阻挡结构490-1可具有相对较低的高度，并且第二阻挡结构490-2可具有相对较高的高度。第一阻挡结构490-1可由与有源区域的堤部410和间隔件411相同或基本相同的材料形成，或者包括上述材料。可通过依次堆叠与有源区域的平坦化层409、堤部410和间隔件411相同的材料形成第二阻挡结构490-2。就是说，第一阻挡结构490-1可以以两级堆叠，第二阻挡结构490-2可以以三级堆叠。第三阻挡结构490-3可由与有源区域的平坦化层409相同或基本相同的材料形成，或者包括上述材料。

导线408’不与阻挡结构之中的设置在最外侧位置处的阻挡结构垂直交叠。当如图4中所示设置三个阻挡结构时，导线408’不与第三阻挡结构490-3交叠。这是因为，如上面参照图3所述的，在导线和最外侧阻挡结构彼此交叠的区域中可发生由于破裂或分层而导致的湿气渗透。

同时，可设置金属层412’，以将通过导线408’提供的电力传输至有机发光元件。金属层412’将导线408’和有机发光元件的阴极电极416连接。此时，金属层412’可沿平坦化层409的侧表面(侧壁)延伸。金属层412’可由与有机发光元件的阳极电极相同的材料形成。金属层412’可设置有出气孔，用于排出在金属层412’下方的平坦化层中产生的气体。

当如上所述设置外部部分的导线结构时，能够抑制由于湿气渗透或破裂导致的对导线的损坏。此外，这种导线结构能够通过减少显示装置的驱动故障而提高可靠性。

尽管已参照附图详细描述了本发明的示例性实施方式，但本发明并不限于此，在不背离本发明的技术构思的情况下，本发明可以以诸多不同的形式实施。因此，提供本发明的示例性实施方式仅是为了举例说明的目的，而不旨在限制本发明的技术构思。本发明的技术构思的范围不限于此。因此，应当理解，上述示例性实施方式在所有方面仅是举例说明性的，并不限制本发明。应当基于所附的权利要求书解释本发明的保护范围，其等同范围内的所有技术构思都应解释为落入本发明的范围内。