一种传感器单晶硅刻蚀过程中的片架定位装置

技术领域

本发明属于单晶硅加工技术领域，更具体地说，特别涉及传感器单晶硅刻蚀过程中的片架定位装置。

背景技术

传感器用单晶硅在刻蚀的过程中，片架容易出现位移以及不稳定的现象，进而影响加工效果，这时就需要用到片架定位装置。

例如申请号：CN202010783901.8中涉及一种传感器单晶硅刻蚀过程中的片架定位装置，包括反应室，所述反应室顶部贯通固定设有进气管，所述进气管一端部贯通固定连接有气源室，所述反应室一侧底部贯通固定设有出气管，所述出气管一端部固定连接有真空泵，所述反应室底部固定设有驱动电机，通过设置驱动电机，驱动电机可以带动主动皮带轮旋转，主动皮带轮可以通过皮带带动从动皮带轮旋转，从动皮带轮可以通过轴杆带动凸形转盘旋转，进而可以带动片架旋转，可以增加单晶硅与等离子体的接触均度，伸缩定位杆可以对定位圆环进行支撑固定，通过旋转螺纹筒调节伸缩定位杆的长度即可，便于拆卸固定，适合不同直径的反应室使用，套筒通过固定螺栓固定在片架顶部外侧，方便拆卸安装。

基于现有技术发现，现有的单晶硅蚀刻过程中的片架定位装置在使用的时候，安装不够稳固，没有缓冲以及支撑结构，同时密封性较差，且现有的单晶硅蚀刻过程中的片架定位装置在使用的时候，片架松动之后，无法调节加紧，使用起来较为不便。

发明内容

为了解决上述技术问题，本发明提供一种传感器单晶硅刻蚀过程中的片架定位装置，以解决现有的单晶硅蚀刻过程中的片架定位装置在使用的时候，安装不够稳固，没有缓冲以及支撑结构，同时密封性较差，且现有的单晶硅蚀刻过程中的片架定位装置在使用的时候，片架松动之后，无法调节加紧，使用起来较为不便的问题。

本发明一种传感器单晶硅刻蚀过程中的片架定位装置的目的与功效，由以下具体技术手段所达成：

一种传感器单晶硅刻蚀过程中的片架定位装置，包括主体，缓冲件，密封仓，密封板，旋转架，支撑件和收集件；所述主体为环状结构，且主体的外侧为倾斜状结构；所述缓冲件为橡胶材质，且缓冲件安装在固定件的内部；所述密封板通过转轴安装在密封仓的开口内部，且密封板的限位孔内部插入安装有插杆的底部；所述旋转架为片架本体，且旋转架安装在密封仓的内部，并且旋转架的轴杆与电机的传动轴相连接；所述收集件安装在旋转架的底部外侧，且收集件的挡块底部与底件的顶端外侧相接触；

所述密封仓包括有卡槽，控制槽，插杆，所述密封仓为反应室本体，且密封仓的底部安装有电机以及真空泵，并且密封仓的前端设有开口；所述密封仓的外侧设有卡槽，且卡槽呈环状排列，并且卡槽为楔形结构；所述密封仓的内壁顶端设有控制槽，且控制槽的截面为矩形结构；所述密封仓安装在固定件的顶端内部，且密封仓的底部与缓冲件的顶端相接触，并且密封仓的卡槽内部插入安装有卡块；

所述支撑件包括有导向槽，顶件，限位件，所述支撑件为六角形结构，且支撑件的外端设有导向槽；所述导向槽的外端为矩形结构，且导向槽的内端为T形结构，并且导向槽的上下两端设有均匀排列的矩形槽；所述顶件的内端为T形结构，且顶件的外端嵌入安装有三个万向球；所述顶件的内端上下两侧设有两个T形槽，并且顶件的内端嵌入安装在导向槽的内部；所述支撑件的内部与旋转架固定连接，且支撑件外端的顶件以及万向球嵌入在控制槽的内部。

进一步的，所述主体包括有支撑杆，固定件，卡块，所述主体的顶端设有三个支撑杆，且支撑杆为圆柱形结构；所述支撑杆的顶端设有固定件，且固定件为环状结构，并且固定件的顶端设有环状排列的固定板；所述卡块为楔形结构，且卡块设在固定板的顶端内侧。

进一步的，所述缓冲件包括有内槽，内杆，所述缓冲件为环状结构，且缓冲件的外侧为齿轮状结构；所述缓冲件的内部设有内槽，且内槽为圆形结构，并且内槽的外侧设有环状排列的圆孔；所述内槽的内侧设有圆柱形结构的内杆，且内杆为橡胶材质，并且内杆呈环状排列。

进一步的，所述密封仓还包括有插杆，所述插杆为两端凸起的圆柱形结构，且插杆的底部插入安装在密封仓的开口侧边顶端。

进一步的，所述密封板包括有密封条，限位孔，所述密封板为弧形板状结构，且密封板的上下两端以及右侧设有密封条，并且密封条为橡胶材质；所述密封板的顶端右侧设有均匀排列的限位孔，且限位孔为圆柱形结构。

进一步的，所述旋转架包括有底件，移动轮，所述旋转架的内部设有轴杆，且旋转架的底部设有底件；所述底件为喇叭状结构，且底件的底部通过转轴嵌入安装有移动轮，且移动轮为环状排列。

进一步的，所述支撑件还包括有限位件，所述限位件为T形结构，且限位件的外端为楔形结构；所述限位件的内端通过弹簧安装在顶件的T形槽内部，且限位件的外端嵌入在导向槽的矩形槽内部。

进一步的，所述收集件包括有挡块，所述收集件为环状结构，且收集件的顶端设有收集槽，并且收集槽的外侧为倾斜状结构；所述收集件的内部设有挡块，且挡块呈环状排列。

与现有技术相比，本发明具有如下有益效果：

1、在本装置中，设置了密封仓，密封仓是用来作为反应室使用的，使得单晶硅在蚀刻的时候，可以在密封仓的内部加工，密封仓可以嵌入到固定件的内部，进而使密封板的底部可以与缓冲件接触，使得缓冲件可以辅助密封仓缓冲冲击力，在与缓冲件接触的同时，卡槽的内部插入安装有卡块，进而使密封仓可以与主体稳固连接，进而使密封仓可以被稳固的支撑使用，且在密封使用的时候，可以使密封板嵌入在开口位置，使得插杆可以插入到不同位置的限位孔的内部，使密封板可以处于不同密封程度，进而使密封效果更好，卡槽起到了使卡块嵌入的作用，使得主体可以密封仓固定连接，控制槽起到了嵌入顶件外端以及万向球的作用，使顶件可以被导向移动，进而将旋转架支撑定位，插杆则是用来插入到不同位置的限位孔内部的，进而使密封板可以处于适当的位置密封固定，进而使密封仓使用的时候，密封效果更好；

2、在本装置中，设置了支撑件，支撑件是用来安装在旋转架外侧的，进而使顶件以及万向球可以嵌入到控制槽的内部移动使用，使得旋转架旋转的时候，可以使顶件一直支撑旋转架，进而使旋转架可以定位使用，使旋转架在使用的时候，可以更加的稳定，若是顶件出现松动的时候，可以直接通过人力控制顶件向外移动，进而使万向球可以与控制槽的内部贴合，使得限位件可以接收弹簧动力向外移动，进而使限位件可以插入到导向槽顶端的矩形槽内部限位，进而使旋转架可以被一直支撑使用，导向槽是用来嵌入安装是用来嵌入安装顶件内端的，使顶件可以导向移动使用，顶件上下两端的矩形槽则是用来插入安装限位件外端的，使限位件可以限位固定，顶件起到了向外移动支撑的作用，使得顶件的外端以及万向球可以嵌入到控制槽的内部移动，进而将旋转架稳固的支撑，限位件则是起到了接收弹簧动力向外移动的作用，使限位件可以插入到矩形槽的内部限位固定，使顶件出现松动之后，可以调节加紧。

附图说明

图1是本发明的立体结构示意图。

图2是本发明的仰视结构示意图。

图3是本发明的分解立体结构示意图。

图4是本发明的分解仰视结构示意图。

图5是本发明的缓冲件局部截面立体结构示意图。

图6是本发明的密封仓及局部放大结构示意图。

图7是本发明的旋转架分解及局部放大结构示意图。

图8是本发明的旋转架分解仰视结构示意图。

图中，部件名称与附图编号的对应关系为：

1、主体；101、支撑杆；102、固定件；103、卡块；2、缓冲件；201、内槽；202、内杆；3、密封仓；301、卡槽；302、控制槽；303、插杆；4、密封板；401、密封条；402、限位孔；5、旋转架；501、底件；502、移动轮；6、支撑件；601、导向槽；602、顶件；603、限位件；7、收集件；701、挡块。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本发明的实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本发明，但不能用来限制本发明的范围。

如附图1至附图8所示：

本发明提供一种传感器单晶硅刻蚀过程中的片架定位装置，包括主体1，缓冲件2，密封仓3，密封板4，旋转架5，支撑件6和收集件7；主体1为环状结构，且主体1的外侧为倾斜状结构；缓冲件2为橡胶材质，且缓冲件2安装在固定件102的内部；密封板4通过转轴安装在密封仓3的开口内部，且密封板4的限位孔402内部插入安装有插杆303的底部；旋转架5为片架本体，且旋转架5安装在密封仓3的内部，并且旋转架5的轴杆与电机的传动轴相连接；收集件7安装在旋转架5的底部外侧，且收集件7的挡块701底部与底件501的顶端外侧相接触；

密封仓3包括有卡槽301，控制槽302，插杆303，密封仓3为反应室本体，且密封仓3的底部安装有电机以及真空泵，并且密封仓3的前端设有开口；密封仓3的外侧设有卡槽301，且卡槽301呈环状排列，并且卡槽301为楔形结构；密封仓3的内壁顶端设有控制槽302，且控制槽302的截面为矩形结构；密封仓3安装在固定件102的顶端内部，且密封仓3的底部与缓冲件2的顶端相接触，并且密封仓3的卡槽301内部插入安装有卡块103，密封仓3是用来作为反应室使用的，使得单晶硅在蚀刻的时候，可以在密封仓3的内部加工，密封仓3可以嵌入到固定件102的内部，进而使密封板4的底部可以与缓冲件2接触，使得缓冲件2可以辅助密封仓3缓冲冲击力，在与缓冲件2接触的同时，卡槽301的内部插入安装有卡块103，进而使密封仓3可以与主体1稳固连接，进而使密封仓3可以被稳固的支撑使用，且在密封使用的时候，可以使密封板4嵌入在开口位置，使得插杆303可以插入到不同位置的限位孔402的内部，使密封板4可以处于不同密封程度，进而使密封效果更好，卡槽301起到了使卡块103嵌入的作用，使得主体1可以密封仓3固定连接，控制槽302起到了嵌入顶件602外端以及万向球的作用，使顶件602可以被导向移动，进而将旋转架5支撑定位；

支撑件6包括有导向槽601，顶件602，限位件603，支撑件6为六角形结构，且支撑件6的外端设有导向槽601；导向槽601的外端为矩形结构，且导向槽601的内端为T形结构，并且导向槽601的上下两端设有均匀排列的矩形槽；顶件602的内端为T形结构，且顶件602的外端嵌入安装有三个万向球；顶件602的内端上下两侧设有两个T形槽，并且顶件602的内端嵌入安装在导向槽601的内部；支撑件6的内部与旋转架5固定连接，且支撑件6外端的顶件602以及万向球嵌入在控制槽302的内部，支撑件6是用来安装在旋转架5外侧的，进而使顶件602以及万向球可以嵌入到控制槽302的内部移动使用，使得旋转架5旋转的时候，可以使顶件602一直支撑旋转架5，进而使旋转架5可以定位使用，使旋转架5在使用的时候，可以更加的稳定，若是顶件602出现松动的时候，可以直接通过人力控制顶件602向外移动，进而使万向球可以与控制槽302的内部贴合，使得限位件603可以接收弹簧动力向外移动，进而使限位件603可以插入到导向槽601顶端的矩形槽内部限位，进而使旋转架5可以被一直支撑使用，导向槽601是用来嵌入安装是用来嵌入安装顶件602内端的，使顶件602可以导向移动使用，顶件602上下两端的矩形槽则是用来插入安装限位件603外端的，使限位件603可以限位固定，顶件602起到了向外移动支撑的作用，使得顶件602的外端以及万向球可以嵌入到控制槽302的内部移动，进而将旋转架5稳固的支撑。

其中，主体1包括有支撑杆101，固定件102，卡块103，主体1的顶端设有三个支撑杆101，且支撑杆101为圆柱形结构；支撑杆101的顶端设有固定件102，且固定件102为环状结构，并且固定件102的顶端设有环状排列的固定板；卡块103为楔形结构，且卡块103设在固定板的顶端内侧，主体1起到了放置在适当的位置，进而通过固定件102固定密封仓3，使密封仓3可以稳固的安装使用，支撑杆101起到了辅助支撑的作用，固定件102起到了将密封仓3限位安装的要用，卡块103则是用来插入到卡槽301内部的，使密封仓3安装之后不会出现松动。

其中，缓冲件2包括有内槽201，内杆202，缓冲件2为环状结构，且缓冲件2的外侧为齿轮状结构；缓冲件2的内部设有内槽201，且内槽201为圆形结构，并且内槽201的外侧设有环状排列的圆孔；内槽201的内侧设有圆柱形结构的内杆202，且内杆202为橡胶材质，并且内杆202呈环状排列，缓冲件2是用来安装在固定件102内部的，进而与密封仓3的底部接触，使密封仓3在使用的时候，若是产生振动，可以被缓冲件2过滤，进而减少振动。

其中，密封仓3还包括有插杆303，插杆303为两端凸起的圆柱形结构，且插杆303的底部插入安装在密封仓3的开口侧边顶端，插杆303则是用来插入到不同位置的限位孔402内部的，进而使密封板4可以处于适当的位置密封固定，进而使密封仓3使用的时候，密封效果更好。

其中，密封板4包括有密封条401，限位孔402，密封板4为弧形板状结构，且密封板4的上下两端以及右侧设有密封条401，并且密封条401为橡胶材质；密封板4的顶端右侧设有均匀排列的限位孔402，且限位孔402为圆柱形结构，密封板4起到了将密封仓3的开口密封的作用，密封条401起到了被挤压密封的作用，限位孔402则是用来使插杆303插入的，使密封板4可以关闭到不同状态的时候，可以被插杆303固定住。

其中，旋转架5包括有底件501，移动轮502，旋转架5的内部设有轴杆，且旋转架5的底部设有底件501；底件501为喇叭状结构，且底件501的底部通过转轴嵌入安装有移动轮502，且移动轮502为环状排列，旋转架5起到了作为片架使用的，底件501起到了与密封仓3底部接触的作用，进而辅助支撑，使旋转架5在旋转使用的时候，可以更加稳定，移动轮502则是起到了与密封仓3内部底端接触的作用，进而使旋转架5旋转的更加流畅。

其中，支撑件6还包括有限位件603，限位件603为T形结构，且限位件603的外端为楔形结构；限位件603的内端通过弹簧安装在顶件602的T形槽内部，且限位件603的外端嵌入在导向槽601的矩形槽内部，限位件603则是起到了接收弹簧动力向外移动的作用，使限位件603可以插入到矩形槽的内部限位固定，使顶件602出现松动之后，可以调节加紧。

其中，收集件7包括有挡块701，收集件7为环状结构，且收集件7的顶端设有收集槽，并且收集槽的外侧为倾斜状结构；收集件7的内部设有挡块701，且挡块701呈环状排列，收集件7起到了安装在密封仓3内部底端的作用，使收集件7可以与底件501接触安装，使收集件7可以将溅落的杂物或其他杂质收集起来，进而便于集中处理。

使用时：当需要使用本装置的时候，可以事先控制主体1放置在适当的位置，进而使主体1的底部可以与地面接触，然后将缓冲件2铺设在固定件102的内部，然后控制密封仓3安装，使密封仓3的底部可以嵌入到固定件102的内部固定，进而使密封仓3的底部可以与缓冲件2接触，使得本装置在运转刻蚀的时候，缓冲件2可以有效的缓冲冲击力，同时，密封仓3安装之后，卡块103自动受力插入到卡槽301的内部，进而密封仓3可以被拉住固定，然后控制收集件7安装，使收集件7可以安装在密封仓3的内部，使挡块701可以与底件501的顶端外侧接触，进而将收集件7安装使用，然后将单晶硅安装加工，然后控制密封板4关闭密封，使插杆303可以插入到不同位置的限位孔402的内部，进而使密封板4稳固的关闭密封，然后对单晶硅进行加工，在长时间使用之后，若是旋转架5出现虚位或顶件602出现虚位的时候，可以直接拉动顶件602向外移动，使限位件603可以插入到适当位置的矩形槽内部，使万向球可以重新与控制槽302的内部接触，进而使顶件602可以重新受力顶住旋转架5，使旋转架5可以重新定位使用。

本发明的实施例是为了示例和描述起见而给出的，而并不是无遗漏的或者将本发明限于所公开的形式。很多修改和变化对于本领域的普通技术人员而言是显而易见的。选择和描述实施例是为了更好说明本发明的原理和实际应用，并且使本领域的普通技术人员能够理解本发明从而设计适于特定用途的带有各种修改的各种实施例。