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一种发光反光刻字膜的制造工艺

文献发布时间:2023-06-19 19:37:02



技术领域

本发明涉及刻字膜领域,具体涉及一种发光反光刻字膜的制造工艺。

背景技术

现在市场上常用的服饰刻字膜都是pvc或pu胶膜与热熔胶层的复合品,通过雕刻成图文后粘贴在衣服上,只能起到简单装饰的作用。在白天可以看见,但在夜晚的时候,就看不见衣服的商标和图文了,失去了装饰效果。

发明内容

本发明的目的在于提供一种发光反光刻字膜的制造工艺,其不仅保留了普通装饰膜的效果,在夜晚或光线昏暗中,可以自行发光,在有平行光束照射时兼有反光,达到了白天和夜晚均有服饰装饰效果,同时为服装穿着者提供了一种安全保护,兼有安全与时尚的功效。

在本发明的一个方面,本发明提出了一种发光反光刻字膜的制造工艺。根据本发明的实施例,包括以下步骤:

(1)取PET薄膜与PE薄膜,在涂布机上进行复合,然后进行熟化,得到PET/PE复合膜;

(2)取熟化好的PET/PE复合膜,在120-180℃的大辊上进行植珠;

(3)将植好珠的复合膜进行高真空蒸镀,镀上硫化锌,得到植珠膜,植珠膜呈现透明色;

(4)取透明丙烯酸树脂加入固化剂搅拌均匀,取发光粉,加入稀释剂,充分搅拌,制成发光涂料;

(5)在植珠膜上涂布发光涂料,烘干,与热熔胶膜复合,收卷成卷状;

(6)步骤(5)得到的膜送入恒温箱熟化;

(7)取步骤(6)熟化之后的膜,用激光刻字机雕刻成各种图案后,用热转印的方法转烫到服装上,撕去表面的PET/PE复合膜,即得到了发光反光的图文。

另外,根据本发明上述实施例的一种发光反光刻字膜的制造工艺,还可以具有如下附加的技术特征:

在本发明的一些实施例中,所述步骤(1)中,熟化在熟化室中进行,熟化温度为60-100℃,熟化时间为24-96小时。

在本发明的一些实施例中,所述步骤(2)中,植株粒径为200-500目。

在本发明的一些实施例中,所述步骤(3)中,真空蒸镀的时间为0.1秒。

在本发明的一些实施例中,所述步骤(4)中,丙烯酸树脂与固化剂的的质量比为1:1-10,固化剂为异氰酸酯,发光粉相对于丙烯酸树脂的质量百分比为10%-30%,稀释剂为酯类酮类溶剂。

在本发明的一些实施例中,所述步骤(5)中,烘干时间为3-9min,烘干温度为50-120℃。

在本发明的一些实施例中,所述步骤(5)中,复合温度60-100℃,复合压力2-6kg,热熔胶膜的厚度为5-12丝。

在本发明的一些实施例中,所述步骤(6)中,熟化时间为6-24小时,熟化温度为60-80℃。

与现有技术相比,本发明的有益效果是:

本发明不仅保留了普通装饰膜的效果,在夜晚或光线昏暗中,可以自行发光,在有平行光束照射时兼有反光,达到了白天和夜晚均有服饰装饰效果,同时为服装穿着者提供了一种安全保护,兼有安全与时尚的功效。

具体实施方式

下面将对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。

一种发光反光刻字膜的制造工艺,包括以下步骤:

(1)取PET薄膜与PE薄膜,在涂布机上进行复合,然后进行熟化,得到PET/PE复合膜;

(2)取熟化好的PET/PE复合膜,在120-180℃的大辊上进行植珠;

(3)将植好珠的复合膜进行高真空蒸镀,镀上硫化锌,得到植珠膜,植珠膜呈现透明色;

(4)取透明丙烯酸树脂加入固化剂搅拌均匀,取发光粉,加入稀释剂,充分搅拌,制成发光涂料;

(5)在植珠膜上涂布发光涂料,烘干,与热熔胶膜复合,收卷成卷状;

(6)步骤(5)得到的膜送入恒温箱熟化;

(7)取步骤(6)熟化之后的膜,用激光刻字机雕刻成各种图案后,用热转印的方法转烫到服装上,撕去表面的PET/PE复合膜,即得到了发光反光的图文。

所述步骤(1)中,熟化在熟化室中进行,熟化温度为60-100℃,熟化时间为24-96小时。

所述步骤(2)中,植株粒径为200-500目。

所述步骤(3)中,真空蒸镀的时间为0.1秒。

所述步骤(4)中,丙烯酸树脂与固化剂的的质量比为1:1-10,固化剂为异氰酸酯,发光粉相对于丙烯酸树脂的质量百分比为10%-30%,稀释剂为酯类酮类溶剂。

所述步骤(5)中,烘干时间为3-9min,烘干温度为50-120℃。

所述步骤(5)中,复合温度60-100℃,复合压力2-6kg,热熔胶膜的厚度为5-12丝。

所述步骤(6)中,熟化时间为6-24小时,熟化温度为60-80℃。

以上内容仅仅是对本发明结构所作的举例和说明,所属本技术领域的技术人员对所描述的具体实施例做各种各样的修改或补充或采用类似的方式替代,只要不偏离本发明的结构或者超越本权利要求书所定义的范围,均应属于本发明的保护范围。

技术分类

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