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一种低温烧结单相锆酸铅陶瓷的制备方法

文献发布时间:2024-04-18 19:58:21


一种低温烧结单相锆酸铅陶瓷的制备方法

技术领域

本发明涉及一种低温烧结单相锆酸铅陶瓷的制备方法,属于功能陶瓷技术领域。

背景技术

锆酸铅是一类典型的反铁电材料,有着优异的反铁电性能,由于其具有较高的极化强度、低剩余极化、高功率密度等优点,使其在储能、存储、介电、制冷等领域具有良好的应用前景。随着科学技术不断地发展,当今社会对器件的性能和产量等方面的要求也越来越高,因此提升材料的制备工艺不失为一种有利于器件性能提升,不断创新和可持续发展的动力源泉。

目前,锆酸铅陶瓷的制备一般需要在1200~1300℃下进行固相烧结。高温烧结需要耗费大量能源和设备投入,不利于节能环保,且锆酸铅在高温下(800℃以上)就容易挥发,会导致陶瓷靶材的化学计量比产生偏离,使得后续薄膜的制备难度增加,同时烧结时挥发到空气中的PbO也会对环境造成污染,伤害人们的身体健康。而固相法制得的陶瓷成分均匀性差,且难以得到单相靶材,所以高温烧结方法限制了锆酸铅陶瓷在更多领域的应用。当然就有许多人尝试使用化学液相法,通过制备具有高表面能、高烧结活性的纳米级粉体来降低烧结温度,例如化学沉淀法、水热法,但烧结温度仍在900℃以上,而这些方法本身也存在着工艺条件苛刻,重复性差,不易控制反应等许多缺点。因此,在降低锆酸铅陶瓷烧结温度的基础上,同时还能保有其优异的性能,并为制备高质量薄膜打下基础,往器件方向发展,也成了亟待研究的核心问题。

本发明为了解决现有制备锆酸铅陶瓷的以上问题,提出了采用溶胶凝胶法来制备锆酸铅陶瓷。此方法不仅满足了低温烧结的要求,同时在简易的工艺条件下也能高效得到均匀性好的单相锆酸铅陶瓷。

发明内容

针对现有技术的缺陷,本发明的目的在于提供一种低温烧结单相锆酸铅陶瓷的制备方法,该方法采用属于化学液相法的溶胶凝胶法制备出的锆酸铅陶瓷,具有均匀性好,纯度高,烧结温度低(600℃左右,低于铅的挥发温度800℃),铅不会挥发,化学计量比可控等优点。因此,这样的低温烧结方法既可以有利于后续性能优异的薄膜制备,又能够有利于节约能源,降低制备成本。

本发明所述的低温烧结单相锆酸铅陶瓷的制备方法,具体包括以下步骤:

(1)凝胶制备:按化学计量比称量硝酸铅和硝酸氧锆,加入到去离子水中,再分别加入柠檬酸为螯合剂,乙二醇为分散剂,在80~95℃下加热搅拌得到乳白色溶液,随后加入氨水直至溶液澄清,持续加热搅拌得到均匀的湿胶体;

(2)干胶制备:将步骤(1)中所得湿胶体放入烘箱中进行发泡和烘干,得到干燥胶体;

(3)初烧工艺:将步骤(2)中所得的干燥胶体研磨成粉末,把粉末均匀平铺于坩埚中,进行初次烧结,得到锆酸铅前驱物粉末;

(4)粉体压片:将步骤(3)中所得的前驱物粉末放入模具中预压片,随后使用冷等静压机进行二次压片,得到靶材胚体;

(5)终烧工艺:将步骤(4)中所得的靶材胚体进行低温烧结,最终得到锆酸铅陶瓷靶材。

优选的,本发明所述步骤(1)中所使用的铅/锆摩尔比为1:1~1.1:1。

优选的,本发明所述步骤(2)中的烘箱温度为200~250℃,干燥时间为8~15h。

优选的,本发明所述步骤(3)中初次烧结温度为370℃~400℃,烧结时间为6~8h,在空气气氛下烧结。

优选的,本发明所述步骤(4)中的预压片压力值为3~10MPa,受压时间为5~20min;冷等静压机压力值为150~200MPa,受压时间为5~20min。

优选的,本发明所述步骤(5)中低温烧结温度为570~620℃,烧结时间为6~10h,在空气气氛下烧结。

本发明的有益效果是:

本发明使用了溶胶凝胶法制备锆酸铅陶瓷,与现有技术相比,大大降低了陶瓷的烧结温度,在低温下烧结就能得到单相锆酸铅陶瓷;且陶瓷粒径均匀,致密度良好,化学计量比未偏离初始值,可作为磁控溅射法、激光脉冲沉积法等薄膜生长所需靶材的优选制备方法,更易于制备出性能优异的薄膜,存在极大的潜在应用价值。同时,本发明工艺流程和所需设备简单,制备效率高,低温烧结工艺能够节约能源,使得生产成本进一步降低,有望推广到工业上进行批量生产。

附图说明

图1为实施例3陶瓷靶材的XRD图谱;

图2为实施例3陶瓷靶材的SEM图像;

图3为对比例1陶瓷靶材的XRD图谱;

图4为对比例1陶瓷靶材的SEM图像;

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本发明进行详细描述,这些实施例只是由于实例性说明的目的,而并非用于限定本发明。

实施例1

本实施例所述的低温烧结单相锆酸铅陶瓷的制备方法,具体包括以下步骤:

(1)凝胶制备:按铅/锆摩尔比为1.1:1称量硝酸铅和硝酸氧锆,加入到去离子水中,再分别加入柠檬酸为螯合剂,乙二醇为分散剂,在95℃下加热搅拌得到乳白色溶液,随后加入氨水直至溶液澄清,持续加热搅拌得到均匀的湿胶体;

(2)干胶制备:将步骤(1)中所得湿胶体放入烘箱中进行发泡和烘干,烘箱温度为250℃,干燥时间为15h,最后得到干燥胶体;

(3)初烧工艺:将步骤(2)中所得的干燥胶体研磨成粉末,把粉末均匀平铺于坩埚中,进行初次烧结,烧结温度为400℃,烧结时间为8h,在空气气氛下烧结,得到锆酸铅前驱物粉末;

(4)粉体压片:将步骤(3)中所得的前驱物粉末放入模具中预压片,压力值为10MPa,受压时间为20min,随后使用冷等静压机进行二次压片,压力值为200MPa,受压时间为20min,得到靶材胚体;

(5)终烧工艺:将步骤(4)中所得的靶材胚体进行低温烧结,烧结温度为620℃,烧结时间为10h,在空气气氛下烧结,最终得到锆酸铅陶瓷靶材。经过XRD测试,本实施例制备的锆酸铅陶瓷为单相。

实施例2

本实施例所述的低温烧结单相锆酸铅陶瓷的制备方法,具体包括以下步骤:

(1)凝胶制备:按铅/锆摩尔比为1:1称量硝酸铅和硝酸氧锆,加入到去离子水中,再分别加入柠檬酸为螯合剂,乙二醇为分散剂,在80℃下加热搅拌得到乳白色溶液,随后加入氨水直至溶液澄清,持续加热搅拌得到均匀的湿胶体;

(2)干胶制备:将步骤(1)中所得湿胶体放入烘箱中进行发泡和烘干,烘箱温度为200℃,干燥时间为8h,最后得到干燥胶体;

(3)初烧工艺:将步骤(2)中所得的干燥胶体研磨成粉末,把粉末均匀平铺于坩埚中,进行初次烧结,烧结温度为370℃,烧结时间为6h,在空气气氛下烧结,得到锆酸铅前驱物粉末;

(4)粉体压片:将步骤(3)中所得的前驱物粉末放入模具中预压片,压力值为3MPa,受压时间为5min,随后使用冷等静压机进行二次压片,压力值为150MPa,受压时间为5min,得到靶材胚体;

(5)终烧工艺:将步骤(4)中所得的靶材胚体进行低温烧结,烧结温度为570℃,烧结时间为6h,在空气气氛下烧结,最终得到锆酸铅陶瓷靶材。经过XRD测试,本实施例制备的锆酸铅陶瓷为单相。

实施例3

本实施例所述的低温烧结单相锆酸铅陶瓷的制备方法,具体包括以下步骤:

(1)凝胶制备:按铅/锆摩尔比为1:1称量硝酸铅和硝酸氧锆,加入到去离子水中,再分别加入柠檬酸为螯合剂,乙二醇为分散剂,在90℃下加热搅拌得到乳白色溶液,随后加入氨水直至溶液澄清,持续加热搅拌得到均匀的湿胶体;

(2)干胶制备:将步骤(1)中所得湿胶体放入烘箱中进行发泡和烘干,烘箱温度为200℃,干燥时间为12h,最后得到干燥胶体;

(3)初烧工艺:将步骤(2)中所得的干燥胶体研磨成粉末,把粉末均匀平铺于坩埚中,进行初次烧结,烧结温度为390℃,烧结时间为8h,在空气气氛下烧结,得到锆酸铅前驱物粉末;

(4)粉体压片:将步骤(3)中所得的前驱物粉末放入模具中预压片,压力值为5MPa,受压时间为5min,随后使用冷等静压机进行二次压片,压力值为150MPa,受压时间为5min,得到靶材胚体;

(5)终烧工艺:将步骤(4)中所得的靶材胚体进行低温烧结,烧结温度为600℃,烧结时间为8h,在空气气氛下烧结,最终得到锆酸铅陶瓷靶材。

本实施例中终烧得到的锆酸铅陶瓷靶材XRD图谱如图1所示,图中显示该陶瓷靶材为单相。

本实施例中终烧得到的锆酸铅陶瓷靶材SEM图谱如图2所示,陶瓷粒径均匀,致密度良好。

对比例1

本对比例中锆酸铅陶瓷靶材的终烧温度为650℃,其他步骤及参数与实施例3相同。

本对比例中终烧得到的锆酸铅靶材XRD图谱如图3所示,图中显示有少量杂相生成。

本对比例中终烧得到的锆酸铅陶瓷靶材SEM图谱如图4所示。

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06120116485216