一种调光膜及调光玻璃

技术领域

本发明涉及电子控光领域，特别涉及一种设置分割线的调光膜及调光玻璃。

背景技术

调光膜是一种控光装置，主要是在两层透明导电膜中间设置调光活性层，调光膜种类有悬浮粒子(SPD)调光膜、聚合物分散液晶(PDLC)调光膜、电致变色(EC)调光膜、热致变色(TC)调光膜和光致变色(PC)调光膜等。针对悬浮粒子调光膜、聚合物分散液晶调光膜、电致变色调光膜，当接通电后，调光膜中的材料的排列或状态发生改变，从而使调光膜的透光特性发生改变，如从低透光率转换为高透光率，或从高透光率转换为低透光率。这类通过电场/电流作用，能够实现开态-关态之间的快速转换的调光膜，具有主动调控光线透过率和节能的优势，可以用作航天器、高铁、汽车、建筑物等的智能窗户和车后视镜、太阳镜、显示器等。

众所周知，通过电驱动的调光膜一般由卷对卷涂布工艺生产。在实际使用中，调光膜或调光玻璃均有具体尺寸要求，且调光膜或调光玻璃需要电驱动工作，需要在调光膜上制作导电引线。对调光膜而言一个基本要求是在成品调光膜接通电源后不能存在漏电现象。如有漏电现象将严重影响调光膜的工作性能，以及产品合格率。

在实际生产中，将卷对卷涂布工艺生产的调光膜卷裁剪成一定尺寸的调光膜片，一般是通过机械刀或激光刀完成。但无论是机械刀还是激光刀裁剪后，调光膜片的四周都不可避免地存在不同程度的漏电现象。这主要是由于在裁剪过程中，调光膜片的两层透明导电层受到外力挤压作用导致二者电性导通，或者由裁剪产生的透明导电层碎片引起两层透明导电层的电性导通。

本发明通过在调光膜的至少一侧透明导电层距离本层外沿一定距离d处设置分割线，此分割线两侧的透明导电层电性不导通，以避免裁剪过程中受外力作用后或者受碎片引起的两层透明导电层的电性导通。采用本方案可明显降低调光膜工业生产中因成品漏电而造成的不合格率，提高调光膜产品的工作性能，具有良好的经济效益。

发明内容

本发明通过在调光膜的透明导电层上设置分割线，此分割线两侧的透明导电层电性不导通，主要解决目前的调光膜工业生产中产品漏电及合格率低的问题。

本发明的第一个方面，提供一种调光膜，包括：

第一透明基底，

形成于第一透明基底上的第一透明导电层，

第二透明基底，

形成于第二透明基底上的第二透明导电层，

所述第一透明导电层和第二透明导电层相对设置，以及设置在所述第一透明导电层和第二透明导电层之间的调光活性层，

其中，所述第一透明导电层和/或第二透明导电层距离本层外沿一定距离d处设置有分割线，此分割线两侧的透明导电层电性不导通。

进一步地，所述一定距离d≥2毫米，所述分割线的宽度在0.01～2毫米之间。

所述在同一透明导电层上距离本层外沿一定距离d的数值可以不相等。

进一步地，所述第一透明导电层与第二透明导电层的投影形状和尺寸基本一致时，分割线为闭合线。

所述尺寸基本一致，是指第一透明导电层与第二透明导电层的投影每处相距均≤2毫米。

进一步地，所述第一透明导电层与第二透明导电层的投影形状和尺寸不一致时，分割线为非闭合线或闭合线。

所述形状和尺寸不一致，是指第一透明导电层与第二透明导电层的投影至少有一部分相距>2毫米。

进一步地，所述非闭合线是指在第一透明导电层与第二透明导电层的投影形状和尺寸相距>2毫米处无分割线。

所述闭合线是指在第一透明导电层和/或第二透明导电层上的分割线围绕形成了一个封闭曲线。

进一步地，所述调光膜选自悬浮粒子调光膜、聚合物分散液晶调光膜、电致变色调光膜中至少一种。

进一步地，所述分割线由激光内刻蚀形成。

进一步地，所述激光内刻蚀以整张调光膜片为整体，从第一透明基底侧向第一透明导电层侧方向在第一透明导电层上刻蚀出分割线，分割线刻穿第一透明导电层；或者从第二透明基底侧向第二透明导电层侧方向在第二透明导电层上刻蚀出分割线，分割线刻穿第二透明导电层。

由于激光内刻蚀的原理，仅与透明导电层相互作用，与透明基底不作用。所以这种内刻蚀法，可以透过透明基底，在不影响透明基底的情况下对透明导电层作用设置分割线，使分割线两侧的透明导电层电性不导通。

进一步地，所述分割线只设置在调光膜的一层透明导电层上。

进一步地，所述调光膜的第一透明导电层和第二透明导电层上均设置分割线。

进一步地，所述第一透明导电层和第二透明导电层上的两组分割线投影不重合或者重合。

进一步地，所述调光膜含有制作导电引线的区域A、B。

所述区域A、B的面积大小、形状、在调光膜上的相对位置无具体要求，可以按需调整，只是区域A、B分布在不同的透明导电层上。

进一步地，在制作区域A、B的过程中该区域的相应形状的对向透明基底、对向透明导电层和调光活性层均被移除，所述被移除的对向透明导电层上如果有分割线，那分割线也被移除。

进一步地，所述分割线和所述区域A、B的制作顺序可以按需调整，即可以先做分割线，再做区域A、B，也可以先做区域A、B，再做分割线，或者先做区域A，之后做分割线，再做区域B。

本发明的第二方面，提供一种调光玻璃，包括：

第一透明玻璃；

第二透明玻璃；

以及，设置在所述第一透明玻璃和第二透明玻璃之间的如上所述的调光膜。

进一步地，所述第一透明玻璃和调光膜之间设置有第一夹胶层，和/或所述第二透明玻璃和调光膜之间设置有第二夹胶层。

进一步地，所述夹胶层材料的种类没有特殊限制，为本领域技术人员熟知的常规调光玻璃用胶膜即可，可以为EVA胶膜、TPU胶膜或PVB胶膜；也可以为功能性胶膜，如UV阻隔EVA胶膜、UV阻隔TPU胶膜或UV阻隔PVB胶膜，红外阻隔EVA胶膜、红外阻隔TPU胶膜或红外阻隔PVB胶膜；也可选带有颜色的EVA胶膜、TPU胶膜或PVB胶膜。

进一步地，所述夹胶层材料选自EVA胶膜、TPU胶膜、PVB胶膜中至少一种。

进一步地，所述第一透明玻璃和第二透明玻璃的种类没有特殊限制，为本领域技术人员熟知的常规调光玻璃用透明玻璃即可，可以为普通玻璃如无机玻璃、有机玻璃，所述有机玻璃如PC板、PMMA板等，也可以为功能性玻璃，如UV阻隔玻璃、IR阻隔玻璃、Low-E玻璃、钢化玻璃或抗菌玻璃等，也可选自灰色玻璃、茶色玻璃等带有颜色的玻璃。

进一步地，所述透明玻璃选自无机玻璃、有机玻璃中至少一种。

进一步地，制备所述调光玻璃的夹胶处理的方式没有特殊限制，为本领域调光玻璃的常规夹胶方式即可，如在层压机中夹胶、或在高压釜或夹胶箱/炉中夹胶。

进一步地，所述夹胶处理的夹胶温度80～130℃，夹胶相对压强0.1～1.2MPa，夹胶时间30～120分钟。

本发明提供的在透明导电层上设置有两侧电性不导通的分割线的调光膜，以及调光玻璃，可以适应后续产品生产过程中的任意尺寸剪裁，避免剪裁过程中外力挤压或碎片迁移造成的导电层电性导通，减少成品膜漏电现象，提高产品合格率。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍。下面描述中的附图仅仅是本发明的实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据提供的附图获得其他的附图。

图1为本发明的对比例提供的调光膜截面示意图。

图2为本发明的实施例提供的带分割线的调光膜示意图，分割线(21)在上透明导电层上。

图3为本发明的图2带分割线的调光膜在X-X方向的截面示意图，分割线(21)在上透明导电层上。

图4为本发明的实施例提供的带制作导电引线的区域A、B的调光膜示意图，上、下透明导电层均设置有分割线，且分割线投影有部分重合(区域A的上透明基底、上透明导电层和调光活性层均被移除，被移除的上透明导电层不含分割线，区域B的下透明基底、下透明导电层和调光活性层均被移除，被移除的下透明导电层不含分割线)。

图5为本发明的实施例提供的带制作导电引线的区域A、B的调光膜示意图，上、下透明导电层均设置有分割线，且分割线投影重合(区域A的上透明基底、上透明导电层和调光活性层均被移除，被移除的上透明导电层含分割线或者不含分割线，区域B的下透明基底、下透明导电层和调光活性层均被移除，被移除的下透明导电层含分割线或者不含分割线)。

图6为本发明的实施例提供的带制作导电引线的区域A、B的调光膜示意图，上、下透明导电层均设置有分割线，且分割线投影重合(区域A的上透明基底、上透明导电层和调光活性层均被移除，被移除的上透明导电层含分割线或者不含分割线，区域B的下透明基底、下透明导电层和调光活性层均被移除，被移除的下透明导电层含分割线或者不含分割线)。

图7为本发明的实施例提供的带制作导电引线的区域A、B的调光膜示意图，上、下透明导电层均设置有分割线，且分割线投影重合(区域A的上透明基底、上透明导电层和调光活性层均被移除，被移除的上透明导电层含分割线或者不含分割线，区域B的下透明基底、下透明导电层和调光活性层均被移除，被移除的下透明导电层含分割线或者不含分割线)。

图8为本发明的实施例提供的带制作导电引线的区域A、B的调光膜示意图，上透明导电层设置分割线(区域A的上透明基底、上透明导电层和调光活性层均被移除，被移除的上透明导电层含分割线或者不含分割线，区域B的下透明基底、下透明导电层和调光活性层均被移除)。

图9为本发明的实施例提供的带制作导电引线的区域A、B的调光膜示意图，上透明导电层设置分割线(区域A的上透明基底、上透明导电层和调光活性层均被移除，被移除的上透明导电层含分割线或者不含分割线，区域B的下透明基底、下透明导电层和调光活性层均被移除)。

图10为本发明的实施例提供的带制作导电引线的区域A、B的调光膜示意图，上透明导电层设置分割线(区域A的上透明基底、上透明导电层和调光活性层均被移除，被移除的上透明导电层不含分割线，区域B的下透明基底、下透明导电层和调光活性层均被移除)。

图11为本发明的实施例提供的带制作导电引线的区域A、B的调光膜示意图，上透明导电层设置分割线(区域A的上透明基底、上透明导电层和调光活性层均被移除，被移除的上透明导电层含分割线或者不含分割线，区域B的下透明基底、下透明导电层和调光活性层均被移除)。

图12为本发明的实施例提供的带制作导电引线的区域A、B的调光膜示意图，上透明导电层设置分割线(区域A的上透明基底、上透明导电层和调光活性层均被移除，被移除的上透明导电层不含分割线，区域B的下透明基底、下透明导电层和调光活性层均被移除)。

具体实施方式

术语

在本发明中，所用的下述术语具有如下所定义的含义。

调光膜：

调光膜是一种电子控光装置，主要是在两层透明导电膜中间设置控光层，当接通电场后，控光层中的材料的排列或状态发生改变，从而使装置的透光特性发生改变，如从低透光率转换为高透光率，或从高透光率转换为低透光率。

激光内刻蚀：

所述激光内刻蚀以整张调光膜片为整体，从第一透明基底侧向第一透明导电层侧方向在第一透明导电层上刻蚀出分割线，分割线刻穿第一透明导电层；或者从第二透明基底侧向第二透明导电层侧方向在第二透明导电层上刻蚀出分割线，分割线刻穿第二透明导电层。

激光内刻蚀基本原理是将高光束质量的小功率激光(一般为紫外线激光、光纤激光)聚焦在极小的光点上，在光点上形成高功率密度，并使光点位于透明导电层，使光点处的透明导电层瞬间受热，而光点外的透明基底、透明导电层并未被加热，这样光点处的透明导电层与透明基底、光点外的透明导电层间产生很大应力，由应力诱导而发生光点处的透明导电层分层剥落，形成分割线，从而使分割线两侧的透明导电层电性不导通。以激光非接触方式加工，高柔性、高速、无噪声、热影响区域小、可聚焦至激光波长级的极小光斑，透过调光膜的透明基底对透明导电层进行既定设计路线的刻蚀，获得无碳化的“冷加工”效果。本发明使用波长为355纳米，50KHz的纳秒激光脉冲对调光膜进行内刻蚀。

由于激光内刻蚀的原理，仅与透明导电层相互作用，与透明基底不作用。所以这种内刻蚀法可以透过透明基底，在不影响透明基底的情况下对透明导电层作用设置分割线，使分割线两侧的透明导电层电性不导通。

本发明中，所述上透明导电层、下透明导电层、第一透明导电层、第二透明导电层的概念只是表示两者的相对关系，并非限制条件，并非必须是上、下关系，或第一、第二关系，也可以是前、后、左、右等方位关系。

本发明中，所述上透明基底、下透明基底、第一透明基底、第二透基底的概念只是表示两者的相对关系，并非限制条件，并非必须是上、下关系，或第一、第二关系，也可以是前、后、左、右等方位关系。

图3中分割线的截面为四边形，这只是一种具体形状，并不是对本发明中所述分割线的截面形状的限制，本发明中分割线的截面形状并无特殊限制。

本发明提供一种导电层设置分割线的调光膜的技术方案，比公知技术在距离调光膜边缘一定距离设置缺口的方案具有明显的好处，本申请的激光内刻蚀的手段，并不需要清理因设置缺口而产生的调光膜碎渣，效率高。

本发明提供一种导电层设置分割线的调光膜及调光玻璃，通过激光内刻蚀引入两侧非电性导通的分割线，避免后续产品剪裁过程中，调光膜片的两层透明导电层受到外力挤压作用导致二者电性导通，或者由裁剪产生的透明导电层碎片引起两层透明导电层的电性导通造成的短路漏电现象，显著提高了产品合格率，开拓了调光膜、调光玻璃产品的市场前景。

为了更好地说明本发明，现提供以下具体实施例。

对比例1

如图1所示，本发明提供了一种悬浮粒子调光膜，包括：第一透明基底1，形成于第一透明基底1上的第一透明导电层3；第二透明基底2，形成于第二透明基底2上的第二透明导电层4；所述第一透明导电层3和第二透明导电层4相对设置，以及设置在所述第一透明导电层3和第二透明导电层4之间的悬浮粒子调光活性层5。

实施例1

使用纳秒激光脉冲在对比例1的悬浮粒子调光膜透明导电层四周边缘处刻蚀出分割线，从第一透明基底1侧向第一透明导电层3侧方向刻蚀出分割线21，分割线刻穿第一透明导电层3，如图2(俯视图)和图3(图2中X-X方向的截面图)所示。上透明基底仍然保留。分割线两侧的透明导电层电性不导通。分割线宽度为0.05毫米，分割线距离第一透明导电层边缘处5毫米。

实施例2

利用纳秒激光脉冲在对比例1的悬浮粒子调光膜上制作含有导电引线的区域A、B，如图4所示，先制作区域A、B，再制作分割线。分割线在上、下透明导电层上，分割线投影有部分重合，区域A、B各自独立不相交。区域A的上透明基底、上透明导电层和调光活性层均被移除，区域B的下透明基底、下透明导电层和调光活性层均被移除。分割线两侧的透明导电层电性不连通。分割线宽度为0.05毫米，分割线距离本层明导电层边缘处5毫米。

实施例3

利用纳秒激光脉冲在对比例1的悬浮粒子调光膜上制作含有导电引线的区域A、B，如图5所示，分割线在上、下透明导电层上，分割线投影重合，区域A、B各自独立不相交。区域A的上透明基底、上透明导电层和调光活性层均被移除，区域B的下透明基底、下透明导电层和调光活性层均被移除。分割线两侧电性不导通。分割线宽度为0.05毫米，分割线距离本层明导电层边缘处5毫米。先制作区域A、B，再制作分割线，则被移除的区域A对应的上透明导电层和被移除的区域B对应的下透明导电层不含分割线；或者先制作闭合的分割线，再制作区域A、B，则被移除的区域A对应的上透明导电层和被移除的区域B对应的下透明导电层含分割线；或者先制作不含区域A、B的分割线，再制作区域A、B，则被移除的区域A对应的上透明导电层和被移除的区域B对应的下透明导电层不含分割线。

实施例4

利用纳秒激光脉冲在对比例1的悬浮粒子调光膜上制作含有导电引线的区域A、B，如图6所示，分割线在上、下透明导电层上，分割线投影重合，区域A、B各自独立不相交。区域A的上透明基底、上透明导电层和调光活性层均被移除，区域B的下透明基底、下透明导电层和调光活性层均被移除。分割线两侧电性不导通。分割线宽度为0.01毫米，分割线距离本层明导电层边缘处8毫米。

实施例5

利用纳秒激光脉冲在对比例1的悬浮粒子调光膜上制作含有导电引线的区域A、B，如图7所示，分割线在上、下透明导电层上，分割线投影重合。区域A的上透明基底、上透明导电层和调光活性层均被移除，区域B的下透明基底、下透明导电层和调光活性层均被移除。分割线两侧电性不导通。分割线宽度为0.01毫米，分割线距离本层明导电层边缘处8毫米。

实施例6

利用纳秒激光脉冲在对比例1的悬浮粒子调光膜上制作含有导电引线的区域A、B，如图8所示，分割线在上透明导电层上，区域A、B不相交。区域A的上透明基底、上透明导电层和调光活性层均被移除，区域B的下层透明基、下透明导电层和调光活性层均被移除。分割线两侧电性不导通。分割线宽度为2毫米，分割线距离本层明导电层边缘处8毫米。

实施例7

利用纳秒激光脉冲在对比例1的悬浮粒子调光膜上制作含有导电引线的区域A、B，如图9所示，分割线在上透明导电层上。区域A的上透明基底、上透明导电层和调光活性层均被移除。区域B的下透明基底、下透明导电层和调光活性层均被移除。分割线两侧电性不导通。分割线宽度为0.5毫米，分割线距离本层明导电层边缘处3毫米。

实施例8

利用纳秒激光脉冲在对比例1的悬浮粒子调光膜上制作含有导电引线的区域A、B，如图10所示，分割线在上透明导电层上，区域A、B不相交。区域A的上透明基底、上透明导电层和调光活性层均被移除。区域B的下透明基底、下透明导电层和调光活性层均被移除。在区域A之外的上透明导电层的边缘地带制作分割线，分割线上的上透明基底仍然保存。分割线两侧电性不导通。分割线宽度为1.5毫米，分割线距离本层明导电层边缘处3毫米。

实施例9

利用纳秒激光脉冲在对比例1的悬浮粒子调光膜上制作含有导电引线的区域A、B，如图11所示，分割线在上透明导电层上。区域A的上透明基底、上透明导电层和调光活性层均被移除。区域B的下透明基底、下透明导电层和调光活性层均被移除。在区域A之外的上透明导电层的边缘地带制作分割线，分割线上的上透明基底仍然保存。分割线两侧电性不导通。分割线宽度为0.5毫米，分割线距离本层明导电层边缘处3毫米。

实施例10

利用纳秒激光脉冲在对比例1的悬浮粒子调光膜上制作含有导电引线的区域A、B，如图12所示，分割线在上透明导电层上，区域A、B不相交。区域A的上透明基底、透明导电层和调光活性层均被移除。区域B的下透明基底、下透明导电层和调光活性层均被移除。在区域A之外的上透明导电层的边缘地带制作分割线，分割线上的上透明基底仍然保存。分割线两侧电性不导通。分割线宽度为0.1毫米，分割线距离本层明导电层边缘处3毫米。

实施例11

将实施例9制备的调光膜设置在两片有机玻璃之间，调光膜和有机玻璃之间设置EVA胶膜制备的夹胶层，夹胶条件为：温度110℃，抽真空10min，逐步加压到450kPa，延时60min，得到一种调光玻璃。

实施例12

将实施例10制备的调光膜设置在在两片无机玻璃之间，调光膜和有机玻璃之间设置PVB胶膜制备的夹胶层，夹胶条件为：温度110℃，抽真空10min，逐步加压到450kPa，延时60min，得到一种调光玻璃。

相对于对比例1，实施例1～12具有设置分割线的调光膜/调光玻璃，从而得以在后续的适应性剪裁过程中和电极设置过程中避免了两层透明导电层之间或者薄膜碎片的迁移造成的电性导通，大大减少了成品调光膜短路漏电的可能性，显著提高了产品合格率，具有重要的经济优势。

以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本发明的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本发明将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。