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一种防止反应釜内水性涂料结皮的内嵌式釜体加湿装置

文献发布时间:2023-06-19 11:44:10


一种防止反应釜内水性涂料结皮的内嵌式釜体加湿装置

技术领域

本发明涉及加湿装置技术领域,尤其涉及一种防止反应釜内水性涂料结皮的内嵌式釜体加湿装置。

背景技术

反应釜的广义理解即有物理或化学反应的容器,通过对容器的结构设计与参数配置,实现工艺要求的加热、蒸发、冷却和低高速的混配功能,反应釜广泛应用于石油、化工、橡胶、农药、染料、医药和食品,用来完成硫化、硝化、氢化、烃化、聚合和缩合等工艺过程的压力容器,例如反应器、反应锅、分解锅和聚合釜等,材质一般有碳锰钢、不锈钢、锆、镍基合金和其它复合材料。

当反应釜内的水性涂料进行反应的时候,水性涂料很容易粘附在反应釜的内壁上造成结皮现象,影响反应釜的正常使用,也给工作带来了诸多不便,需要人工进行清理,费时费力,普通的加湿设备操作复杂,占位面积较大,影响水性涂料的反应工作,还达不到对反应釜进行快速高效的加湿,现在大部分为防止水性涂料釜内结皮的方法,是在水性涂料产品生产完成后,向反应釜内的水性涂料表面喷水,为喷水过程中,误差极大,无法保证表面喷水的准确性和一致性,因此,设计一种防止反应釜内水性涂料结皮的内嵌式釜体加湿装置来解决此问题。

发明内容

本发明的目的是为了解决现有技术中存在的缺点,而提出的一种防止反应釜内水性涂料结皮的内嵌式釜体加湿装置,使其便于防止对腹内造成结皮的情况,喷洒均匀,且方便对其清理、维护,从而提高效率,使得一种防止反应釜内水性涂料结皮的内嵌式釜体加湿装置实用性高。

为了实现上述目的,本发明采用了如下技术方案:

设计一种防止反应釜内水性涂料结皮的内嵌式釜体加湿装置,包括反应釜本体,所述反应釜本体的上端设有盖体,所述反应釜本体的内部竖向设有转轴,所述转轴贯穿盖体且延伸至其上端,所述转轴位于反应釜本体的内部上端设有往复丝杆,所述盖体的上端通过安装架安装有驱动电机,所述驱动电机输出轴的一端通过联轴器与转轴固定连接,所述转轴的表面两侧均通过连接块固定连接有搅拌杆,所述转轴的表面两侧均通过连接块固定连接有转杆,所述反应釜本体的内部顶壁四周均通过连接板与反应釜本体的内壁固定安装有固定轴,所述固定轴的中部固定套装有转盘,所述转盘的外侧环形部分有若干个三角齿,所述三角齿与转杆的一端相匹配,所述盖体的上端左侧安装有进料口,所述进料口的底端连接有导管,所述导管贯穿盖体、反应釜本体与连接板且延伸至其左侧,所述盖体的上端右侧设有进水箱,所述进水箱的底端连接有导水管,所述导水管贯穿盖体与反应釜本体且延伸至其内部,所述往复丝杆的上部螺纹套装有螺纹块,所述反应釜本体的内部顶壁左右均通过连接板固定安装有雾化水盘,所述螺纹块的外侧通过第一连接件环形连接有连杆,所述雾化水盘的上端环形设有若干个滑槽,所述滑槽的内侧滑接有滑块,所述滑块的上端连接有推块,所述推块的上端通过第二连接件与连杆相连接,所述推块相远离的一侧均连接有推针,所述雾化水盘的上端设有若干个与推针相匹配的储水套筒,所述推针贯穿储水套筒且延伸至其内部连接有挤压板,所述储水套筒的上端设有多个透水孔,所述雾化水盘的内侧壁与储水套筒的外侧共同设有过滤网,所述雾化水盘的外侧环形设有若干个与过滤网相对应的雾化头,所述反应釜本体的底端四周均连接有支撑脚,所述反应釜本体的底端设有出料口,所述出料口的外侧设有控制器。

优选的,两个所述搅拌杆的表面均设有若干个通孔,所述通孔为圆形直线分布。

优选的,两个所述转杆的外部均设有若干个斜向孔。

优选的,所述转盘的内侧环形等距连接有撑杆,每两个所述撑杆之间设有分离网。

优选的,所述反应釜本体的内部下侧壁设有防护套。

优选的,所述撑杆靠近反应釜本体内壁的一侧连接有刮片。

本发明提出的一种防止反应釜内水性涂料结皮的内嵌式釜体加湿装置,有益效果在于:

1、通过人员从外部控制器打开驱动电机的开关,使得带动转轴转动,从而带动搅拌杆在反应釜本体内转动,且带动转杆转动,从而与三角齿相互作用,带动转盘转动,使得将涂料从进料口中加入,经过导管对其排入到反应釜本体内,使得对其打散,使其均匀,同时带动撑杆转动,使得带动刮片转动,从而带动转盘转动,带动刮片在反应釜本体的内壁刮除结皮,掉落至釜底,便于散料与分散湿气,避免结皮,提高效率。

2、通过转轴的转动,带动往复丝杆上下运动,从而带动连杆下左右运动,从而带动推块带动滑块在滑槽内滑动,从而带动推针推动挤压板滑动,使得将水体从过滤网进入到雾化头中喷出到内壁,打开控制器从出料口中排出,便于对反应釜本体内加湿,且有规律夹持更加均匀,方便其使用。

与现有的技术相比,本发明结构合理,使其便于防止对腹内造成结皮的情况,喷洒均匀,且方便对其清理、维护,从而提高效率,使得一种防止反应釜内水性涂料结皮的内嵌式釜体加湿装置实用性高。

附图说明

图1为本发明提出的一种防止反应釜内水性涂料结皮的内嵌式釜体加湿装置正视剖视结构示意图;

图2为本发明提出的一种防止反应釜内水性涂料结皮的内嵌式釜体加湿装置俯视剖视结构示意图;

图3为本发明提出的一种防止反应釜内水性涂料结皮的内嵌式釜体加湿装置部分结构放大结构示意图;

图4为本发明提出的一种防止反应釜内水性涂料结皮的内嵌式釜体加湿装置左视剖视结构示意图;

图5为本发明提出的一种防止反应釜内水性涂料结皮的内嵌式釜体加湿装置正视结构示意图;

图6为本发明提出的一种A部分装置结构示意图;

图7为本发明提出的一种防止反应釜内水性涂料结皮的内嵌式釜体加湿装置俯视部分结构示意图;

图8为本发明提出的一种防止反应釜内水性涂料结皮的内嵌式釜体加湿装置俯视结构示意图。

图中:反应釜本体1、防护套2、搅拌杆3、通孔4、出料口5、控制器6、支撑脚7、转轴8、分离网9、刮片10、雾化头11、三角齿12、导水管13、进水箱14、连杆15、驱动电机16、推块17、进料口18、盖体19、导管20、转盘21、雾化水盘22、斜向孔23、转杆24、挤压板25、储水套筒26、透水孔27、过滤网28、滑槽29、撑杆30、固定轴31、连接板32、螺纹块33、滑块34、推针35、往复丝杆36。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。

参照图1-8,一种防止反应釜内水性涂料结皮的内嵌式釜体加湿装置,包括反应釜本体1,反应釜本体1的上端设有盖体19,反应釜本体1的内部竖向设有转轴8,转轴8贯穿盖体19且延伸至其上端,转轴8位于反应釜本体1的内部上端设有往复丝杆36,盖体19的上端通过安装架安装有驱动电机16,驱动电机16输出轴的一端通过联轴器与转轴8固定连接,转轴8的表面两侧均通过连接块固定连接有搅拌杆3,两个搅拌杆3的表面均设有若干个通孔4,通孔4为圆形直线分布,便于搅拌时的流通性,防止物料缠绕,提高效果。

转轴8的表面两侧均通过连接块固定连接有转杆24,两个转杆24的外部均设有若干个斜向孔23,便于减小转杆的阻力,提高效率。

反应釜本体1的内部顶壁四周均通过连接板32与反应釜本体1的内壁固定安装有固定轴31,固定轴31的中部固定套装有转盘21,转盘21的内侧环形等距连接有撑杆30,每两个撑杆30之间设有分离网9,方便打散湿气,方便其使用。

撑杆30靠近反应釜本体1内壁的一侧连接有刮片10,方便对其内壁残料刮除,方便使用。

反应釜本体1的内部下侧壁设有防护套2,便于避免底部残留。

转盘21的外侧环形部分有若干个三角齿12,三角齿12与转杆24的一端相匹配,盖体19的上端左侧安装有进料口18,进料口18的底端连接有导管20,导管20贯穿盖体19、反应釜本体1与连接板32且延伸至其左侧,盖体19的上端右侧设有进水箱14,进水箱14的底端连接有导水管13,导水管13贯穿盖体19与反应釜本体1且延伸至其内部,往复丝杆36的上部螺纹套装有螺纹块33,反应釜本体1的内部顶壁左右均通过连接板32固定安装有雾化水盘22,螺纹块33的外侧通过第一连接件环形连接有连杆15,雾化水盘22的上端环形设有若干个滑槽29,滑槽29的内侧滑接有滑块34,滑块34的上端连接有推块17,推块17的上端通过第二连接件与连杆15相连接,推块17相远离的一侧均连接有推针35,雾化水盘22的上端设有若干个与推针35相匹配的储水套筒26,推针35贯穿储水套筒26且延伸至其内部连接有挤压板25,储水套筒26的上端设有多个透水孔27,雾化水盘22的内侧壁与储水套筒26的外侧共同设有过滤网28,雾化水盘22的外侧环形设有若干个与过滤网28相对应的雾化头11,反应釜本体1的底端四周均连接有支撑脚7,反应釜本体1的底端设有出料口5,出料口5的外侧设有控制器6。

工作原理:本发明在使用时,通过人员从外部控制器打开驱动电机16的开关,使得带动转轴8转动,从而带动搅拌杆3在反应釜本体1内转动,且带动转杆24转动,从而与三角齿12相互作用,带动转盘21转动,使得将涂料从进料口18中加入,经过导管20对其排入到反应釜本体1内,使得对其打散,使其均匀,同时带动撑杆30转动,使得带动刮片10转动,从而带动转盘21转动,带动刮片10在反应釜本体1的内壁刮除结皮,掉落至釜底,便于散料与分散湿气,避免结皮,提高效率,通过转轴8的转动,带动往复丝杆36上下运动,从而带动连杆15下左右运动,从而带动推块17带动滑块34在滑槽29内滑动,从而带动推针35推动挤压板25滑动,使得将水体从过滤网28进入到雾化头11中喷出到内壁,打开控制器6从出料口5中排出,便于对反应釜本体1内加湿,且有规律夹持更加均匀,方便其使用。

以上所述,仅为本发明较佳的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内,根据本发明的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变,都应涵盖在本发明的保护范围之内。

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