一种显示面板的曝光图形补偿方法和装置

技术领域

本发明涉及显示面板制程技术领域，尤其涉及一种显示面板的曝光图形补偿方法和装置。

背景技术

目前的显示面板制程工艺中，在曝光工艺之后，为了提高生产效率，一般采用的是移动显影方式，在显影开始之前，显示面板表面会均匀喷上显影液，然后由承载显示面板的移动辊移动显示面板，在移动过程中进行显影。

但其存在的问题是，在移动辊移动显示面板的过程中，显示面板上的显影液由于惯性的作用，会在沿显示面板移动的方向上，部分后移，造成显示面板前端显影液变少，后端显影液变多，进而，导致显示面板的前端的显影时间短，后端的显影时间长，使得显示面板的前端和后端显影时间不一致，从而出现显影出的图案与预期显影图案不一致的情况，由此，不能满足对显示面板上显影图案的预期要求，使得产品良率下降。

发明内容

本发明提供了一种显示面板的曝光图形补偿方法和装置，以解决相关技术中的移动显影工艺形成的显影图案无法符合预期要求的问题。

根据本发明的一方面，提供了一种显示面板的曝光图形补偿方法，包括：

获取历史被曝光显示面板在移动显影工艺后的各显影图案对应的第一图案线宽；

根据各所述第一图案线宽与预设显影图案线宽之间的差值，确定待曝光显示面板在曝光工艺中各曝光图案对应的各线宽补偿值；

根据各所述线宽补偿值与预设曝光图案线宽，确定所述待曝光显示面板在曝光工艺中各曝光图案对应的各第二图案线宽；

根据第一预设关系调整曝光镜组与所述待曝光显示面板之间的第一间距，使得沿预设路径曝光时能够在所述待曝光显示面板上曝光出与各所述第二图案线宽对应的曝光图案；

其中，所述第一预设关系为所述第一间距与所述第二图案线宽之间的关系。

可选地，所述根据第一预设关系调整曝光镜组与所述待曝光显示面板之间的第一间距包括：

在前一所述第二图案线宽对应的所述第一间距下，所述待曝光显示面板位于所述曝光镜组的焦面以上时，

若当前所述第二图案线宽小于前一所述第二图案线宽时，则调整所述待曝光显示面板远离所述曝光镜组，以增大所述第一间距；

若当前所述第二图案线宽大于前一所述第二图案线宽时，则调整所述待曝光显示面板靠近所述曝光镜组，以减小所述第一间距，其中，所述待曝光显示面板位于所述曝光镜组的焦面上时，对应的所述第二图案线宽最小。

可选地，所述根据第一预设关系调整曝光镜组与所述待曝光显示面板之间的第一间距包括：

在前一所述第二图案线宽对应的所述第一间距下，所述待曝光显示面板位于所述曝光镜组的焦面以下时，

若当前所述第二图案线宽小于前一所述第二图案线宽时，则调整所述待曝光显示面板靠近所述曝光镜组，以减小所述第一间距；

若当前所述第二图案线宽大于前一所述第二图案线宽时，则调整所述待曝光显示面板远离所述曝光镜组，以增大所述第一间距；

其中，所述待曝光显示面板位于所述曝光镜组的焦面上时，对应的所述第二图案线宽最小。

可选地，所述根据第一预设关系调整曝光镜组与所述待曝光显示面板之间的第一间距包括：

在前一所述第二图案线宽对应的所述第一间距下，所述待曝光显示面板位于所述曝光镜组的焦面上时，

若当前所述第二图案线宽大于前一所述第二图案线宽时，则调整所述待曝光显示面板靠近所述曝光镜组，以减小所述第一间距，其中，所述待曝光显示面板位于所述曝光镜组的焦面上时，对应的所述第二图案线宽最小。

可选地，使得沿预设路径曝光时能够在所述待曝光显示面板上曝光出与各所述第二图案线宽对应的曝光图案包括：

基于当前所述第一间距，控制所述待曝光显示面板沿第一方向移动；

控制所述待曝光显示面板沿第二方向移动，直至位于预设曝光位置；

控制所述待曝光显示面板自所述预设曝光位置沿第三方向移动，进行曝光，形成与当前所述第一间距对应的所述第二图案线宽的曝光图案；

依次循环前述步骤，对所述待曝光显示面板进行曝光；

其中，所述第一方向、所述第二方向和所述第三方向两两垂直，所述第一方向垂直于所述待曝光显示面板所在的平面，所述第二方向为所述待曝光显示面板在移动显影工艺中的移动方向或者移动方向的反方向。

可选地，所述根据各所述线宽补偿值与所述预设曝光图案线宽，确定所述待曝光显示面板在曝光工艺中各曝光图案对应的各第二图案线宽包括：

当所述第一图案线宽大于所述预设显影图案线宽时，所述线宽补偿值为正线宽补偿值，所述第二图案线宽为所述预设曝光图案线宽与所述正线宽补偿值的差值；

当所述第一图案线宽小于所述预设显影图案线宽时，所述线宽补偿值为负线宽补偿值，所述第二图案线宽为所述预设曝光图案线宽与所述负线宽补偿值的差值；

若所述待曝光显示面板上的光刻胶为正光刻胶，当所述第一图案线宽大于所述预设显影图案线宽时，所述线宽补偿值为正线宽补偿值，所述第二图案线宽为所述预设曝光图案线宽与所述正线宽补偿值之和；

当所述第一图案线宽小于所述预设显影图案线宽时，所述线宽补偿值为负线宽补偿值，所述第二图案线宽为所述预设曝光图案线宽与所述负线宽补偿值之和。

根据本发明的第二方面，提供了一种显示面板的曝光图形补偿装置，用于实现本发明任一实施例所述的显示面板的曝光图形补偿方法，所述显示面板的曝光图形补偿装置，包括：

曝光光源，用于出射曝光光束；

掩模版，位于所述曝光光束传输的路径中，所述曝光光束经过所述掩模版形成曝光图案光束，所述掩模版包括多个相同的掩模图形；

曝光镜组，位于所述曝光图案光束传输的路径中，用于对所述曝光图案光束进行整形，形成整形曝光光束；

位移台，位于所述整形曝光光束传输的路径中，用于承载待曝光显示面板；

控制器，与所述位移台的驱动组件电连接，用于控制所述驱动组件输出驱动信号，以控制所述位移台能够在空间三轴方向上移动；

其中，所述掩模版与所述位移台位置相对固定，并能够同步移动，并在同步移动时，所述曝光光束对应覆盖所述掩模版中的一个掩模图形。

可选地，还包括：曝光光束形状约束件，包括弧形镂空部和约束件主体，位于所述曝光光源与所述掩模版之间，所述弧形镂空部用于约束所述曝光光源出射的所述曝光光束形成弧形曝光光束，所述曝光光束形状约束件与所述曝光光源位置相对固定。

可选地，所述曝光镜组包括：

第一调整镜组，位于所述曝光图案光束传输的路径上，用于调整所述曝光图案光束形成第一调整光束；

第一反射镜，位于所述第一调整光束传输的路径上，用于反射所述第一调整光束形成第一反射光束；

凹面反射镜，位于所述第一反射光束传输的路径上，用于反射所述第一反射光束形成第二反射光束；

凸面反射镜，位于所述第二反射光束传输的路径上，用于反射所述第二反射光束形成第三反射光束；其中，所述凹面反射镜还用于反射所述第三反射光束至第二反射镜形成第四反射光束；

第二反射镜，位于所述第四反射光束传输的路径上，用于反射所述第四反射光束形成第五反射光束；

第二调整镜组，位于所述第五反射光束传输的路径上，用于调整所述第五反射光束，形成所述整形曝光光束；

其中，所述第一反射镜和所述第二反射镜为一个整体棱镜。

可选地，所述第一调整镜组和所述第二调整镜组均包括能够校正色差、球差、像差、畸变中的至少一种误差参数的透镜组。

根据本发明实施例提出的显示面板的曝光图形补偿方法和装置，其中，在方法中，通过获取历史被曝光显示面板在移动显影工艺后的各显影图案对应的第一图案线宽；接着根据各第一图案线宽与预设显影图案线宽之间的差值，确定待曝光显示面板在曝光工艺中各曝光图案对应的各线宽补偿值；接着根据各线宽补偿值与预设曝光图案线宽，确定待曝光显示面板在曝光工艺中各曝光图案对应的各第二图案线宽；最后根据第一预设关系调整曝光镜组与待曝光显示面板之间的第一间距，使得沿预设路径曝光时能够在待曝光显示面板上曝光出与各第二图案线宽对应的曝光图案；其中，第一预设关系为第一间距与第二图案线宽之间的关系。从而，通过在曝光工艺中提前将曝光图案进行反补偿，进而在移动显影工艺之后可以得到预期的显影图案。

应当理解，本部分所描述的内容并非旨在标识本发明的实施例的关键或重要特征，也不用于限制本发明的范围。本发明的其它特征将通过以下的说明书而变得容易理解。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是相关技术中曝光工艺和显影工艺的过程示意图；

图2是本发明实施例提出的显示面板的曝光图形补偿方法的流程图；

图3是相关技术中显影工艺后的显影图案示意图；

图4是本发明实施例提出的显示面板的曝光图形补偿方法所用设备的结构示意图；

图5是本发明实施例提出的显示面板的曝光图形补偿装置结构示意图；

图6是本发明实施例提出的显示面板的曝光图形补偿装置中的曝光光束形状约束件结构示意图；

图7是本发明实施例提出的显示面板的曝光图形补偿装置中凹面反射镜的结构示意图。

具体实施方式

为了使本技术领域的人员更好地理解本发明方案，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分的实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都应当属于本发明保护的范围。

需要说明的是，本发明的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别类似的对象，而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换，以便这里描述的本发明的实施例能够以除了在这里图示或描述的那些以外的顺序实施。此外，术语“包括”和“具有”以及他们的任何变形，意图在于覆盖不排他的包含，例如，包含了一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备不必限于清楚地列出的那些步骤或单元，而是可包括没有清楚地列出的或对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或单元。

图1是相关技术中曝光工艺和显影工艺的过程示意图。如图1所示，在步骤11中，进行曝光工艺，在显示面板上曝光出相同线宽的曝光图案1，然后在步骤12中，将步骤11后的显示面板置于移动辊3上，进行显影液2喷洒，在步骤13中形成显影液层4，在移动辊3向前移动的过程中，显影液层4由于惯性作用，前端的显影液向后端移动，造成步骤14中的显示面板的前端的显影液较少，后端的显影液较多，从而使得显示面板整体的显影时间不一致。由此，在显影结束后的步骤15中，曝光图案不均匀。

进而，本发明提出了一种显示面板的曝光图形补偿方法，以解决上述问题。

图2是本发明实施例提出的显示面板的曝光图形补偿方法的流程图。如图2所示，该显示面板的曝光图形补偿方法包括：

S101，获取历史被曝光显示面板在移动显影工艺后的各显影图案对应的第一图案线宽。

需要说明的是，历史被曝光显示面板中具有多个显影图案，可以通过图像的方法获取各个显影图案的线宽，或者可以通过专用的计长机设备直接通过扫描读取各个显影图案的线宽。示例性的，可以获取如图1所示的步骤15中的两个显影图案的线宽。可知的是，当光刻胶为正性光刻胶时，被曝光的部分被溶解，未被曝光的部分被留下。当光刻胶为负性光刻胶时，被曝光的部分被留下，未被曝光的部分被溶解。其中，被留下的部分为显影图案。下面以负性光刻胶为例进行说明，正性光刻胶可以参照负性光刻胶原理。

S102，根据各第一图案线宽与预设显影图案线宽之间的差值，确定待曝光显示面板在曝光工艺中各曝光图案对应的各线宽补偿值。

可以理解的是，预设显影图案线宽可以为定值，也就是说，对显示面板上的各显影图案的预期是，每个显影图案的线宽均相同，且为某一定值。

由于惯性影响的显影液层，在显示面板上分布不均匀。若预设显影图案线宽对应的显影液层的厚度为预设厚度，那么显影液层的厚度小于预设厚度时，可能导致实际显影图案的线宽大于预设显影图案线宽，显影液层的厚度大于预设厚度时，可能导致实际显影图案的线宽小于预设显影图案线宽。由此，可以通过计算历史被曝光显示面板中实际显影图案的线宽与预设显影图案线宽之间的差值，可以得到线宽补偿值。

示例性的，如图3所示，该显示面板包括第一显影图案51、第二显影图案52和第三显影图案53。其中，第一显影图案51的线宽小于预设显影图案6的线宽，第二显影图案52的线宽等于预设显影图案6的线宽，第三显影图案53的线宽大于预设显影图案6的线宽。

仍以图3示例，可以通过第一显影图案51的线宽D1与预设显影图案6的线宽D之差得到第一线宽补偿值D11，通过第二显影图案52的线宽D2与预设显影图案6的线宽D之差得到第二线宽补偿值为0，通过第三显影图案53的线宽D3与预设显影图案6的线宽D之差得到第三线宽补偿值D33。

S103，根据各线宽补偿值与预设曝光图案线宽，确定待曝光显示面板在曝光工艺中各曝光图案对应的各第二图案线宽。

也就是说，在得到线宽补偿值后，可以在预设曝光图案线宽的基础上修正线宽补偿值，则可以得到各实际显影图案对应的待曝光显示面板在曝光工艺中曝光图案对应的第二图案线宽。

仍以负光刻胶以及图3示例，预设显影图像线宽与预设曝光图像线宽相同，在得到第一线宽补偿值D11后，可以在预设曝光图案线宽D的基础上再加上第一线宽补偿值D11的绝对值，则可以得到第一显影图案51对应的待曝光显示面板在曝光工艺中曝光图案对应的第二图案线宽。在得到第三线宽补偿值D33后，可以在预设曝光图案线宽D的基础上再减去第三线宽补偿值D33的绝对值，则可以得到第三显影图案53对应的待曝光显示面板在曝光工艺中曝光图案对应的第二图案线宽。第二线宽补偿值为0，第二显影图案52对应的待曝光显示面板在曝光工艺中曝光图案对应的第二图案线宽即为预设曝光图案线宽。

S104，根据第一预设关系调整曝光镜组与待曝光显示面板之间的第一间距，使得沿预设路径曝光时能够在待曝光显示面板上曝光出与各第二图案线宽对应的曝光图案；

其中，第一预设关系为第一间距与第二图案线宽之间的关系。

可以理解的是，参考图4，曝光镜组202形成的曝光光束聚焦照射在待曝光显示面板201上，当待曝光显示面板201位于曝光镜组202的焦面以上时，待曝光显示面板201沿垂向靠近曝光镜组202，打在待曝光显示面板201上的光斑变大，待曝光显示面板201沿垂向远离曝光镜组202，打在待曝光显示面板201上的光斑先变小后变大；当待曝光显示面板201位于曝光镜组202的焦面以下时，待曝光显示面板201沿垂向靠近曝光镜组202，打在待曝光显示面板201上的光斑先变小后变大，待曝光显示面板201沿垂向远离曝光镜组202，打在待曝光显示面板201上的光斑变大。进而可以根据曝光镜组202与待曝光显示面板201之间的第一间距，以及光斑的大小值，通过相关算法模拟计算得到第一预设关系。由此，将光斑的大小值等同于第二图案线宽，通过第一预设关系可以得到第一间距，在实际曝光时，通过调整与第二图案线宽(即光斑的大小值)对应的第一间距，可以认为能够在待曝光显示面板上曝光出与各第二图案线宽对应的曝光图案。

进而，本发明实施例提出的显示面板的曝光图形补偿方法，可以通过显影工艺的结果反馈曝光工艺中的曝光图案的线宽，并通过简单的垂向移动待曝光显示面板就可以控制曝光工艺中曝光图案的线宽，使得在显影工艺中显影后的显示面板的曝光图案线宽均一，提升产品良率。

可选地，根据第一预设关系调整曝光镜组与待曝光显示面板之间的第一间距包括：在前一第二图案线宽对应的第一间距下，待曝光显示面板位于曝光镜组的焦面以上时，若当前第二图案线宽小于前一第二图案线宽时，则调整待曝光显示面板远离曝光镜组，以增大第一间距；若当前第二图案线宽大于前一第二图案线宽时，则调整待曝光显示面板靠近曝光镜组，以减小第一间距，其中，待曝光显示面板位于曝光镜组的焦面上时，对应的第二图案线宽最小。

可以理解的是，在该实施例中，调整第一间距的范围位于焦面以上的范围，即增大第一间距后并未超过曝光镜组的焦面，这样能够保证就近调整，避免大幅调整第一间距造成较大振荡，缩短行程。

在其他的实施例中，调整第一间距的范围也可以超出焦面，即在前一第二图案线宽对应的第一间距下，待曝光显示面板位于曝光镜组的焦面以上时，若当前第二图案线宽小于前一第二图案线宽时，则调整待曝光显示面板远离曝光镜组，以增大第一间距，可以过了焦面，若当前第二图案线宽大于前一第二图案线宽时，则调整待曝光显示面板远离曝光镜组，以增大第一间距并过了焦面。

可选地，根据第一预设关系调整曝光镜组与待曝光显示面板之间的第一间距包括：在前一第二图案线宽对应的第一间距下，待曝光显示面板位于曝光镜组的焦面以下时，若当前第二图案线宽小于前一第二图案线宽时，则调整待曝光显示面板靠近曝光镜组，以减小第一间距；若当前第二图案线宽大于前一第二图案线宽时，则调整待曝光显示面板远离曝光镜组，以增大第一间距，其中，待曝光显示面板位于曝光镜组的焦面上时，对应的第二图案线宽最小。

可以理解的是，在该实施例中，调整第一间距的范围位于焦面以下的范围，即减小第一间距后并未超过曝光镜组的焦面再往上，这样能够保证就近调整，避免大幅调整第一间距造成较大振荡，缩短行程。

在其他的实施例中，调整第一间距的范围也可以减小第一间距后超过曝光镜组的焦面再往上，在前一第二图案线宽对应的第一间距下，待曝光显示面板位于曝光镜组的焦面以下时，若当前第二图案线宽小于前一第二图案线宽时，则调整待曝光显示面板靠近曝光镜组，以减小第一间距，但第一间距的减小可以过了焦面。另外，若当前第二图案线宽大于前一第二图案线宽时，则调整待曝光显示面板靠近曝光镜组，以减小第一间距过了焦面。

可选地，根据第一预设关系调整曝光镜组与待曝光显示面板之间的第一间距包括：在前一第二图案线宽对应的第一间距下，待曝光显示面板位于曝光镜组的焦面上时，若当前第二图案线宽大于前一第二图案线宽时，则调整待曝光显示面板靠近曝光镜组，以减小第一间距，其中，待曝光显示面板位于曝光镜组的焦面上时，对应的第二图案线宽最小。这样，能够保证照明强度。

需要说明的是，实际中，为了方便，一般从待曝光显示面板位于曝光镜组的焦面上开始曝光，这样，可以依次向靠近曝光镜组的方向移动待曝光显示面板，保证曝光强度。在其他的实施例中，可以依次向远离曝光镜组的方向移动待曝光显示面板，或者，在向靠近曝光镜组的方向移动待曝光显示面板至某一高度后向远离曝光镜组的方向移动待曝光显示面板，或者，在向远离曝光镜组的方向移动待曝光显示面板至某一高度后向靠近曝光镜组的方向移动待曝光显示面板。可以理解的是，在构建第一预设关系时，可以考虑曝光强度、移动行程等因素，选择第二图案线宽下对曝光图案更有利的第一间距提前进行标定。

可选地，使得沿预设路径曝光时能够在待曝光显示面板上曝光出与各第二图案线宽对应的曝光图案包括：

基于当前第一间距，控制待曝光显示面板沿第一方向移动；

控制待曝光显示面板沿第二方向移动，位于预设曝光位置；

控制待曝光显示面板自预设曝光位置沿第三方向移动，进行曝光，形成与当前第一间距对应的第二图案线宽的曝光图案；依次循环，对待曝光显示面板进行曝光；

其中，第一方向、第二方向和第三方向两两垂直，第一方向垂直于待曝光显示面板所在的平面，第二方向为待曝光显示面板在移动显影工艺中的移动方向或者移动方向的反方向。

需要说明的是，继续参考图4，图4中第一方向为Z方向，第二方向为X方向，第三方向为Y方向。预设曝光位置可以通过提前计算得到(均匀分布在待曝光显示面板的光刻胶上)。在基于第一预设关系得到相应预设曝光位置对应的第一间距后，可以控制待曝光显示面板沿第一方向Z移动到相应位置，然后再控制待曝光显示面板沿X方向移动到预设曝光位置，最后，再控制待曝光显示面板沿Y方向移动，同时进行曝光，前两个步骤的顺序可以互换。

在一个实施例中，曝光的预设路径可以为Z字形或者蛇形。

示例性的，由于在移动显影工艺中，待曝光显示面板前端的显影液少于后端的显影液，进而，一般情况下，在曝光工艺中，待曝光显示面板前端的曝光图案的线宽小于后端的曝光图案的线宽。由此，以图4中的方位为例，可以从待曝光显示面板的右侧区域(前端)开始曝光，依次向上(Z方向)、向右(X方向)、以及向前(Y方向)或向后(Y方向)移动，完成待曝光显示面板的曝光。

可选地，根据各线宽补偿值与预设曝光图案线宽，确定待曝光显示面板在曝光工艺中各曝光图案对应的各第二图案线宽包括：

若所述待曝光显示面板上的光刻胶为负光刻胶，当第一图案线宽大于预设显影图案线宽时，线宽补偿值为正线宽补偿值，第二图案线宽为预设曝光图案线宽与正线宽补偿值的差值；

当第一图案线宽小于预设显影图案线宽时，线宽补偿值为负线宽补偿值，第二图案线宽为预设曝光图案线宽与负线宽补偿值的差值；

若待曝光显示面板上的光刻胶为正光刻胶，当第一图案线宽大于预设显影图案线宽时，线宽补偿值为正线宽补偿值，第二图案线宽为预设曝光图案线宽与正线宽补偿值之和；

当第一图案线宽小于预设显影图案线宽时，线宽补偿值为负线宽补偿值，第二图案线宽为预设曝光图案线宽与负线宽补偿值之和。

可以理解的是，若光刻胶为负光刻胶，当第一图案线宽大于预设显影图案线宽时，说明未曝光的部分未能完全溶解，需要将预设曝光图案线宽减去线宽补偿值，使得未能完全溶解的部分在显影后替代预设曝光图案线宽减去线宽补偿值的部分，最终显影后，显影图案线宽刚好是预设显影图案线宽。

当第一图案线宽小于预设显影图案线宽时，说明未曝光的部分完全溶解，并且将曝光的部分也溶解了一部分，需要将预设曝光图案线宽加上线宽补偿值的绝对值，使得未曝光的部分完全溶解后，将补偿的部分也溶解，即显影后刚好得到预设显影图案线宽。

若光刻胶为正光刻胶，当第一图案线宽大于预设显影图案线宽时，说明被曝光的部分未能完全溶解，需要将预设曝光图案线宽加上线宽补偿值，使得未能完全溶解的部分在显影后替代未曝光的预设显影图案线宽的一部分，最终显影后，显影图案线宽刚好是预设显影图案线宽。

当第一图案线宽小于预设显影图案线宽时，说明被曝光的部分完全溶解，并且将未曝光的部分也溶解了一部分，需要将预设曝光图案线宽减去线宽补偿值的绝对值，使得曝光的部分完全溶解后，再将补偿的未曝光部分溶解后，即显影后刚好得到预设显影图案线宽。

基于同一发明构思，图5是本发明实施例提出的显示面板的曝光图形补偿装置结构示意图。该装置用于实现本发明任一实施例的显示面板的曝光图形补偿方法，如图5所示，显示面板的曝光图形补偿装置，包括：

曝光光源203，用于出射曝光光束；

掩模版204，位于曝光光束传输的路径中，曝光光束经过掩模版形成曝光图案光束，掩模版包括多个相同的掩模图形；

曝光镜组202，位于曝光图案光束传输的路径中，用于对曝光图案光束进行整形，形成整形曝光光束；

位移台205，位于整形曝光光束传输的路径中，用于承载待曝光显示面板201；

控制器(图中未示出)，与位移台205的驱动组件电连接，用于控制驱动组件输出驱动信号，以控制位移台205能够在空间三轴方向上移动；

其中，掩模版204与位移台205位置相对固定，并能够同步移动，并在同步移动时，曝光光束对应覆盖掩模版204中的一个掩模图形。

可以理解的是，在开始对待曝光显示面板进行曝光之前，需要对掩模版204和位移台205进行光路对准。其中，掩模版204上具有对位孔A，位移台205上具有对位孔B，当曝光光束能够通过掩模版204上的对位孔A打在位移台205上对位孔B上时，说明两者对位成功。之后可以通过控制器可以依照前一实施例中的显示面板的曝光图形补偿方法控制位移台205进行三轴方向上移动，对显示面板进行曝光。其中，本发明任一实施例提出的显示面板的曝光图形补偿方法可以预存在控制器中。

可选地，如图6所示，该装置还包括：曝光光束形状约束件，包括弧形镂空部71和约束件主体70，位于曝光光源与掩模版之间，弧形镂空部71用于约束曝光光源出射的曝光光束形成弧形曝光光束，曝光光束形状约束件与曝光光源位置相对固定。

可选地，继续参考图5，曝光镜组202包括：

第一调整镜组(图中未示出)，位于曝光图案光束传输的路径上，用于调整曝光图案光束形成第一调整光束；

第一反射镜2021，位于第一调整光束传输的路径上，用于反射第一调整光束形成第一反射光束2031；

凹面反射镜2024，位于第一反射光束2031传输的路径上，用于反射第一反射光束2031形成第二反射光束2032；

凸面反射镜2023，位于第二反射光束2032传输的路径上，用于反射第二反射光束2032形成第三反射光束2033；其中，凹面反射镜2024还用于反射第三反射光束2033至第二反射镜2022形成第四反射光束2034；

第二反射镜2022，位于第四反射光束2034传输的路径上，用于反射第四反射光束2034形成第五反射光束2035；

第二调整镜组(图中未示出)，位于第五反射光束2035传输的路径上，用于调整第五反射光束2035，形成整形曝光光束；

其中，第一反射镜2021和第二反射镜2022为一个整体棱镜。该整体棱镜可以为台形棱镜。

可以理解的是，参考图6所示，凹面反射镜2024存在聚焦反射区域50和非聚焦反射区域60，曝光图案光束经过曝光光束形状约束件后形成弧形光束，在经过凹面反射镜2024时，可以以最大面积照射在凹面反射镜2024的聚焦反射区域50上，这样能够保证曝光强度。若使用直线光源300，相较于弧形光束形成的第一反射光束2031，覆盖凹面反射镜2024的聚焦反射区域50面积小，可能不能够达到相应的曝光强度。

台形棱镜可以为45度棱镜。

可选地，第一调整镜组和第二调整镜组均包括能够校正色差、球差、像差、畸变中的至少一种误差参数的透镜组。

其中，第一调整镜组和第二调整镜组均可以包括胶合透镜、凹透镜、凸透镜、弯月透镜、柱面镜等在镜头领域内熟知的能够校正色差、球差、像差、畸变中的至少一种误差参数的透镜。

综上，根据本发明实施例提出的显示面板的曝光图形补偿方法和装置，其中，在方法中，通过获取历史被曝光显示面板在移动显影工艺后的各曝光图案对应的第一图案线宽；接着根据各第一图案线宽与预设显影图案线宽之间的差值，确定待曝光显示面板在曝光工艺中各曝光图案对应的各线宽补偿值；接着根据各线宽补偿值与预设曝光图案线宽，确定待曝光显示面板在曝光工艺中各曝光图案对应的各第二图案线宽；最后根据第一预设关系调整曝光镜组与待曝光显示面板之间的第一间距，使得沿预设路径曝光时能够在待曝光显示面板上曝光出与各第二图案线宽对应的曝光图案；其中，第一预设关系为第一间距与第二图案线宽之间的关系。从而，通过在曝光工艺中提前将曝光图案进行反补偿，进而在移动显影工艺之后可以得到预期的显影图案。

应该理解，可以使用上面所示的各种形式的流程，重新排序、增加或删除步骤。例如，本发明中记载的各步骤可以并行地执行也可以顺序地执行也可以不同的次序执行，只要能够实现本发明的技术方案所期望的结果，本文在此不进行限制。

上述具体实施方式，并不构成对本发明保护范围的限制。本领域技术人员应该明白的是，根据设计要求和其他因素，可以进行各种修改、组合、子组合和替代。任何在本发明的精神和原则之内所作的修改、等同替换和改进等，均应包含在本发明保护范围之内。