卷绕式处理设备

技术领域

本发明涉及柔性处理设备技术领域，尤其涉及一种卷绕式处理设备。

背景技术

柔性材料在处理时，由于其能够卷绕，因此可以采用卷对卷的方式进行连续式处理，处理具体包括沉积、刻蚀、表面改性等过程。

镀膜是在目标物的表面镀上非常薄的薄膜层。卷绕式镀膜指的是通过收卷、放卷的方式进行镀膜的方式，在半导体领域镀膜的方式包括原子层沉积、化学沉积、物理沉积等等。现有的卷绕式镀膜制作阻隔膜或其他功能性薄膜的过程，通常通过卧式镀膜设备进行，在镀膜过程成需要设置导向装置对柔性材料的走向进行引导。

但目前卷对卷的方式中，经过处理的表面会受到导向装置的接触，往往会影响处理后表面的性能，并且随着处理的方式越来越精细、尺寸的不断缩小，导向装置的接触往往对性能会产生较大的影响。

基于上述技术问题，需要设计基材表面不受影响的卷绕式处理设备。

发明内容

本发明的目的在于提供一种卷绕式处理设备，用以改善薄膜在镀膜的过程后薄膜性能受到影响的问题。

为实现上述目的，本发明提供了一种卷绕式处理设备，包括放卷装置、收卷装置、处理装置和导向装置；所述放卷装置设有待处理的基材，所述放卷装置用于对所述基材进行放卷；所述导向装置设置于所述放卷装置一侧，所述基材经过所述导向装置延伸至所述收卷装置，所述导向装置用于调整所述基材的运动方向，所述收卷装置用于对所述基材进行收卷；所述处理装置与第一段部的基材对应设置，所述导向装置与所述第一段部至所述收卷装置的基材的非处理表面抵接。

本发明的卷绕式处理设备的有益效果在于：通过所述收卷装置和所述放卷装置提供输送所述基材的动力，通过所述导向装置对所述基材的运动方向进行调整，通过所述处理装置对所述基材进行处理，通过将所述处理装置与所述第一段部基材对应设置，并将所述导向装置与所述第一段部至所述收卷装置的基材的非处理表面抵接，使得所述导向装置不会与所述基材的处理表面接触，对所述基材的影响有限，保证处理后所述基材的质量。

在一种可行的方案中，所述导向装置包括第一导向组件和第二导向组件；所述第一导向组件设置于所述放卷装置一侧，所述基材依次经过所述第一导向组件和所述第二导向组件延伸至所述收卷装置，所述第一导向组件和所述第二导向组件均用于调整所述基材的运动方向；所述第一段部的基材为所述第一导向组件和所述第二导向组件之间的基材，所述处理装置用于对所述基材的一侧进行镀膜，所述第二导向组件与所述非处理表面抵接。其有益效果在于：由于所述第一段部的基材为所述第一导向组件和所述第二导向组件之间的基材，且所述处理装置对应所述第一段部的基材设置，即所述处理装置设置于所述第一导向组件和所述第二导向组件之间，又或者说所述第二导向组件设置于所述第一段部与所述收卷装置之间的基材处。通过将所述处理装置对所述基材的一侧进行加工处理，该所述基材的侧面即所述处理表面，并将所述第二导向组件与所述基材的另一侧抵接，该所述基材的另一侧面即所述非处理表面，使得所述第二导向组件与所述非处理表面，能够降低镀膜后的基材质量被导向组件影响的程度，保证镀膜后基材的质量。此外，所述第一导向组件可以根据需要任意设置，能够灵活使用。

在一种可行的方案中，所述第一段部的基材的局部竖直设置。其有益效果在于：将所述第一段部的基材的局部进行竖直设置，能够避免设备的颗粒物降落在基材上，避免对基材的效果和外观造成影响，能够形成性能稳定的基材。

在一种可行的方案中，所述处理装置用于对所述第一段部的基材进行处理；所述第一段部包括第一子段部和第二子段部；所述第一子段部的基材竖直设置，所述第二子段部的基材竖直或水平设置；所述处理装置具有对应设置于所述第一子段部的基材的旁侧的部分，且所述处理装置具有对应设置于所述第二子段部的基材的旁侧或下侧的部分。其有益效果在于：这样设置使得所述处理装置能够对竖直走向的基材进行镀膜，且竖直设置所述基材上不会掉落颗粒物，并当所述第二子段部的基材的走向为水平时，所述处理装置设置于水平走向的基材的下侧，使得颗粒物不会掉落至第二子段部上，降低基材外观受到的影响，便于设备的布局，便于提升空间利用率。

在一种可行的方案中，所述处理装置与所述第一段部的基材相互垂直设置。其有益效果在于：具体的所述相互垂直设置指的是所述处理装置的处理方向与所述第一段部的基材的走向相互垂直设置，这样便于所述第一导向组件、所述第二导向组件和所述处理装置的排布。

在一种可行的方案中，还包括基材形态保持装置。其有益效果在于，设置所述基材形态保持装置能够保证所述基材的平整度，保证使所述处理装置对所述基材处理的均匀性。

在一种可行的方案中，所述基材形态保持装置为气托装置；所述气托装置与所述第一段部的基材对应设置，所述气托装置用于输出作用于所述非处理表面的气体，所述气体用于抵消所述处理装置对所述基材处理时产生的作用力。

其有益效果在于：通过设置所述气托装置能够抵消所述处理装置对所述基材的作用力，降低所述处理装置对所述基材的影响，保证所述基材的质量。

在一种可行的方案中，所述气托装置与所述第一段部的基材相互垂直设置。其有益效果在于：这样设置一方面便于所述气托装置的设置，另一方面便于计算所述气托装置对所述基材的作用力的大小，便于平衡所述处理装置与所述气托装置对所述基材的相互作用力。

在一种可行的方案中，所述处理装置为镀膜装置。其有益效果在于：能够通过所述镀膜装置对所述基材进行镀膜。

在一种可行的方案中，所述镀膜装置包括第一喷淋机构、第二喷淋机构和第三导向组件；所述第三导向组件与所述第一段部的基材的未镀膜表面抵接，所述第三导向组件用于调整所述第一段部的基材的运动方向；所述第一喷淋机构和所述第二喷淋机构对应所述第一段部的基材设置，所述第一喷淋机构和所述第二喷淋机构均用于对所述第一段部的基材的一侧进行镀膜。其有益效果在于：通过所述第一喷淋机构和所述第二喷淋机构对所述基材进行镀膜，通过所述第三导向组件对所述第一段部内的基材的走向进行调整，便于所述处理装置的设置，便于所述第一喷淋机构和所述第二喷淋机构设置不同的角度。

在一种可行的方案中，所述第一喷淋机构和所述第二喷淋机构平行和/或对称设置。其有益效果在于：这样设置便于所述第一喷淋机构和所述第二喷淋机构的设置，便于提升镀膜的均匀度。

在一种可行的方案中，还包括第一加热装置；所述第一加热装置与所述放卷装置和所述处理装置之间的基材对应设置，且所述第一加热装置用于对所述基材进行加热。其有益效果在于：设置所述第一加热装置对所述基材进行预加热，烘干所述基材上的水汽，提升所述处理装置对所述基材进行喷淋时所述基材的温度，提升处理的质量。

在一种可行的方案中，还包括第二加热装置；所述第二加热装置对应所述第一段部的基材设置，所述第二加热装置用于对所述第一段部的基材进行加热。其有益效果在于：设置所述第二加热装置对所述第一段部的基材进行加热，可以根据所述第二加热装置的功率调整所述第一段部的基材在处理时的温度，调整处理的质量。

在一种可行的方案中，还包括外壳；所述外壳设有互不连通的放卷腔、工艺腔和收卷腔；所述放卷装置设置于所述放卷腔，所述处理装置设置于所述工艺腔，所述收卷装置设置于所述收卷腔；所述外壳设有连通所述放卷腔与所述工艺腔的第一通道，所述外壳设有连通所述工艺腔与所述收卷腔的第二通道，所述放卷装置的基材经依次经所述第一通道和所述第二通道延伸至所述收卷装置。其有益效果在于：通过设置所述外壳，并将各个装置分别设置于所述放卷腔、所述收卷腔和所述工艺腔，能够降低所述处理装置对工艺腔之外的腔内的基材的影响。

在一种可行的方案中，所述工艺腔和所述收卷腔分别设置于所述放卷腔的不同侧。其有益效果在于：这样设置能够优化所述镀膜设备的布局，缩短所述基材的跨度，降低所述镀膜设备的占地面积。

在一种可行的方案中，还包括开合组件；所述收卷腔和所述放卷腔均设有开口，所述开合组件盖合设置于所述开口，所述开合组件用于控制所述开口的启闭。其有益效果在于：通过设置所述开合组件便于收放所述基材，且能够在加工时使所述外壳内的空间密闭。

在一种可行的方案中，还包括冷却装置；所述冷却装置与所述处理装置和所述收卷装置之间的所述基材的非处理表面抵接，所述冷却装置用于对所述基材进行降温。其有益效果在于：通过设置所述冷却装置对处理后的基材进行降温，能够减少所述基材的波浪纹的出现。

在一种可行的方案中，所述冷却装置包括冷却鼓和驱动件，所述驱动件与所述冷却鼓连接，所述冷却鼓与所述基材的非处理表面抵接，所述冷却鼓用于对所述基材进行降温，所述驱动件用于带动所述冷却鼓转动。其有益效果在于：通过设置所述驱动件带动所述冷却鼓转动，使得所述冷却鼓能够自主转动，能够在所述冷却鼓的作用下将所述基材展平，通过设置所述冷却鼓能够对所述基材进行降温。

在一种可行的方案中，所述冷却装置设置于所述处理装置的上侧。其有益效果在于：这样设置便于设置所述第二导向组件，便于合理利用空间。

在一种可行的方案中，还包括张紧组件；所述张紧组件与所述基材抵接，所述张紧组件用于张紧所述基材。其有益效果在于：通过设置所述张紧组件，使所述基材在运动过程中处于张紧状态，能够使得镀膜设备的正常运行。

附图说明

图1为本发明第一种实施例中卷绕式处理设备的结构示意图；

图2为本发明第二种实施例中卷绕式处理设备的结构示意图；

图3为本发明第三种实施例中卷绕式处理设备的结构示意图；

图4为本发明第四种实施例中卷绕式处理设备的结构示意图；

图5为本发明第五种实施例中卷绕式处理设备的结构示意图；

图6为本发明第六种实施例中卷绕式处理设备的结构示意图。

图中标号：

1、放卷装置；

2、收卷装置；

3、处理装置；301、第一喷淋机构；302、第二喷淋机构；303、第三导向组件；

4、第一导向组件；

5、第二导向组件；

6、气托装置；

7、第一加热装置；

8、第二加热装置；

9、外壳；901、放卷腔；902、工艺腔；903、收卷腔；904、过渡腔；

10、开合组件；

11、冷却装置；1101、冷却鼓；

12、张紧组件；

13、基材；1301、第一段部；1302、第二段部；1303、第三段部；1304、第一子段部；1305、第二子段部；1306、第三子段部。

具体实施方式

为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。除非另外定义，此处使用的技术术语或者科学术语应当为本发明所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本文中使用的“包括”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。

针对现有技术存在的问题，本发明的实施例提供了一种卷绕式处理设备。

图1为本发明第一种实施例中卷绕式处理设备的结构示意图，图2为本发明第二种实施例中卷绕式处理设备的结构示意图。

本发明一些实施例中，参照图1和图2，该卷绕式处理设备包括放卷装置1、收卷装置2、处理装置3和导向装置(图中未示)；所述放卷装置1设有待处理的基材13，所述放卷装置1用于对所述基材13进行放卷；所述导向装置设置于所述放卷装置1一侧，所述基材13经过所述导向装置延伸至所述收卷装置2，所述导向装置用于调整所述基材13的运动方向，所述收卷装置2用于对所述基材13进行收卷；所述处理装置3与第一段部1301的基材13对应设置，所述导向装置与所述第一段部1301至所述收卷装置2的基材13的非处理表面抵接。

在一些实施例中，所述第一段部1301的基材13为所述放卷装置1和所述收卷装置2之间的基材13，所述处理装置3用于对所述第一段部1301的基材13的进行镀膜。

在一些实施例中，所述导向装置包括第一导向组件4和第二导向组件5；所述第一导向组件4设置于所述放卷装置1一侧，所述基材13依次经过所述第一导向组件4和所述第二导向组件5延伸至所述收卷装置2，所述第一导向组件4和所述第二导向组件5均用于调整所述基材13的运动方向；所述第一段部1301的基材13为所述第一导向组件4和所述第二导向组件5之间的基材，所述处理装置3用于对所述基材13的一侧进行处理，所述第二导向组件5与所述非处理表面抵接。

在一些实施例中，所述处理装置3为镀膜装置，所述镀膜装置用于对所述基材需要处理的侧面进行镀膜。在一些实施例中，所述处理装置3为刻蚀装置或表面改性装置。

本发明的一些具体实施例中，所述放卷装置1和所述收卷装置2均为电机驱动的转动辊，所述基材13为柔性薄膜材料，所述第一导向组件4和所述第二导向组件5均为可自由转动的转动辊，所述基材13的两端分别连接至所述放卷装置1和所述收卷装置2的转动辊上，且所述基材13分别与所述第一导向组件4和所述第二导向组件5的各个转动辊抵接，即所述基材13从所述放卷装置1开始，经所述第一导向组件4和所述第二导向组件5连接至所述收卷装置2。

所述处理装置3为喷淋板或喷淋头，所述喷淋板或所述喷淋头用于向所述基材喷射原料，进而对所述基材进行镀膜。所述处理装置3对应所述第一导向组件4和所述第二导向组件5之间的基材13设置，所述处理装置3与镀膜的原材料管路连接。所述第一段部1301的基材13指的是所述第一导向组件4和所述第二导向组件5之间的基材13，换言之，从所述基材13进入所述处理装置3的工作范围开始至所述基材13离开所述处理装置3的工作范围结束的范围内的基材13即所述第一段部1301的基材13。所述处理装置3将镀膜的材料喷射至所述第一段部1301的基材13的侧面，进而对该所述基材13的侧面进行镀膜，且该侧面称之为正面或处理表面，未进行镀膜的侧面即称之为反面或非处理表面。

值得说明的是，从所述放卷装置1至所述处理装置3镀膜开始处之间的转动辊均为所述第一导向组件4，同理，从所述处理装置3镀膜结束处至所述收卷装置2之间的转动辊均为所述第二导向组件4。

在一些实施例中，所述第一段部1301的基材13的局部竖直设置。

在一些实施例中，所述处理装置3用于对所述第一段部1301的基材13进行处理，所述第一段部1301包括第一子段部1304和第二子段部1305；所述第一子段部1304的基材13竖直设置，所述第二子段部1305的基材13竖直或水平设置；所述处理装置3具有对应设置于所述第一子段部1304的基材13的旁侧的部分，且所述处理装置3具有对应设置于所述第二子段部1305的基材13的旁侧或下侧的部分。

在一些具体的实施例中，所述处理装置3设置于所述第二子段部1305的基材13的下侧。在又一些具体的实施例中，所述第二子段部1305的基材13的走向为水平方向，所述处理装置3设置于所述第二子段部1305的下侧，且所述处理装置3的喷射方向竖直向上设置。

在还有一些实施例中，所述处理装置3设置于所述第一子段部1304的基材13的旁侧。在一些实施例中，所述旁侧为前侧、后侧、左侧或右侧。

在一些具体的实施例中，所述第一子段部1304的基材13的走向为竖直方向，所述处理装置3设置于所述第一子段部1304的左侧，且所述处理装置3的喷射方向水平向右设置。

在之外一些实施例中，所述第一子段部1304的基材13的走向为竖直方向，所述处理装置3设置于所述第一子段部1304的左侧，且所述处理装置3的喷射方向与水平方向之间设有夹角。在一些具体的实施例中，所述夹角的角度为0度到15度。

在还有一些实施例中，所述第二子段部1305的基材13的走向为竖直方向，所述处理装置3设置于所述第二子段部1305的右侧。

在又有一些实施例中，所述第一段部1301包括第一子段部1304、第二子段部1305和第三子段部1306，所述第三子段部1306用于连接所述第一子段部1304和所述第二子段部1305。

在一些实施例中，所述第一导向组件4和所述第二导向组件5的转动辊的数量可以根据需要设置为不同的数量。

图3为本发明第三种实施例中卷绕式处理设备的结构示意图，图4为本发明第四种实施例中卷绕式处理设备的结构示意图，图5为本发明第五种实施例中卷绕式处理设备的结构示意图，图6为本发明第六种实施例中卷绕式处理设备的结构示意图。

本发明一些实施例中，参照图1至图6，所述处理装置3与所述第一段部1301的基材13相互垂直设置。

本发明的一些具体实施例中，所述相互垂直设置指的是所述处理装置3或所述镀膜装置的喷射方向与所述第一段部1301的基材13的走向相互垂直。

在一些实施例中，还包括基材形态保持装置(图中未示)，通过设置所述基材形态保持装置对使所述基材的反面进行支撑，降低所述处理装置3对所述基材13的作用力。

本发明一些实施例中，参照图1和图2，所述基材形态保持装置为气托装置6；所述气托装置6与所述第一段部1301的基材13对应设置，所述气托装置6用于输出作用于所述非处理表面的气体，所述气体用于抵消所述处理装置3对所述基材13处理时产生的作用力。

本发明的一些具体实施例中，所述气托装置6为气体喷射装置，所述气托装置6与气源连通，所述气托装置6的气源为空气或惰性气体，所述气托装置6对应所述第一段部1301的基材13的反面设置，在所述第一段部1301的基材13被镀膜的过程中，所述气托装置6向所述第一段部1301的基材13的反面喷射气流，对所述第一段部1301的反面形成支撑。

在一些实施例中，所述气托装置6喷射的气流的大小可调整。

在还有一些实施例中，所述气托装置6喷射的气流的方向可调整。

在一些具体的实施例中，所述处理装置3设置于所述第一段部1301的基材13的左侧，所述气托装置6设置于所述第一段部1301的基材13的右侧，且所述处理装置3的喷射方向为水平向右，所述气托装置6的喷射方向为水平向左。

在一些实施例中，还包括抽气装置(图中未示)，所述抽气装置设置于所述气托装置6一侧，所述抽气装置用于抽离所述气托装置6充入所述第一段部1301的基材13附近的气体，降低气体对所述处理装置3所处空间的影响。

本发明一些实施例中，参照图1和图2，所述气托装置6与所述第一段部1301的基材13相互垂直设置。

本发明的一些具体实施例中，所述相互垂直设置指的是所述气托装置6的喷射方向与所述第一段部1301的基材13的走向相互垂直。

本发明一些实施例中，参照图1至图6，所述处理装置3包括第一喷淋机构301、第二喷淋机构302和第三导向组件303；所述第三导向组件303与所述第一段部1301的基材13的未镀膜表面抵接，所述第三导向组件303用于调整所述第一段部1301的基材13的运动方向；所述第一喷淋机构301和所述第二喷淋机构302对应所述第一段部1301的基材13设置，所述第一喷淋机构301和所述第二喷淋机构302均用于对所述第一段部1301的基材13的一侧进行镀膜。

本发明的一些具体实施例中，所述第一喷淋机构301和所述第二喷淋机构302均为喷淋板，所述第一喷淋机构301和所述第二喷淋机构302对所述基材13的正面进行镀膜。所述第一段部1301包括第一子段部1304、第二子段部1305和第三子段部1306，所述第一子段部1304的基材13的走向为竖直方向，所述第二子段部1305的基材13的走向为竖直方向，所述第三子段部1306的基材13的走向为水平方向，且所述第三子段部1306位于所述第二子段部1305和所述第一子段部1304之间。所述第一喷淋机构301对应所述第一子段部1304的基材13设置，所述第二喷淋机构302对应所述第二子段部1305的基材13设置，所述第三导向组件303对应所述第一子段部1304与所述第三子段部136的连接处设置，且所述第三导向组件303对应所述第二子段部1305和所述第三子段部1306的连接处设置。所述第一喷淋机构301和所述第二喷淋机构302均与镀膜的原材料管路连接，镀膜时所述第一喷淋机构301和所述第二喷淋机构302将所述镀膜的原材料分别喷射至所述第一子段部1304和所述第二子段部1305的基材13上。这样使得所述第一段部1301的基材13在竖直方向为折返式结构，可以利用设备高度上的空间，保证镀膜长度的同时，缩短设备占地面积。

在一些实施例中，所述第三导向组件303的转动辊的直径与所述第二子段部1305的基材13的长度相等，此时所述第三导向组件303设置一个转动辊即可。

在还有一些实施例中，所述第三导向组件303的转动辊的数量为两个、三个或多个。

在之外一些实施例中，所述第一喷淋机构301与所述第一子段部1304的基材13的走向设有夹角。

本发明一些实施例中，参照图1至图6，所述第一喷淋机构301和所述第二喷淋机构302平行和/或对称设置。

本发明的一些具体实施例中，所述第一喷淋机构301和所述第二喷淋机构302平行且对称设置。在一些具体的实施例中，所述第一子段部1304的基材13竖直设置，所述第二子段部1305的基材13竖直设置，所述第一喷淋机构301竖直设置于所述第一子段部1304的左侧，所述第二喷淋机构302竖直设置于所述第二子段部1305的右侧。

在一些实施例中，所述第一喷淋机构301和所述第二喷淋机构302平行设置。在一些具体的实施例中，所述第一子段部1304的基材13竖直设置，所述第二子段部1305的基材13竖直设置，所述第一喷淋机构301设置于所述第一子段部1304的左侧，且所述第一喷淋机构301的喷射方向与水平方向设有夹角，所述第二喷淋机构302与所述第一喷淋机构301平行设置于所述第二子段部1305的右侧。

在还有一些实施例中，所述第一喷淋机构301和所述第二喷淋机构302对称设置。在一些具体的实施例中，所述第一子段部1304的基材13竖直设置，所述第二子段部1305的基材13竖直设置，所述第一喷淋机构301设置于所述第一子段部1304的左侧，且所述第一喷淋机构301的喷射方向与水平方向设有夹角，所述第二喷淋机构302与所述第一喷淋机构301对称设置于所述第二子段部1305的右侧。

本发明一些实施例中，参照图1和图2，还包括第一加热装置7；所述第一加热装置7与所述放卷装置1和所述处理装置3之间的基材13对应设置，且所述第一加热装置7用于对所述基材13进行加热。

本发明的一些具体实施例中，所述第一加热装置7为加热丝，所述第一加热装置7对应所述放卷装置1和所述处理装置3之间的某一段基材13设置，在所述基材13的运动过程中，所述第一加热装置7能够对其所对应的基材13进行加热。

在一些实施例中，所述放卷装置1与所述处理装置3之间的基材13称之为第二段部1302的基材13，所述处理装置3与所述收卷装置2之间的基材13称之为第三段部1303的基材13。

在一些具体的实施例中，所述第一加热装置7对应所述第二段部1302的部分基材13设置。

本发明一些实施例中，参照图1和图2，还包括第二加热装置8；所述第二加热装置8对应所述第一段部1301的基材13设置，所述第二加热装置8用于对所述第一段部1301的基材13进行加热。

本发明的一些具体实施例中，所述第二加热装置8与所述第一加热装置7结构相似，所述第二加热机构设置于所述第一子段部1304和所述第二子段部1305之间，所述第二加热机构用于对所述第一子段部1304和所述第二子段部1305进行加热。

在一些实施例中，所述第二加热装置8设置于所述气托装置6与所述第一子段部1304之间，和/或所述第二加热装置8设置于所述气托装置6与所述第二子段部1305之间。

在又一些实施例中，所述气托装置6设置于所述第二加热装置8与所述第一子段部1304之间，和/或所述气托装置6设置于所述第二加热装置8与所述第二子段部1305之间。

在还有一些实施例中，所述气托装置6与所述第二加热装置8为一体结构，或者所述气托装置6与所述第二加热装置8相互间隔设置。

在一些实施例中，所述第一加热装置7垂直设置于所述第二段部1302的基材13设置，所述处理装置3、所述第二加热装置8和所述气托装置6均垂直设置于所述第一段部1301的基材13设置。

本发明一些实施例中，参照图1至图6，还包括外壳9；所述外壳9设有互不连通的放卷腔901、工艺腔902和收卷腔903；所述放卷装置1设置于所述放卷腔901，所述处理装置3设置于所述工艺腔902，所述收卷装置2设置于所述收卷腔903；所述外壳9设有连通所述放卷腔901与所述工艺腔902的第一通道，所述外壳9设有连通所述工艺腔902与所述收卷腔903的第二通道，所述放卷装置1的基材13经依次经所述第一通道和所述第二通道延伸至所述收卷装置2。

本发明的一些具体实施例中，所述第一导向组件4的部分转动辊设置于所述放卷腔901，所述第一导向组件4的另一部分转动辊设置于所述工艺腔902，所述第一加热装置7、所述第二加热装置8和所述气托装置6均设置于所述工艺腔902，所述第二导向组件5的一部分设转动辊置于所述工艺腔902，所述第二导向组件5的另一部分转动辊设置于所述收卷腔903。

本发明一些实施例中，参照图1至图6，所述工艺腔902和所述收卷腔903分别设置于所述放卷腔901的不同侧。

本发明的一些具体实施例中，所述工艺腔902设置于所述放卷腔901的右侧，所述收卷腔903设置于所述放卷腔901的上侧。

本发明一些实施例中，参照图1至图6，还包括开合组件10；所述收卷腔903和所述放卷腔901均设有开口，所述开合组件10盖合设置于所述开口，所述开合组件10用于控制所述开口的启闭。

本发明的一些具体实施例中，所述开合组件10与门窗结构类似，所述开合组件10处于打开状态时，所述放卷腔901或所述收卷腔903与外界连通，所述开合组件10处于关闭状态时，所述放卷腔901或所述收卷腔903不与外界连通。

本发明一些实施例中，参照图1至图6，还包括冷却装置11；所述冷却装置11与所述处理装置3和所述收卷装置2之间的所述基材13的非处理表面抵接，所述冷却装置11用于对所述基材13进行降温。

在一些实施例中，所述冷却装置11设置于所述处理装置3的上侧。

本发明的一些具体实施例中，所述外壳9还设有过渡腔904，所述过渡腔904设置于所述工艺腔902的上侧，且所述过渡腔904设置于所述收卷腔903的右侧。所述第二通道包括第一子通道和第二子通道，所述第一子通道用于连通所述工艺腔902和所述过渡腔904，所述第二子通道用于连通所述过渡腔904和所述收卷腔903，所述冷却装置11设置于所述过渡腔904。

所述冷却装置11为水冷、风冷或电能冷却装置，所述过渡腔904内的基材13与所述冷却装置11抵接，设置所述冷却装置11对所述基材13进行降温，将加热后的所述基材13进行冷却，避免所述基材13变形，降低所述基材13产生波浪纹的可能性。

本发明一些实施例中，参照图1至图6，所述冷却装置11包括冷却鼓1101和驱动件(图中未示)，所述驱动件与所述冷却鼓1101连接，所述冷却鼓1101与所述基材13的非处理表面抵接，所述冷却鼓1101用于对所述基材13进行降温，所述驱动件用于带动所述冷却鼓1101转动。

本发明的一些具体实施例中，所述冷却鼓1101为圆形辊，所述圆形辊内设有冷却结构，使得所述圆形辊的温度较低，所述驱动件(图中未示)为电机，所述驱动件带动所述冷却鼓1101与所述基材13运动方向相同的方向转动。

在一些实施例中，所述冷却鼓1101的辊径设置为较大数值，这样能够延长所述基材13与所述冷却鼓1101的接触面积。

本发明一些实施例中，参照图1和图2，还包括张紧组件12；所述张紧组件12与所述基材13抵接，所述张紧组件12用于张紧所述基材13。

本发明的一些具体实施例中，所述张紧组件12为位置可以调整的转动辊，所述张紧组件12对应所述第二段部1302和/或所述第三段部1303的基材13设置，且设置于所述第三段部1303的所述张紧组件12设置于所述第三段部1303的反面。

虽然在上文中详细说明了本发明的实施方式，但是对于本领域的技术人员来说显而易见的是，能够对这些实施方式进行各种修改和变化。但是，应理解，这种修改和变化都属于权利要求书中所述的本发明的范围和精神之内。而且，在此说明的本发明可有其它的实施方式，并且可通过多种方式实施或实现。