自动分析装置及其倾斜调整方法

技术领域

本发明涉及自动分析装置及其倾斜调整方法。

背景技术

自动分析装置根据血液、尿等样品中的测定对象成分，决定要分注的试剂，使用分注机构向配置于收容保持在一定温度的液体的反应槽内的反应容器分注样品及试剂。样品和试剂在反应容器内使用搅拌子进行搅拌，成为反应液。在比色分析中，例如，使多个波长的光透过反应液，测定其吸光度变化，由此对测定对象成分的浓度进行定性、定量分析。

在反应槽中配置有能够检测液面的水位传感器，根据水位传感器的检测有无来进行是供给还是排水的判定，由此将水位保持为一定。但是，若反应槽倾斜，则在由水位传感器检测的位置和不是这样的位置水位出现差异。因此，调整配置于装置最下部的四个调节脚，进行反应槽的水平校准。

在反应槽的水平校准中，需要在多个部位反复进行调节脚的调整和基于水平仪等测量器的倾斜测量，因此作业费时费力。

因此，在专利文献1中公开了如下方法：利用分注探针所具备的液面检测单元，在反应槽的预先确定的至少3个位置使用分注探针检测液面，计算用于进行反应槽的水平校准的高度调整量。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2007-248413号公报

发明内容

发明所要解决的课题

在专利文献1中，代替使用水平仪等测量器而使用分注机构来检测反应槽的倾斜，因此产生在检测反应槽的倾斜的期间无法进行分析动作这样的制约。

本发明的目的在于提供一种自动分析装置及其倾斜调整方法，在支撑执行分析的各机构的机构基座上设置倾斜传感器，能够在短时间内自动地确认反应槽的倾斜，而不会干扰分析动作。

用于解决课题的手段

作为本发明的一实施方式的自动分析装置具有：框架，其具备矩形的框架上表面及框架底面；多个调节脚，其设置于框架底面，支承框架；机构基座，其由框架上表面支承；反应槽，其配置于机构基座上，配置有收纳试剂与样品的混合液的反应容器；倾斜传感器，其配置于机构基座上；以及解析部，其判定基于来自倾斜传感器的传感数据的机构基座的倾斜量是否超过允许量，倾斜传感器配置于在俯视时不与调节脚重叠的位置。

发明效果

能够在不影响分析动作的情况下持续监视自动分析装置的倾斜量。上述以外的课题、结构以及效果通过以下的实施方式的说明而明确。

附图说明

图1A是自动分析装置的整体结构例。

图1B是表示机构基座的支承构造的一例的图。

图1C是配置于机构基座上表面的倾斜传感器的例子。

图2A是表示倾斜的自动分析装置的情形的图。

图2B是表示倾斜的反应槽的情形的图。

图3A是表示倾斜的自动分析装置的情形的图。

图3B是表示倾斜的反应槽的情形的图。

图4A是表示水平状态的自动分析装置的情形的图。

图4B是表示水平状态的反应槽的情形的图。

图5是倾斜检查流程。

图6是传感数据的时间序列数据的例子。

图7是超过日预测流程。

图8是表示倾斜量的时间依赖性的曲线近似的例子。

图9是倾斜调整流程。

图10是用于说明倾斜调整方法的图。

具体实施方式

基于附图详细说明用于实施本发明的方式。以下说明的实施方式只不过是一例，其构成要素、要素步骤除了特别明示或者在原理上明确的情况以外，不是必须的。

图1A表示自动分析装置的整体结构例。自动分析装置作为主要的结构，具有：试样输送机构19、搭载试剂瓶12的试剂盘11、搭载反应容器2的反应盘1、试样分注机构13、14、试剂分注机构7、8、9、10、搅拌机构5、6、分光光度计4、清洗机构3、清洗槽15、16、30、31、32、33、试剂用泵20、试样用泵21、清洗用泵22，配置在由调节脚37支撑的机构基座35的上部或下部。此外，在图1A中，以将调节脚37直接安装于机构基座35的方式进行显示是为了方便作图，关于机构基座35的支承构造将后述。另外，具备：控制部41，其控制自动分析装置各部；数据存储部42，其存储各种数据；输入部43，其将所需的数据从外部输入到数据存储部42；测定部44，其根据由分光光度计4得到的光量来计算吸光度；解析部45，其根据吸光度算出成分量；以及输出部46，其将解析出的成分量数据等显示、输出到外部。另外，如后所述，解析部45还执行自动分析装置的倾斜状态的判定等。

试样输送机构19输送能够搭载一个以上收纳有作为分析对象的试样(液体)的试样容器17的支架(输送部件)18。在试剂盘11上，沿周向排列配置有收纳用于试样的分析的试剂(液体)的多个试剂瓶12。在反应盘1上，将试样和试剂混合并使其反应的多个反应容器2在反应槽36中沿周向排列配置。反应容器2内的反应液被充满反应槽36内的液体保持在一定温度。另外，反应槽36的水位通过水位传感器38保持为一定。

试样分注机构13、14分别从由试样输送机构19输送到试样分注位置的试样容器17向反应容器2分注试样。试剂分注机构7、8、9、10分别从试剂瓶12向反应容器2分注试剂。搅拌机构5、搅拌机构6搅拌分注到反应容器2的试样与试剂的混合液(反应液)。分光光度计4接收从未图示的光源经由反应容器2的反应液而得到的透射光或散射光。清洗机构3对使用完毕的反应容器2进行清洗。试样喷嘴清洗槽15、16分别配置于试样分注机构13、14的运转范围内，通过清洗水清洗试样喷嘴13a、14a。同样地，试剂喷嘴清洗槽30、31、32、33分别配置在试剂分注机构7、8、9、10的运转范围内，通过清洗水来清洗试剂喷嘴7a、8a、9a、10a。此外，在试剂分注机构7、试剂分注机构8之间配置有测定机构基座35的倾斜量的倾斜传感器60。

图1B表示自动分析装置中的机构基座35的支承构造的一例。自动分析装置的框体的框架70的底板(框架底面)72a以及上板(框架上表面)72b固定于柱71a、71b。在由与XY平面平行的底板72a及上板72b、沿Z方向延伸的柱71构成的结构体即框架70划分的空间74中，除了所述的泵20、泵21、泵22以外，还收纳有供水机构、排水机构、电源、作为控制部41发挥功能的计算机等机构。所述四个调节脚37设置于底板72a。机构基座35由设置在上板72b上的支柱73支撑。支柱73的位置虽然受到配置在机构基座35上的各机构的配置的影响，但机构基座35及配置在机构基座35上的机构的重量尽可能均等地分散在上板72b。

试样的成分量的分析按照如下步骤进行。首先，将通过试样输送机构19输送到反应盘1附近的支架18上所载置的试样容器17内的试样通过试样分注机构13(14)的试样喷嘴13a(14a)分注到反应盘1上的反应容器2。接着，将分析中使用的试剂从试剂盘11上的试剂瓶12通过试剂分注机构7(8、9、10)的试剂喷嘴7a(8a、9a、10a)分注到先分注了试样的反应容器2。接着，利用搅拌机构5(6)搅拌反应容器2内的试样与试剂的混合液。然后，测定部44向装有搅拌后的混合液的反应容器2照射从光源产生的光，利用分光光度计4测定透过光或散射光的光度，将得到的吸光度数据蓄积于数据存储部42。解析部45基于检量线数据以及朗伯-贝尔定律对所蓄积的吸光度数据进行解析。通过该解析，能够分析试样中包含的成分量。自动分析装置各部的控制、分析所需的数据从输入部43输入到数据存储部42，另外，各种数据和分析结果从输出部46显示和/或输出。

图1A的结构是自动分析装置进行生物化学分析的情况下的结构例，根据自动分析装置执行的解析内容，测量机构不同。作为在自动分析装置中使用的测定方法，已知有使用通过与试样中的分析对象成分反应而反应液的颜色改变的试剂的分析方法(比色分析)、使用对与试样中的分析对象成分直接或间接地特异性结合的物质附加了标记物的试剂来对标记体进行计数的分析方法(免疫分析)等，但均包括将收纳于试样容器的试样、或者收纳于试剂瓶的试剂通过分注机构分注到反应容器并使其混合的工序。在能够执行包括分注工序的分析的自动分析装置中，能够应用本实施例。

图2A表示由于设置自动分析装置的地面的下沉、或调节脚的调整不良，装置整体的水平未被保持(朝向右侧下降)的情况下的机构基座35、搭载于机构基座35的倾斜传感器60、试剂分注机构7、8、反应盘1、试剂盘11、反应槽36的状态。

在该情况下，图2B所示的反应槽36向右下方倾斜，另一方面，反应槽内的液体保持水平(与XY面平行)。在图2B中，作为最强烈地表现出反应槽36的倾斜的影响的例子，示出了水位传感器38配置在反应槽36的右侧、搅拌机构5与水位传感器38对置地配置在反应槽36的左侧的配置例。水位传感器38具备长度不同的检测部38a，检测反应槽36的水位。在该例子中，能够以两个阶段检测反应槽36的水位。搅拌机构5具备搅拌元件5a和反射板5b，通过使搅拌元件5a进行超声波振荡而产生超声波，对被夹持地位于搅拌元件5a与反射板5b之间的反应容器2(未图示)内的反应液进行搅拌。通过使反应槽36向右下方倾斜，即使在水位传感器38检测出反应槽36的水位适当的情况下，搅拌元件5a也可能会从反应槽36的水面露出一部分。搅拌元件5a被设计为在水中振动，因此在该情况下，若使搅拌元件5a在阻力小的空气中振动，则会过度振动，成为搅拌机构5的故障原因。

与此相对，图3A表示装置整体向左侧下降的情况下的机构基座35、搭载于机构基座35的倾斜传感器60、试剂分注机构7、8、反应盘1、试剂盘11、反应槽36的状态。在该情况下，如图3B所示，反应槽36向左下方倾斜，另一方面，反应槽内的液体保持水平(与XY面平行)。因此，即使在水位传感器38检测到反应槽36的水位适当的情况下，液体也会从反应槽36溢出到周围，成为装置故障的原因。

图4A表示调节脚37a、37b、37c、37d被调整为正常的高度，装置整体保持水平的情况下的机构基座35、搭载于机构基座35的倾斜传感器60、试剂分注机构7、试剂分注机构8、反应盘1、试剂盘11、反应槽36的状态。在该情况下，如图4B所示，反应槽36和反应槽36内的液体被保持为水平，通过水位传感器38，搅拌元件5a整体正确地位于液体中。

图1C表示配置于机构基座35上表面的倾斜传感器60。倾斜传感器60优选为小型、高灵敏度，从该观点出发，优选MEMS传感器。当倾斜传感器的被测定物倾斜时，由于重力加速度，两个加速度传感器的输出产生差异。倾斜传感器根据加速度传感器的差分来检测被测定物的倾斜。倾斜传感器60是能够进行X轴方向和Y轴方向这两个轴的倾斜检测的倾斜传感器，朝向轴向以顺时针为正方向，朝向轴向以逆时针为负方向。例如，在图2A的例子中，倾斜传感器60检测绕Y轴向正方向的倾斜，在图3A的例子中，倾斜传感器60检测绕Y轴向负方向的倾斜，在图4A的例子中，倾斜传感器60对X轴、Y轴都不检测倾斜。

在图1C中，用虚线的圆表示俯视时与调节脚37a～37d重叠的位置77a～77d。自动分析装置通过调节脚37与地面接触，因此机构基座35的倾斜由位置77a～77d处的高度决定。另一方面，如果机构基座35的位置77a～77d处的高度存在偏差，则机构基座35一边伴随变形一边倾斜。在俯视时，在与调节脚37a～37d重叠的位置77a～77d，机构基座35的变形影响成为支配性的，即使配置倾斜传感器60也无法检测到机构基座35的倾斜。因此，倾斜传感器60在俯视时配置于不与调节脚37a～37d重叠的位置。而且，框架上表面72b及框架底面72a为矩形，调节脚37a～37d至少配置于框架底面72a的四角。从检测倾斜的灵敏度的观点出发，倾斜传感器60优选在俯视时配置在比配置于框架底面72a的四角的调节脚37a～37d更靠内侧的位置。

另外，倾斜传感器60具备外部端子61，该外部端子61与外部装置连接，能够进行供电和通信，使得即使在未向自动分析装置供给电源的状态下也能够检测装置的倾斜。由此，通过来自外部装置的电源供给以及控制，倾斜传感器60进行传感器动作。在进行调节脚37的调整的情况下，在切断了装置电源的状态下进行，但即使在切断了装置电源的状态下，也能够通过倾斜传感器60确认装置的倾斜。

图5表示倾斜传感器60进行的倾斜检查流程的一例。倾斜检查例如由控制部41作为用户开始分析动作时的准备动作的一部分来执行，或者在分析过程中在后台自动地执行(S501)。从倾斜传感器向数据存储部42存储表示倾斜量的传感数据和其取得时间(S502)。接着，在输出部46显示倾斜量和取得时间，能够从用户确认(S503)。解析部45判定倾斜量是否超过预先决定的允许量(S504)。允许量预先决定为由水位传感器38检测出的反应槽36的水位能够使反应槽36和搅拌机构5适当地动作的范围。在倾斜量超过允许量的情况下，输出警报，向用户通知倾斜的异常发生(S507)。进而，向服务部门联络，催促维护作业(S508)。另一方面，在倾斜量未超过允许量的情况下，解析部45基于更新后的数据存储部42的时间序列数据，进行倾斜量预测的计算(S505)，判定到下次维护预定日为止是否超过允许量(S506)。在判定为到下次维护预定日为止超过允许量的情况下，控制部41将预测出的日程自动地报告给服务部门，催促维护作业(S508)。在判定为在下次维护预定日之前不超过允许量的情况下，结束倾斜检查(S509)。

在图5的例子中，示出了控制部41经由网络与服务部门连接的情况的例子，但在并非如此的情况下，也可以代替步骤S508，使输出部46显示促使用户联络服务部门的警报。

图6示出存储于数据存储部42的倾斜传感器60的传感数据的时序数据的例子。时序数据80包含取得时间81、项目82、判定结果83、传感数据84、传感数据85。传感数据84、85表示从倾斜传感器60输出的2轴的倾斜量，在判定结果83中保存步骤S504中的与允许量的比较结果。取得时间81到日期为止，但也可以包含到取得时刻为止。通过倾斜检查流程，自动地监视最新的装置的倾斜量，进行倾斜量是否在允许范围内的判定，由此能够确保装置保持正确的水平度而进行分析。

另外，在本检查流程中，即使在当前时刻未超过允许量的情况下，也进行倾斜量的解析，预测超过允许量的定时(S505)。图7表示解析部45预测装置的倾斜量超过允许量的日期的超过日预测流程的一例。解析部45将本次取得的来自倾斜传感器60的传感器数据与上次取得的来自倾斜传感器60的传感器数据进行比较，确认装置的倾斜量是否变化(S701)。如果倾斜量没有变化，则直接结束(S509)。在倾斜量变化的情况下，解析部45计算倾斜的变化量，并保存到数据存储部42(S702)。接着，判定数据存储部42中是否已经存储有倾斜的变化量(S703)。在最初存储倾斜的变化量的情况下直接结束(S509)。在已经存储了倾斜的变化量的情况下，解析部45计算前次的倾斜的变化量与本次的倾斜的变化量的差值，将结果存储到数据存储部42(S704)。基于存储在数据存储部42中的最初发生了倾斜的时期、此时的倾斜的变化量、之后的倾斜的变化量的差值这样的信息，在解析部45中如图8那样进行曲线近似，求出倾斜量的时间依赖性(S705)。使近似曲线向将来延长，计算预测倾斜量超过允许量的定时，在下次维护预定日之前进行是否超过允许量的判定(S506)。在图8的例子中，预测倾斜量成为超过允许量的定时是第四十天，因此将第四十天与下次维护预定日的前后进行比较。这样，能够预测需要进行反应槽36的水平校准的时期，因此能够在反应槽36发生不良情况之前进行水平校准，事先避免问题的产生。

在产生超过允许量的倾斜的情况下，需要通过调整调节脚的高度来修正倾斜。图9表示自动分析装置的倾斜调整流程。倾斜调整流程除了调节脚的操作以外，由维护作业者保持的终端来执行。维护作业者将终端与倾斜传感器60的外部端子61连接，通过触摸面板等用户界面进行维护开始的指示(S901)。为了进行调节脚的高度调整，在不接通向自动分析装置的电源的状态下实施维护。从倾斜传感器60取得传感数据，保存在终端内的存储器中，并且将倾斜量显示在终端的监视器上以使维护作业者能够确认(S902)。终端判断倾斜传感器60检测到的倾斜量是否超过允许量(S903)，在超过的情况下，进行装置的倾斜调整。参照图10对倾斜调整方法进行说明。

在图10中，以倾斜传感器60为中心利用2轴(X轴、Y轴)将机构基座35划分为4个区域。在俯视时，调节脚37a位于左下方的分区，调节脚37b位于右下方的分区，调节脚37c位于左上方的分区，调节脚37d位于右上方的分区。

首先，通过倾斜传感器60的X轴的倾斜、Y轴的倾斜的正负符号的组合，确定应调整的调节脚(S904)。在图10的例子中，如果机构基座35是左下下降，则2轴(x，y)的倾斜的符号为(+，-)。同样地，如果是右下下降，则为(+，+)，如果为左上下降则为(-，-)，如果为右下下降，则为(-，+)。因此，根据倾斜的符号的组合来选择要调整(在该情况下，提高高度)的调节脚。

接着，计算所选择的调节脚的调整量(S905)。例如，终端预先存储通过预先调整各调节脚而引起的倾斜传感器60的传感数据的变化量。例如，调整表91～调整表94存储每次使调节脚上升1mm时的X轴、Y轴各自的倾斜的变化量。参照作为调整对象的调节脚的调整表，以抵消在步骤S902中取得的倾斜传感器的2轴的倾斜量的方式，计算该调节脚的高度的调整量，并显示于终端的监视器。

维护作业者按照显示结果，实施调节脚的高度调整作业(S906)。作业后，再次返回步骤S902并重复流程。此外，在步骤S903中，如果为允许量以下，则结束倾斜调整流程(S907)。

附图标记说明

1...反应盘，2...反应容器，3...清洗机构，4...分光光度计，5，6...搅拌机构，5a...搅拌元件，5b...反射板，7，8，9，10...试剂分注机构，7a，8a，9a，10a...试剂喷嘴，11...试剂盘，12...试剂瓶，13，14...试样分注机构，13a，14a...试样喷嘴，15，16...试样喷嘴清洗槽，17...试样容器，18...支架(输送部件)，19...试样输送机构，20...试剂用泵，21...试样用泵，22...清洗用泵，30，31，32，33...试剂喷嘴清洗槽，35...机构基座，36...反应槽，37a，37b，37c，37d...调节脚，38...水位传感器，38a...检测部，41...控制部，42...数据存储部，43...输入部，44...测定部，45...解析部，46...输出部，60...倾斜传感器，70...框架，71...柱，72a...底板(框架底面)，72b...上板(框架上表面)，73...支柱，74...空间，77...位置，80...时序数据，81...取得时间，82...项目，83...判定结果，84，85...传感数据，91，92，93，94...调整表。

权利要求书(按照条约第19条的修改)

1.(修改后)一种自动分析装置，其特征在于，

该自动分析装置具有：

框架，其具备矩形的框架上表面和框架底面；

多个调节脚，其设置于所述框架底面，并支承所述框架；

机构基座，其被所述框架上表面支承；

反应槽，其配置于所述机构基座上，配置有收纳试剂与样品的混合液的反应容器；

倾斜传感器，其配置于所述机构基座上；

解析部，其判定基于来自所述倾斜传感器的传感数据的所述机构基座的倾斜量是否超过允许量；以及

数据存储部，其蓄积来自所述倾斜传感器的传感数据和该传感数据的取得时间，

所述倾斜传感器配置于在俯视时不与所述调节脚重叠的位置，

所述解析部基于蓄积于所述数据存储部的来自所述倾斜传感器的传感数据的时序数据，预测所述机构基座的将来的倾斜量。

2.(删除)

3.(删除)

4.(删除)

5.(修改后)一种自动分析装置，其特征在于，

该自动分析装置具有：

框架，其具备矩形的框架上表面和框架底面；

多个调节脚，其设置于所述框架底面，并支承所述框架；

机构基座，其被所述框架上表面支承；

反应槽，其配置于所述机构基座上，配置有收纳试剂与样品的混合液的反应容器；

倾斜传感器，其配置于所述机构基座上；以及

解析部，其判定基于来自所述倾斜传感器的传感数据的所述机构基座的倾斜量是否超过允许量，

所述倾斜传感器配置于在俯视时不与所述调节脚重叠的位置，

所述倾斜传感器具备进行供电和通信的外部端子。

6.(修改后)一种自动分析装置，其特征在于，

该自动分析装置具有：

框架，其具备矩形的框架上表面和框架底面；

多个调节脚，其设置于所述框架底面，并支承所述框架；

机构基座，其被所述框架上表面支承；

反应槽，其配置于所述机构基座上，配置有收纳试剂与样品的混合液的反应容器；

倾斜传感器，其配置于所述机构基座上；

解析部，其判定基于来自所述倾斜传感器的传感数据的所述机构基座的倾斜量是否超过允许量；

水位传感器，其检测所述反应槽的水位；以及

搅拌机构，其搅拌所述反应容器内的混合液，

所述倾斜传感器配置于在俯视时不与所述调节脚重叠的位置，

将所述允许量决定为由所述水位传感器检测到的所述反应槽的水位为所述反应槽及所述搅拌机构能够适当动作的范围。

7.一种自动分析装置的倾斜调整方法，是自动分析装置的高度调整方法，该自动分析装置具备：框架，其具备矩形的框架上表面及框架底面；多个调节脚，其设置于所述框架底面，支承所述框架；机构基座，其被所述框架上表面支承；反应槽，其配置于所述机构基座上，配置有收纳试剂与样品的混合液的反应容器；以及2轴的倾斜传感器，其配置于所述机构基座上的、俯视时不与所述调节脚重叠的位置，其特征在于，

不向所述自动分析装置接通电源，而从所述倾斜传感器的外部端子向所述倾斜传感器供给电源，

取得来自所述倾斜传感器的传感数据，基于所述倾斜传感器的所述2轴的倾斜量的正负组合，选择要调整高度的所述调节脚。

8.根据权利要求7所述的自动分析装置的倾斜调整方法，其特征在于，

预先存储通过变更所述调节脚的高度而产生的所述倾斜传感器的所述2轴的倾斜量的变化量，

计算所选择的所述调节脚的高度的调整量，以抵消所述倾斜传感器的所述2轴的倾斜量。