一种化工反应釜

技术领域

本发明涉及化工设备技术领域，特别涉及一种化工反应釜。

背景技术

反应釜是综合反应容器，根据反应条件对反应釜结构功能及配置附件的设计，在化工生产过程中通过反应釜对化工原料进行处理是必不可少的重要环节，使用反应釜对化工原料进行处理时不但要考虑其对化工原料的搅拌的速度和温度，而且还需要考虑在不同处理阶段对搅拌速度以及温度的变化。

然而，现有化工反应釜在工作中存在的如下问题，对反应釜体内部的原料进行搅拌时仅能够简单的改变轴的转速，无法改变搅拌轴的结构，需要提高化工原料搅拌均匀度时只能增加搅拌的时间，浪费资源且耗费时间长，随着化工原料在反应釜内处理状态的变化需要改变转速以及温度，目前使用的反应釜搅拌转速与温度无法同时进行，导致两者变化不同步影响化工原料在反应釜内处理的质量。

发明内容

为了解决上述中提到的难题本发明提供了一种化工反应釜。

为了实现上述目的，本发明采用以下技术方案：一种化工反应釜，包括反应釜壳体，反应釜壳体的上设有端盖，端盖上设有进料管，反应釜壳体的内壁处设有加热机构、反应釜壳体的上端设置有搅拌支撑架，搅拌支撑架与反应釜壳体内壁之间设置有搅拌机构，端盖内壁上端设有驱动机构，端盖的内壁上沿其周向均匀设置有温控机构, 反应釜壳体下端设置有出料机构；

所述驱动机构包括安装在端盖内壁上的驱动气缸，驱动气缸的输出端上安装有驱动板，驱动板上通过电机座安装有驱动电机，驱动电机的输出轴上安装有驱动链轮，驱动板的左侧设置有一号驱动支链，驱动板的右侧设置有二号驱动支链，一号驱动支链、二号驱动支链与驱动链轮之间通过驱动链条相连，驱动板上开设有圆形槽，进料管贯穿圆形槽，驱动板的下端设置有按压支链；

所述搅拌机构包括通过轴承设置在反应釜壳体内壁与搅拌支撑架之间的旋转管，旋转管上从上往下等间距设置有搅拌支链，旋转管的下端内壁上安装有从动弹簧杆，从动弹簧杆上设置有升降杆，升降杆上设置有用于驱动搅拌支链的驱动块，旋转管上端外壁处设置有从动齿轮；

所述温控机构包括沿端盖内壁周向均匀设置的电源块，端盖的内壁处安装有环形安装架，环形安装架内沿其周向均匀设置有与电源块对应的连接支链，连接支链与电源块之间通过导线相连；

所述加热机构包括设置在反应釜壳体内壁上的加热圈，加热圈内沿其周向均匀设置有电热管，电热管上端设置有导电柱，导电柱延伸至搅拌支撑架的上侧；

所述出料机构包括沿反应釜壳体下端面周向均匀开设的出料口，出料口处设置有控制支链，反应釜壳体的下端设置有控制电机，控制电机的输出轴上设置有控制齿轮。

优选的，所述搅拌支链包括设置在旋转管上的搅拌支架，搅拌支架呈E字型结构，搅拌支架上开设有由上往下开设有三个调节腔体，搅拌支架靠近旋转管的一侧开设有与调节腔体连通的推送腔体，旋转管上开设有与推送腔体连通的调节孔，调节孔内设置有调节杆，调节杆位于推送腔体的一端上设置有推送板，调节杆的另一端设置有三角块，调节腔体远离推送板的内壁上设置有调节弹簧杆，调节弹簧杆上设置有调节联动杆，调节联动杆连接在推送板上，位于调节腔体上下两侧的搅拌支架上均匀设置有伸缩孔，伸缩孔内滑动设置有伸缩杆，伸缩杆位于调节腔体内侧的一端为倾斜结构，且伸缩杆与调节腔体的内壁之间设置有伸缩弹簧杆，调节联动杆上均匀设置有调节推动块。

优选的，所述按压支链包括沿驱动板周向均匀设置的按压弹簧杆，按压弹簧杆的下端设置有一级按压块，驱动板的下端沿其周向还均匀设置有二级按压块，所述一级按压块与所述二级按压块交错分布。

优选的，所述一号驱动支链包括通过轴承设置在驱动板上的一号旋转杆，一号旋转杆的上端设置有一号链轮，一号旋转杆的下端设置有与从动齿轮配合的一号齿轮，所述二号驱动支链包括通过轴承设置在驱动板上的二号旋转杆，二号旋转杆的上端设置有二号链轮，二号旋转杆的下端设置有与从动齿轮配合的二号齿轮。

优选的，所述二号齿轮的高度高于一号齿轮的高度，且二号齿轮的直径大于一号齿轮的直径。

优选的，所述连接支链包括开设在环形安装架上下两侧的升降孔，升降孔内滑动设置有导电杆，导电杆的上下两端均延伸至环形安装架的外侧，导电杆与电源块之间通过导线相连，导电杆与环形安装架的内壁之间设置有升降弹簧，导电杆的上端设置有从动架。

优选的，所述控制支链包括滑动设置在出料口处的联动架，联动架的外壁上设置有与控制齿轮啮合的联动齿轮，反应釜壳体的下端沿出料口的周向方向均匀设置有安装杆，安装杆上通过轴承设置有控制杆，控制杆上设置有用于堵塞出料口的堵塞板，联动架的内壁上设置有U型架，控制杆远离堵塞板的一端位于U型架的内壁之间。

有益效果

1.本发明解决了现有化工反应釜在工作中存在的如下问题，对反应釜体内部的原料进行搅拌时仅能够简单的改变轴的转速，无法改变搅拌轴的结构，需要提高化工原料搅拌均匀度时只能增加搅拌的时间，浪费资源且耗费时间长，随着化工原料在反应釜内处理状态的变化需要改变转速以及温度，目前使用的反应釜搅拌转速与温度无法同时进行，导致两者变化不同步影响化工原料在反应釜内处理的质量。

2.本发明中设计的驱动机构与搅拌机构配合在作业中不但能够改变搅拌化工原料的转速，同时可以改变搅拌支架的结构，使得搅拌机构在不同转速下结构不同，能够在不延长搅拌时间的前提下提高化工原料搅拌的均匀度。

3.本发明设计而且本发明中设计的驱动机构、加热机构与温控机构之间相互配合，可以改变化工反应釜内部温度，同时能够使得化工反应釜内温度的变化与搅拌速度相关联，可以使得搅拌速度与温度同步变化，提高化工原料在反应釜内处理的质量。

附图说明

下面结合附图和实施例对本发明进一步说明。

图1是本发明反应釜壳体的结构示意图；

图2是本发明图1的剖视图；

图3是本发明反应釜壳体、导电柱、搅拌支撑架、旋转管与从动齿轮之间的结构示意图；

图4是本发明驱动机构（去除驱动气缸之后）的结构示意图；

图5是本发明搅拌机构的结构示意图；

图6是本发明反应釜壳体与出料机构之间的结构示意图；

图7是本发明图2的A处放大图；

图8是本发明图2的B处放大图。

具体实施方式

以下结合附图对本发明的实施例进行详细说明，但是本发明可以由权利要求限定和覆盖的多种不同方式实施。

如图1至图8所示，一种化工反应釜，包括反应釜壳体1，反应釜壳体1的上设有端盖2，端盖2上设有进料管9，反应釜壳体1的内壁处设有加热机构3、反应釜壳体1的上端设置有搅拌支撑架4，搅拌支撑架4与反应釜壳体1内壁之间设置有搅拌机构5，端盖2内壁上端设有驱动机构6，端盖2的内壁上沿其周向均匀设置有温控机构7, 反应釜壳体1下端设置有出料机构8；

通过进料管9将准备进行加工的化工原料注入到反应釜壳体1的内部，而后通过驱动机构6控制搅拌机构5对反应釜壳体1内部的原料进行搅拌，在搅拌反应的过程中通过温控机构7控制加热机构3从而改变反应釜壳体1内部的温度，且驱动机构6能够控制搅拌机构5搅拌机构5对原料进行搅拌转速，反应釜壳体1内部温度变化与搅拌机构5的转速成正比。

所述驱动机构6包括安装在端盖2内壁上的驱动气缸61，驱动气缸61的输出端上安装有驱动板62，驱动板62上通过电机座安装有驱动电机63，驱动电机63的输出轴上安装有驱动链轮64，驱动板62的左侧设置有一号驱动支链65，驱动板62的右侧设置有二号驱动支链66，一号驱动支链65、二号驱动支链66与驱动链轮64之间通过驱动链条67相连，驱动板62上开设有圆形槽，进料管9贯穿圆形槽，驱动板62的下端设置有按压支链68；

通过驱动气缸61用来控制驱动板62进行升降，驱动板62在升降的过程中选择一号驱动支链65或者二号驱动支链66来驱动从动齿轮56，从而控制从动齿轮56带动旋转管51的转速，一号驱动支链65驱动从动齿轮56转动的速度小于二号驱动支链66驱动从动齿轮56转动的速度，待驱动板62调节至合适的高度后启动驱动电机63控制驱动链轮64进行旋转，驱动链轮64在转动的过程中通过驱动链条67控制一号驱动支链65和二号驱动支链66同步进行转动。

所述一号驱动支链65包括通过轴承设置在驱动板62上的一号旋转杆651，一号旋转杆651的上端设置有一号链轮652，一号旋转杆651的下端设置有与从动齿轮56配合的一号齿轮653，所述二号驱动支链66包括通过轴承设置在驱动板62上的二号旋转杆654，二号旋转杆654的上端设置有二号链轮655，二号旋转杆654的下端设置有与从动齿轮56配合的二号齿轮656。

所述二号齿轮656的高度高于一号齿轮653的高度，且二号齿轮656的直径大于一号齿轮653的直径，确保二号齿轮656驱动从动齿轮56的转速大于一号齿轮653 驱动从动齿轮56的转速，从而保证在对化工原料搅拌的过程中能够改变搅拌的转速。

驱动链轮64在驱动链条67的配合下带动一号链轮652与二号链轮655同步进行转动，一号链轮652与二号链轮655在作业中国同步通过一号旋转杆651与二号旋转杆654带动一号齿轮653和二号齿轮656进行转动。

所述搅拌机构5包括通过轴承设置在反应釜壳体1内壁与搅拌支撑架4之间的旋转管51，旋转管51上从上往下等间距设置有搅拌支链52，旋转管51的下端内壁上安装有从动弹簧杆53，从动弹簧杆53上设置有升降杆54，升降杆54上设置有用于驱动搅拌支链52的驱动块55，旋转管51上端外壁处设置有从动齿轮56；

所述搅拌支链52包括设置在旋转管51上的搅拌支架521，搅拌支架521呈E字型结构，搅拌支架521上开设有由上往下开设有三个调节腔体522，搅拌支架521靠近旋转管51的一侧开设有与调节腔体522连通的推送腔体523，旋转管51上开设有与推送腔体523连通的调节孔，调节孔内设置有调节杆524，调节杆524位于推送腔体523的一端上设置有推送板525，调节杆524的另一端设置有三角块，调节腔体522远离推送板525的内壁上设置有调节弹簧杆526，调节弹簧杆526上设置有调节联动杆527，调节联动杆527连接在推送板525上，位于调节腔体522上下两侧的搅拌支架521上均匀设置有伸缩孔，伸缩孔内滑动设置有伸缩杆528，伸缩杆528位于调节腔体522内侧的一端为倾斜结构，且伸缩杆528与调节腔体522的内壁之间设置有伸缩弹簧杆529，调节联动杆527上均匀设置有调节推动块5210。

从动齿轮56开始转动时通过旋转管51带动搅拌支架521进行转动，通过搅拌支架521的转动对反应釜壳体1内的化工原料进行搅拌，当需要提高搅拌速度以及化工原料搅拌的均匀性时，通过驱动气缸61带动驱动板62进行位置调节，驱动板62在调节作业的过程中带动升降杆54同步进行运动，升降杆54在运动过程中带动驱动块55同步调节，驱动块55在调节运动的中对三角块进行挤压，三角块受到挤压后在调节孔内进行滑动，调节孔内在运动中通过推送板525带动调节联动杆527进行调节，调节联动杆527在运动中带动调节推动块5210对伸缩杆528进行挤压，受到挤压后的伸缩杆528伸出到伸缩孔的外部，从而使得搅拌支架521的结构发生变化，减小搅拌支架521的空隙，增多了搅拌支架521的间隙，提高了搅拌支架521与化工原料接触的面积，使得搅拌支架521在作业中对化工原料搅拌的更加充分。

所述温控机构7包括沿端盖2内壁周向均匀设置的电源块71，端盖2的内壁处安装有环形安装架72，环形安装架72内沿其周向均匀设置有与电源块71对应的连接支链73，连接支链73与电源块71之间通过导线74相连；

所述加热机构3包括设置在反应釜壳体1内壁上的加热圈31，加热圈31内沿其周向均匀设置有电热管32，电热管32上端设置有导电柱33，导电柱33延伸至搅拌支撑架4的上侧；

所述按压支链68包括沿驱动板62周向均匀设置的按压弹簧杆681，按压弹簧杆681的下端设置有一级按压块682，驱动板62的下端沿其周向还均匀设置有二级按压块683，所述一级按压块682与所述二级按压块683交错分布。

所述连接支链73包括开设在环形安装架72上下两侧的升降孔，升降孔内滑动设置有导电杆731，导电杆731的上下两端均延伸至环形安装架72的外侧，导电杆731与电源块71之间通过导线74相连，导电杆731与环形安装架72的内壁之间设置有升降弹簧732，导电杆731的上端设置有从动架733。

按压弹簧杆681的弹力大于升降弹簧732的弹力，当一号齿轮653与从动齿轮56啮合时，按压弹簧杆681带动一级按压块682向下对从动架733进行按压，从动架733受到压力后控制导电杆731对接到导电柱33上，通过导电柱33、导电杆731与导线74的配合控制对应数量的电热管32开始工作，电热管32工作后通过加热圈31将热量传递到反应釜壳体1内部对加工的化工原料进行升温，当二号齿轮656与从动齿轮56啮合时，按压弹簧杆681受到挤压，此时一级按压块682按压的导电柱33与导电杆731处于对接状态，按压弹簧杆681进行收缩，二级按压块683向下运动将对应的从动架733向下按压，从而控制剩余的电热管32工作，进一步的提高反应釜壳体1内的温度。

所述出料机构8包括沿反应釜壳体1下端面周向均匀开设的出料口，出料口处设置有控制支链81，反应釜壳体1的下端设置有控制电机82，控制电机82的输出轴上设置有控制齿轮83。

所述控制支链81包括滑动设置在出料口处的联动架811，联动架811的外壁上设置有与控制齿轮83啮合的联动齿轮812，反应釜壳体1的下端沿出料口的周向方向均匀设置有安装杆813，安装杆813上通过轴承设置有控制杆814，控制杆814上设置有用于堵塞出料口的堵塞板815，联动架811的内壁上设置有U型架816，控制杆814远离堵塞板815的一端位于U型架816的内壁之间。

待化工原料在反应釜壳体1内处理完成之后，启动控制电机82带动控制齿轮83进行转动，控制齿轮83在转动的过程中带动联动齿轮812进行旋转，联动齿轮812在运动中通过U型架816带动控制杆814进行角度调节，控制杆814在作业中带动堵塞板815同步调节从而打开出料口使得经过反应处理的滑动原料排出。

以上仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，对于本领域的技术人员来说，本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。