掩模版的图形精度的确定方法以及确定装置

技术领域

本申请涉及半导体领域，具体而言，涉及一种掩模版的图形精度的确定方法、确定装置、计算机可读存储介质、处理器以及电子设备。

背景技术

掩模版制造生产过程的图形位置的精度是至关重要的参数，然而，现有技术中对掩模版的图形精度的测量手段和设备都是很局限很昂贵的。传统低要求的掩模版是通过叠套的方式进行测量，此类方式主要通过对产品的套准标记图形进行影像重合比对，量测其偏移量。当技术升级后，高要求产品精度要求达到nm级别时，掩模版图形位置精度的量测主要是采用国外KLA公司的IPRO设备。IPRO光罩定位测量系统使用的激光和光学光罩提供准确快速的图案定位性能的验证。通过对光罩图案位置误差的全面表征，IPRO可以在高节点光罩的开发和生产期过程中收集数据并将其用于电子束光罩写入仪的校正以及光罩质量控制。采用KLA公司的模型量测算法，IPRO可以高精度地测量目标和多个器件上图案器件上多个特征图案定位误差，提供全面表征信息，减少由掩模引起的器件叠对误差。

因此，现有技术中掩模版的图形精度的量测依赖高成本量测设备，这导致了掩模版的图形精度的量测成本较高。

在背景技术部分中公开的以上信息只是用来加强对本文所描述技术的背景技术的理解，因此，背景技术中可能包含某些信息，这些信息对于本领域技术人员来说并未形成在本国已知的现有技术。

发明内容

本申请的主要目的在于提供一种掩模版的图形精度的确定方法、确定装置、计算机可读存储介质、处理器以及电子设备，以解决现有技术中掩模版的图形精度的量测依赖高成本量测设备，造成图形精度的量测成本较高的问题。

根据本发明实施例的一个方面，提供了一种掩模版的图形精度的确定方法，所述掩模版由有效区域以及坐标标识区域构成，所述坐标标识区域包括第一坐标标识以及第二坐标标识，所述第一坐标标识包括相互垂直的第一标识块以及第二标识块，所述第二坐标标识包括第三标识块以及第四标识块，所述第三标识块与所述第一标识块平行，所述第四标识块与所述第二标识块平行，所述方法包括：获取目标标识间距，所述目标标识间距为待测掩模版的标识间距，所述标识间距包括第一间距以及第二间距，所述第一间距为所述第三标识块与所述第一标识块的之间的最小距离，所述第二间距为所述第四标识块与所述第二标识块之间的最小距离；根据所述目标标识间距，确定目标图形偏移量，所述目标图形偏移量为所述待测掩模版的图形偏移量，所述图形偏移量为所述有效区域的实际位置与设计位置之间的差值。

可选地，根据所述目标标识间距，确定目标图形偏移量，包括：获取所述图形偏移量与所述标识间距的函数关系；根据所述函数关系以及所述目标标识间距，确定所述目标图形偏移量。

可选地，获取所述图形偏移量与所述标识间距的函数关系，包括：获取第一数据集合，所述第一数据集合包括多个所述图形偏移量以及对应的多个所述标识间距；构建初始函数关系式，所初始函数关系式包括未知参数；根据所述第一数据集合，确定所述未知参数，得到所述函数关系。

可选地，根据所述目标标识间距，确定目标图形偏移量，包括：获取神经网络模型；使用所述神经网络模型对所述目标标识间距进行分析，确定所述目标图形偏移量。

可选地，获取神经网络模型，包括：建立初始神经网络模型；获取第二数据集合，所述第二数据集合包括多个所述图形偏移量以及对应的多个所述标识间距；使用所述第二数据集合对所述初始神经网络模型进行训练，得到所述神经网络模型。

根据本发明实施例的另一个方面，还提供了一种掩模版的图形精度的确定装置，所述掩模版由有效区域以及坐标标识区域构成，所述坐标标识区域包括第一坐标标识以及第二坐标标识，所述第一坐标标识包括相互垂直的第一标识块以及第二标识块，所述第二坐标标识包括第三标识块以及第四标识块，所述第三标识块与所述第一标识块平行，所述第四标识块与所述第二标识块平行，所述装置包括获取单元以及确定单元，其中，所述获取单元用于获取目标标识间距，所述目标标识间距为待测掩模版的标识间距，所述标识间距包括第一间距以及第二间距，所述第一间距为所述第三标识块与所述第一标识块的之间的最小距离，所述第二间距为所述第四标识块与所述第二标识块之间的最小距离；所述确定单元用于根据所述目标标识间距，确定目标图形偏移量，所述目标图形偏移量为所述待测掩模版的图形偏移量，所述图形偏移量为所述有效区域的实际位置与设计位置之间的差值。

可选地，所述确定单元包括第一获取模块以及确定模块，其中，所述第一获取模块用于获取所述图形偏移量与所述标识间距的函数关系；所述确定模块用于根据所述函数关系以及所述目标标识间距，确定所述目标图形偏移量。

根据本发明实施例的另一方面，还提供了一种计算机可读存储介质，所述计算机可读存储介质包括存储的程序，其中，所述程序执行任意一种所述的方法。

根据本发明实施例的再一方面，还提供了一种处理器，所述处理器用于运行程序，其中，所述程序运行时执行任意一种所述的方法。

根据本发明实施例的又一方面，还提供了一种电子设备，包括：一个或多个处理器，存储器以及一个或多个程序，其中，所述一个或多个程序被存储在所述存储器中，并且被配置为由所述一个或多个处理器执行，所述一个或多个程序包括用于执行任意一种所述的方法。

根据本发明实施例的技术方案，所述的掩模版的图形精度的确定方法中，待测掩模版包括第一坐标标识和第二坐标标识，第一坐标标识中，第一标识块与第二标识块垂直；所述第二坐标标识中的第三标识块与所述第一标识块平行，所述第二坐标标识中的第四标识块与所述第二标识块平行，该方法首先获取待测掩模版的第一间距和第二间距，其中，所述第一间距为所述第三标识块与所述第一标识块之间的间距，所述第二间距为所述第四标识块与所述第二标识块之间的间距；然后，根据所述间距确定待测掩模版的图形偏移量。本申请所述的方法，通过在掩模版上设计第一坐标标识和第二坐标标识，再根据第一坐标标识与第二坐标标识之间的间距数据，确定图形偏移量，而所述间距数据可以使用现有技术中任意可行的量测设备得到，这样无需依赖IPRO设备及其内部算法，即可确定待测掩模版的图形精度，解决了现有技术中掩模版的图形精度的量测依赖高成本量测设备的问题，保证了掩模版的图形精度的监控成本较低。

附图说明

构成本申请的一部分的说明书附图用来提供对本申请的进一步理解，本申请的示意性实施例及其说明用于解释本申请，并不构成对本申请的不当限定。在附图中：

图1示出了根据本申请的实施例的掩模版的图形精度的确定方法的流程示意图；

图2示出了根据本申请的实施例的坐标标识区的示意图；

图3示出了根据本申请的实施例的掩模版的图形精度的确定装置的示意图。

其中，上述附图包括以下附图标记：

101、第一标识块；102、第二标识块；201、第三标识块；202、第四标识块。

具体实施方式

需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本申请。

为了使本技术领域的人员更好地理解本申请方案，下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分的实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都应当属于本申请保护的范围。

需要说明的是，本申请的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别类似的对象，而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换，以便这里描述的本申请的实施例。此外，术语“包括”和“具有”以及他们的任何变形，意图在于覆盖不排他的包含，例如，包含了一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备不必限于清楚地列出的那些步骤或单元，而是可包括没有清楚地列出的或对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或单元。

应该理解的是，当元件(诸如层、膜、区域、或衬底)描述为在另一元件“上”时，该元件可直接在该另一元件上，或者也可存在中间元件。而且，在说明书以及权利要求书中，当描述有元件“连接”至另一元件时，该元件可“直接连接”至该另一元件，或者通过第三元件“连接”至该另一元件。

正如背景技术中所说的，现有技术中掩模版的图形精度的量测依赖高成本量测设备，造成图形精度的量测成本较高的问题，为了解决上述问题，本申请的一种典型的实施方式中，提供了一种掩模版的图形精度的确定方法、确定装置、计算机可读存储介质、处理器以及电子设备。

根据本申请的实施例，提供了一种掩模版的图形精度的确定方法。

图1是根据本申请实施例的掩模版的图形精度的确定方法的流程图。如图2所示，上述掩模版由有效区域以及坐标标识区域构成，上述坐标标识区域包括第一坐标标识以及第二坐标标识，上述第一坐标标识包括相互垂直的第一标识块101以及第二标识块102，上述第二坐标标识包括第三标识块201以及第四标识块202，上述第三标识块201与上述第一标识块101平行，上述第四标识块202与上述第二标识块102平行，如图1所示，该方法包括以下步骤：

步骤S101，获取目标标识间距，上述目标标识间距为待测掩模版的标识间距，上述标识间距包括第一间距D1以及第二间距D2，上述第一间距D1为上述第三标识块201与上述第一标识块101的之间的最小距离，上述第二间距D2为上述第四标识块202与上述第二标识块102之间的最小距离；

步骤S102，根据上述目标标识间距，确定目标图形偏移量，上述目标图形偏移量为上述待测掩模版的图形偏移量，上述图形偏移量为上述有效区域的实际位置与设计位置之间的差值。

上述的掩模版的图形精度的确定方法中，待测掩模版包括第一坐标标识和第二坐标标识，第一坐标标识中，第一标识块与第二标识块垂直；上述第二坐标标识中的第三标识块与上述第一标识块平行，上述第二坐标标识中的第四标识块与上述第二标识块平行，该方法首先获取待测掩模版的第一间距和第二间距，其中，上述第一间距为上述第三标识块与上述第一标识块之间的间距，上述第二间距为上述第四标识块与上述第二标识块之间的间距；然后，根据上述间距确定待测掩模版的图形偏移量。本申请上述的方法，通过在掩模版上设计第一坐标标识和第二坐标标识，再根据第一坐标标识与第二坐标标识之间的间距数据，确定图形偏移量，而上述间距数据可以使用现有技术中任意可行的量测设备得到，这样无需依赖IPRO设备及其内部算法，即可确定待测掩模版的图形精度，解决了现有技术中掩模版的图形精度的量测依赖高成本量测设备的问题，保证了掩模版的图形精度的监控成本较低。

需要说明的是，上述第一标识块与Y方向平行，上述第二标识快与X方向平行。上述方法通过上述第三标识块与上述第一标识块之间的第一间距，来映射掩模版的有效图形区域在X方向上的偏移量，通过上述第四标识块与上述第二标识块之间的第二间距，来映射上述有效图形区域在Y轴方向上的偏移量。

一种具体的实施例中，上述第一坐标标识和上述第二坐标标识可以构成如图2所示的十字型，当然，上述第一坐标标识和上述第二坐标标识构成的形状并不限于上述的形状，其还可以为L型或者T型或者其他形状，上述第一坐标标识和上述第二坐标标识还可以没有共同的点(即不相交)。上述第三坐标标识和上述第四坐标标识可以构成十字型，还可以构成L型或者T型，也可以如图2所示的，上述第三坐标标识以及上述第四坐标标识没有共同的点，不相交。并且，上述第一坐标标识的数量以及上述第二坐标标识的数量可以为一个，也可以为多个。

为了进一步地保证得到的上述掩模版的图形偏移量较为准确，本申请的再一种具体的实施例中，一个上述第一坐标标识对应多个上述第二坐标标识，各上述第三标识块与上述第一标识块之间的最小距离相同，各上述第四标识块与上述第二标识块之间的最小距离相同。通过获取多个上述第一间距以及多个上述第二间距，再根据多个间距数据确定上述掩模版图形偏移量，这样可以进一步地保证得到的图形偏移量数据较为准确。

根据本申请的一种具体的实施例，根据上述目标标识间距，确定目标图形偏移量，包括：获取上述图形偏移量与上述标识间距的函数关系；根据上述函数关系以及上述目标标识间距，确定上述目标图形偏移量。这样进一步地避免了对高成本的IPRO设备等图形精度确定设备的依赖，进一步地保证了确定掩模版的图形精度的成本较低。

根据本申请的另一种具体的实施例，获取上述图形偏移量与上述标识间距的函数关系，包括：获取第一数据集合，上述第一数据集合包括多个上述图形偏移量以及对应的多个上述标识间距；构建初始函数关系式，所初始函数关系式包括未知参数；根据上述第一数据集合，确定上述未知参数，得到上述函数关系。这样可以较为简单快捷地得到上述函数关系。

具体地，获取上述图形偏移量与上述标识间距的函数关系还可以包括：获取第一数据集合，上述第一数据集合包括多个上述图形偏移量以及对应的多个上述标识间距；对上述第一数据集合进行拟合，得到上述函数关系。

当然，根据目标标识间距确定目标图形偏移量的方法并不限于上述的方法，本领域技术人员可以根据实际情况灵活选择合适的方法来得到上述目标图形偏移量，本申请的又一种具体的实施例中，根据上述目标标识间距，确定目标图形偏移量，包括：获取神经网络模型；使用上述神经网络模型对上述目标标识间距进行分析，确定上述目标图形偏移量。这样进一步地保证了较为简单高效地确定掩模版的图形精度。

为了进一步地保证得到较为准确的图形偏移量，根据本申请的又一种具体的实施例，获取神经网络模型，包括：建立初始神经网络模型；获取第二数据集合，上述第二数据集合包括多个上述图形偏移量以及对应的多个上述标识间距；使用上述第二数据集合对上述初始神经网络模型进行训练，得到上述神经网络模型。这样可以建立较为精准的上述神经网络模型，从而进一步地保证了后续根据上述神经网络模型分析得到的图形偏移量较为准确。

在实际的应用过程中，形成上述掩模版的过程如下：提供预备掩模版，上述预备掩模版包括依次层叠的玻璃基板、铬层以及光刻胶层；绘制掩模版版图文件；使用光刻机读取上述掩模版版图文件，对上述光刻胶进行曝光；经过显影以及定影后，暴露出部分的上述铬层；去除暴露出的上述铬层，再去除剩余的上述光刻胶层，得到上述掩模版。

为了避免上述坐标标识区中的各坐标标识块的边缘粗糙度带来的量测误差，采用干法刻蚀法去除暴露出的上述铬层，这样可以进一步地保证后续图形偏移量的测试结果较为准确。

需要说明的是，在附图的流程图示出的步骤可以在诸如一组计算机可执行指令的计算机系统中执行，并且，虽然在流程图中示出了逻辑顺序，但是在某些情况下，可以以不同于此处的顺序执行所示出或描述的步骤。

本申请实施例还提供了一种掩模版的图形精度的确定装置，需要说明的是，本申请实施例的掩模版的图形精度的确定装置可以用于执行本申请实施例所提供的用于掩模版的图形精度的确定方法。以下对本申请实施例提供的掩模版的图形精度的确定装置进行介绍。

图3是根据本申请实施例的掩模版的图形精度的确定装置的示意图。如图2所示，上述掩模版由有效区域以及坐标标识区域构成，上述坐标标识区域包括第一坐标标识以及第二坐标标识，上述第一坐标标识包括相互垂直的第一标识块101以及第二标识块102，上述第二坐标标识包括第三标识块201以及第四标识块202，上述第三标识块201与上述第一标识块101平行，上述第四标识块202与上述第二标识块102平行，如图3所示，该装置包括获取单元10以及确定单元20，其中，上述获取单元10用于获取目标标识间距，上述目标标识间距为待测掩模版的标识间距，上述标识间距包括第一间距D1以及第二间距D2，上述第一间距D1为上述第三标识块201与上述第一标识块101的之间的最小距离，上述第二间距D2为上述第四标识块202与上述第二标识块102之间的最小距离；上述确定单元用于根据上述目标标识间距，确定目标图形偏移量，上述目标图形偏移量为上述待测掩模版的图形偏移量，上述图形偏移量为上述有效区域的实际位置与设计位置之间的差值。

上述的掩模版的图形精度的确定装置中，待测掩模版包括第一坐标标识和第二坐标标识，第一坐标标识中，第一标识块与第二标识块垂直；上述第二坐标标识中的第三标识块与上述第一标识块平行，上述第二坐标标识中的第四标识块与上述第二标识块平行，该装置首先获取待测掩模版的第一间距和第二间距，其中，上述第一间距为上述第三标识块与上述第一标识块之间的间距，上述第二间距为上述第四标识块与上述第二标识块之间的间距；然后，根据上述间距确定待测掩模版的图形偏移量。本申请上述的装置，通过在掩模版上设计第一坐标标识和第二坐标标识，再根据第一坐标标识与第二坐标标识之间的间距数据，确定图形偏移量，而上述间距数据可以使用现有技术中任意可行的量测设备得到，这样无需依赖IPRO设备及其内部算法，即可确定待测掩模版的图形精度，解决了现有技术中掩模版的图形精度的量测依赖高成本量测设备的问题，保证了掩模版的图形精度的监控成本较低。

一种具体的实施例中，上述第一坐标标识和上述第二坐标标识可以构成如图2所示的十字型，当然，上述第一坐标标识和上述第二坐标标识构成的形状并不限于上述的形状，其还可以为L型或者T型或者其他形状，上述第一坐标标识和上述第二坐标标识还可以没有共同的点(即不相交)。上述第三坐标标识和上述第四坐标标识可以构成十字型，还可以构成L型或者T型，也可以如图2所示的，上述第三坐标标识以及上述第四坐标标识没有共同的点，不相交。并且，上述第一坐标标识的数量以及上述第二坐标标识的数量可以为一个，也可以为多个。

为了进一步地保证得到的上述掩模版的图形偏移量较为准确，本申请的再一种具体的实施例中，一个上述第一坐标标识对应多个上述第二坐标标识，各上述第三标识块与上述第一标识块之间的最小距离相同，各上述第四标识块与上述第二标识块之间的最小距离相同。通过获取多个上述第一间距以及多个上述第二间距，再根据多个间距数据确定上述掩模版图形偏移量，这样可以进一步地保证得到的图形偏移量数据较为准确。

根据本申请的一种具体的实施例，上述确定单元包括第一获取模块以及确定模块，其中，上述第一获取模块用于获取上述图形偏移量与上述标识间距的函数关系；上述确定模块用于根据上述函数关系以及上述目标标识间距，确定上述目标图形偏移量。这样进一步地避免了对高成本的IPRO设备等图形精度确定设备的依赖，进一步地保证了确定掩模版的图形精度的成本较低。

根据本申请的另一种具体的实施例，上述第一获取模块包括第一获取子模块、构建子模块以及确定子模块，其中，上述第一获取子模块用于获取第一数据集合，上述第一数据集合包括多个上述图形偏移量以及对应的多个上述标识间距；上述构建子模块用于构建初始函数关系式，所初始函数关系式包括未知参数；上述确定子模块用于根据上述第一数据集合，确定上述未知参数，得到上述函数关系。这样可以较为简单快捷地得到上述函数关系。

具体地，上述第一获取模块还可以包括第一获取子模块以及拟合子模块，其中，上述第一获取子模块用于获取第一数据集合，上述第一数据集合包括多个上述图形偏移量以及对应的多个上述标识间距；上述拟合子模块用于对上述第一数据集合进行拟合，得到上述函数关系。

当然，根据目标标识间距确定目标图形偏移量的装置并不限于上述的装置，本领域技术人员可以根据实际情况灵活选择合适的装置来得到上述目标图形偏移量，本申请的又一种具体的实施例中，上述确定单元包括第二获取模块以及分析模块，其中，上述第二获取模块用于获取神经网络模型；上述分析模块用于使用上述神经网络模型对上述目标标识间距进行分析，确定上述目标图形偏移量。这样进一步地保证了较为简单高效地确定掩模版的图形精度。

为了进一步地保证得到较为准确的图形偏移量，根据本申请的又一种具体的实施例，上述第二获取模块包括建立子模块、第二获取子模块以及训练子模块，其中，上述建立子模块用于建立初始神经网络模型；上述第二获取子模块用于获取第二数据集合，上述第二数据集合包括多个上述图形偏移量以及对应的多个上述标识间距；上述训练子模块用于使用上述第二数据集合对上述初始神经网络模型进行训练，得到上述神经网络模型。这样可以建立较为精准的上述神经网络模型，从而进一步地保证了后续根据上述神经网络模型分析得到的图形偏移量较为准确。

在实际的应用过程中，形成上述掩模版的过程如下：提供预备掩模版，上述预备掩模版包括依次层叠的玻璃基板、铬层以及光刻胶层；绘制掩模版版图文件；使用光刻机读取上述掩模版版图文件，对上述光刻胶进行曝光；经过显影以及定影后，暴露出部分的上述铬层；去除暴露出的上述铬层，再去除剩余的上述光刻胶层，得到上述掩模版。

为了避免上述坐标标识区中的各坐标标识块的边缘粗糙度带来的量测误差，采用干法刻蚀法去除暴露出的上述铬层，这样可以进一步地保证后续图形偏移量的测试结果较为准确。

上述掩模版的图形精度的确定装置包括处理器和存储器，上述获取单元以及上述确定单元等均作为程序单元存储在存储器中，由处理器执行存储在存储器中的上述程序单元来实现相应的功能。

处理器中包含内核，由内核去存储器中调取相应的程序单元。内核可以设置一个或以上，通过调整内核参数来解决现有技术中掩模版的图形精度的量测依赖高成本量测设备，造成图形精度的量测成本较高的问题。

存储器可能包括计算机可读介质中的非永久性存储器，随机存取存储器(RAM)和/或非易失性内存等形式，如只读存储器(ROM)或闪存(flash RAM)，存储器包括至少一个存储芯片。

本发明实施例提供了一种计算机可读存储介质，其上存储有程序，该程序被处理器执行时实现上述掩模版的图形精度的确定方法。

本发明实施例提供了一种处理器，上述处理器用于运行程序，其中，上述程序运行时执行上述掩模版的图形精度的确定方法。

本发明实施例提供了一种设备，设备包括处理器、存储器及存储在存储器上并可在处理器上运行的程序，处理器执行程序时实现至少以下步骤：

步骤S101，获取目标标识间距，上述目标标识间距为待测掩模版的标识间距，上述标识间距包括第一间距以及第二间距，上述第一间距为上述第三标识块与上述第一标识块的之间的最小距离，上述第二间距为上述第四标识块与上述第二标识块之间的最小距离；

步骤S102，根据上述目标标识间距，确定目标图形偏移量，上述目标图形偏移量为上述待测掩模版的图形偏移量，上述图形偏移量为上述有效区域的实际位置与设计位置之间的差值。

本文中的设备可以是服务器、PC、PAD、手机等。

本申请还提供了一种计算机程序产品，当在数据处理设备上执行时，适于执行初始化有至少如下方法步骤的程序：

步骤S101，获取目标标识间距，上述目标标识间距为待测掩模版的标识间距，上述标识间距包括第一间距以及第二间距，上述第一间距为上述第三标识块与上述第一标识块的之间的最小距离，上述第二间距为上述第四标识块与上述第二标识块之间的最小距离；

步骤S102，根据上述目标标识间距，确定目标图形偏移量，上述目标图形偏移量为上述待测掩模版的图形偏移量，上述图形偏移量为上述有效区域的实际位置与设计位置之间的差值。

在本发明的上述实施例中，对各个实施例的描述都各有侧重，某个实施例中没有详述的部分，可以参见其他实施例的相关描述。

在本申请所提供的几个实施例中，应该理解到，所揭露的技术内容，可通过其它的方式实现。其中，以上所描述的装置实施例仅仅是示意性的，例如上述单元的划分，可以为一种逻辑功能划分，实际实现时可以有另外的划分方式，例如多个单元或组件可以结合或者可以集成到另一个系统，或一些特征可以忽略，或不执行。另一点，所显示或讨论的相互之间的耦合或直接耦合或通信连接可以是通过一些接口，单元或模块的间接耦合或通信连接，可以是电性或其它的形式。

上述作为分离部件说明的单元可以是或者也可以不是物理上分开的，作为单元显示的部件可以是或者也可以不是物理单元，即可以位于一个地方，或者也可以分布到多个单元上。可以根据实际的需要选择其中的部分或者全部单元来实现本实施例方案的目的。

另外，在本发明各个实施例中的各功能单元可以集成在一个处理单元中，也可以是各个单元单独物理存在，也可以两个或两个以上单元集成在一个单元中。上述集成的单元既可以采用硬件的形式实现，也可以采用软件功能单元的形式实现。

上述集成的单元如果以软件功能单元的形式实现并作为独立的产品销售或使用时，可以存储在一个计算机可读取存储介质中。基于这样的理解，本发明的技术方案本质上或者说对现有技术做出贡献的部分或者该技术方案的全部或部分可以以软件产品的形式体现出来，该计算机软件产品存储在一个存储介质中，包括若干指令用以使得一台计算机设备(可为个人计算机、服务器或者网络设备等)执行本发明各个实施例上述方法的全部或部分步骤。而前述的存储介质包括：U盘、只读存储器(ROM，Read-Only Memory)、随机存取存储器(RAM，Random Access Memory)、移动硬盘、磁碟或者光盘等各种可以存储程序代码的介质。

从以上的描述中，可以看出，本申请上述的实施例实现了如下技术效果：

1)、本申请上述的掩模版的图形精度的确定方法中，待测掩模版包括第一坐标标识和第二坐标标识，第一坐标标识中，第一标识块与第二标识块垂直；上述第二坐标标识中的第三标识块与上述第一标识块平行，上述第二坐标标识中的第四标识块与上述第二标识块平行，该方法首先获取待测掩模版的第一间距和第二间距，其中，上述第一间距为上述第三标识块与上述第一标识块之间的间距，上述第二间距为上述第四标识块与上述第二标识块之间的间距；然后，根据上述间距确定待测掩模版的图形偏移量。本申请上述的方法，通过在掩模版上设计第一坐标标识和第二坐标标识，再根据第一坐标标识与第二坐标标识之间的间距数据，确定图形偏移量，而上述间距数据可以使用现有技术中任意可行的量测设备得到，这样无需依赖IPRO设备及其内部算法，即可确定待测掩模版的图形精度，解决了现有技术中掩模版的图形精度的量测依赖高成本量测设备的问题，保证了掩模版的图形精度的监控成本较低。

2)、本申请上述的掩模版的图形精度的确定装置中，待测掩模版包括第一坐标标识和第二坐标标识，第一坐标标识中，第一标识块与第二标识块垂直；上述第二坐标标识中的第三标识块与上述第一标识块平行，上述第二坐标标识中的第四标识块与上述第二标识块平行，该装置首先获取待测掩模版的第一间距和第二间距，其中，上述第一间距为上述第三标识块与上述第一标识块之间的间距，上述第二间距为上述第四标识块与上述第二标识块之间的间距；然后，根据上述间距确定待测掩模版的图形偏移量。本申请上述的装置，通过在掩模版上设计第一坐标标识和第二坐标标识，再根据第一坐标标识与第二坐标标识之间的间距数据，确定图形偏移量，而上述间距数据可以使用现有技术中任意可行的量测设备得到，这样无需依赖IPRO设备及其内部算法，即可确定待测掩模版的图形精度，解决了现有技术中掩模版的图形精度的量测依赖高成本量测设备的问题，保证了掩模版的图形精度的监控成本较低。

以上所述仅为本申请的优选实施例而已，并不用于限制本申请，对于本领域的技术人员来说，本申请可以有各种更改和变化。凡在本申请的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本申请的保护范围之内。