一种等离子刻蚀机用清洗机构

技术领域

本发明属于等离子刻蚀机维护技术领域，尤其涉及一种等离子刻蚀机用清洗机构。

背景技术

等离子刻蚀机，又叫等离子蚀刻机、等离子平面刻蚀机、等离子体刻蚀机、等离子表面处理仪、等离子清洗系统等。等离子刻蚀，是干法刻蚀中最常见的一种形式，其原理是暴露在电子区域的气体形成等离子体，由此产生的电离气体和释放高能电子组成的气体，从而形成了等离子或离子，电离气体原子通过电场加速时，会释放足够的力量与表面驱逐力紧紧粘合材料或蚀刻表面。

等离子刻蚀过程产生复杂的化学反应会对等离子刻蚀机腔室产生影响形成特殊的残留物，需要借助特殊工艺进行定期的清理维护，在一些日常维护过程中会采用高压水枪对等离子刻蚀机腔室进行冲洗，但是等离子刻蚀机腔室内部存在复杂结构无法完全覆盖，无法对等离子刻蚀机腔室内部进行全范围的清洗维护。

发明内容

本发明提供一种等离子刻蚀机用清洗机构，旨在解决目前现有设备无法对等离子刻蚀机腔室内部进行全范围的清洗维护的问题。

本发明是这样实现的，一种等离子刻蚀机用清洗机构，应用于等离子刻蚀机腔室的清洗，包括：

底座，所述底座包括主箱体和吸盘组件；所述吸盘组件设置在主箱体靠近等离子刻蚀机腔室的一面；

承载台，所述承载台上设有清洗头；所述清洗头对外喷射高速射流对等离子刻蚀机腔室的内壁完成清洗；

通过清洗头的旋转完成对等离子刻蚀机腔室内部无死角的清洗覆盖；而所述底座通过吸盘组件吸附在等离子刻蚀机腔室内任意平整区域。

优选地，所述吸盘组件包括：

安装板，所述安装板上设置真空管；

吸盘；所述吸盘包括上背板和胶圈，所述胶圈贴合于等离子刻蚀机腔室内壁，所述上背板固定于安装板；

所述真空管自安装板延伸进入上背板与胶圈包围形成的真空区域。

优选地，所述清洗头为三维旋转喷头。

优选地，所述等离子刻蚀机用清洗机构在清洗过程至少在等离子刻蚀机腔室内壁选取三处不同区域进行固定。

优选地，所述所述底座上设有真空管口，所述真空管口分别通过管道与若干真空管连通，通过真空抽取方式将吸盘组件变成负压状态。

优选地，所述真空管口处设有电磁阀；

本发明还提供了一种等离子刻蚀机用清洗机构的使用方法，包括：

步骤一、将等离子刻蚀机腔室内相关设备进行拆除，并对部分部件进行包裹；

步骤二、选择合适的区域，将底座布置在等离子刻蚀机腔室内部，通过底座上设有的真空管口将吸盘组件内空气抽出，让等离子刻蚀机用清洗机构与等离子刻蚀机腔室紧密连接；

步骤三、依次向底座上的清洗头内部依次输送酸液、碱液和纯水，所述清洗头形成高速射流对等离子刻蚀机腔室内壁进行冲洗，将等离子刻蚀过程中形成氧化物完成清理；

步骤四、在真空管口处解除吸盘组件真空效果，解除等离子刻蚀机用清洗机构与等离子刻蚀机腔室的连接，并重新选取其他区域，重复步骤二和步骤三。

步骤五、将等离子刻蚀机用清洗机构从等离子刻蚀机腔室拆除，并对等离子刻蚀机腔室内壁采用热风机进行烘干处理，将相关设备重新装配回等离子刻蚀机腔室，完成清理工作。

与现有技术相比，本申请实施例主要有以下有益效果：

本发明所提供的等离子刻蚀机用清洗机构通过底座上的吸盘组件帮助等离子刻蚀机用清洗机构固定在等离子刻蚀机腔室内部不同的区域；通过位置变换使得清洗头对更多区域进行不同角度的冲洗，减少清洗头清洗死角，提升等离子刻蚀机用清洗机构的清洗效果。

附图说明

图1是本发明提供的一种等离子刻蚀机用清洗机构的结构示意图。

图2是本发明提供的一种等离子刻蚀机用清洗机构的吸盘组件分步结构示意图。

图3是本发明提供的一种等离子刻蚀机用清洗机构的清洗头结构示意图。

图4是本发明提供的一种等离子刻蚀机用清洗机构的中吸盘组件的结构示意图。

图5是本发明提供的一种等离子刻蚀机用清洗机构的吸盘结构示意图。

图6是本发明提供的一种等离子刻蚀机用清洗机构连接在等离子刻蚀机腔室侧壁结构示意图。

图7是本发明提供的一种等离子刻蚀机用清洗机构连接在等离子刻蚀机腔室底部结构示意图。

附图标记说明：

100、底座；110、主箱体；120、吸盘组件；121、真空管；122、安装板；123、吸盘；1231、上背板；1232、胶圈；130、管道进口；140、真空管口；200、承载台；300、清洗头；310、喷嘴；320、旋转部；330、安装座；400、等离子刻蚀机腔室。

具体实施方式

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本申请技术领域的技术人员通常理解的含义相同；本文中在申请的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本申请；本申请的说明书和权利要求书及上述附图说明中的术语“包括”和“具有”以及它们的任何变形，意图在于覆盖不排他的包含。本申请的说明书和权利要求书或上述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别不同对象，而不是用于描述特定顺序。

在本文中提及“实施例”意味着，结合实施例描述的特定特征、结构或特性可以包含在本申请的至少一个实施例中。在说明书中的各个位置出现该短语并不一定均是指相同的实施例，也不是与其它实施例互斥的独立的或备选的实施例。本领域技术人员显式地和隐式地理解的是，本文所描述的实施例可以与其它实施例相结合。

本发明实施例提供了一种等离子刻蚀机用清洗机构，如图1-图7所示，所述一种等离子刻蚀机用清洗机构，应用于等离子刻蚀机腔室400的清洗，包括：

底座100，所述底座100包括主箱体110和吸盘组件120；所述吸盘组件120设置在主箱体110靠近等离子刻蚀机腔室400的一面；

承载台200，所述承载台200上设有清洗头300；所述清洗头300对外喷射高速射流对等离子刻蚀机腔室400的内壁完成清洗；

所述底座100通过承载台200驱动清洗头300进行旋转，通过清洗头300的360°的旋转完成对等离子刻蚀机腔室400内部无死角的清洗覆盖；而所述底座100则是通过吸盘组件120吸附在等离子刻蚀机腔室400内任意平整区域；

在本实施例中，当等离子刻蚀机腔室400进行刻蚀作业时，所述等离子刻蚀机用清洗机构不参与设备内部刻蚀活动，在进入清理维护阶段时，将等离子刻蚀机腔室400内部设备进行一定程度拆除，随后在等离子刻蚀机腔室400内部选择开阔区域，通过在吸盘组件120将等离子刻蚀机用清洗机构固定在等离子刻蚀机腔室400；在清洗头300喷射出的高速射流作用下对等离子刻蚀机腔室400的内壁进行深度清洗；

所述等离子刻蚀机腔室400内部预先布置供液管路，所述供液管路与底座100上设有管道进口130连通，清洗头300将清供液管路输送进来的清洗液形成高速射流，并且通过三维旋转覆盖等离子刻蚀机腔室400内部所有区域；所述清洗液由多种成分清洗液形成，分别为酸液、碱液和纯水构成，在进行清洗维护时，所述等离子刻蚀机腔室400内部设施会进行拆除，仅保留主要箱体，一些不耐酸碱腐蚀性无法拆除结构需要采用耐酸碱腐蚀性保护膜进行保护，向清洗头300内依次加注酸液、碱液和纯水，在清洗头300的作用下形成高速射流冲击下对等离子刻蚀机腔室400内部完成清洗；清洗液由不同储液罐进行存储，并依靠高压输送泵送入供液管道，所述供液管道在依次输送到喷嘴310上；

在本实施例中，所述清洗头300为三维旋转喷头，主要包括喷嘴310、旋转部320和安装座330，所述喷嘴310与旋转部320转动连接，所述旋转部320与安装座330转动连接，所述清洗头300具备360°覆盖能力；与现有技术中的三维洗罐器的高压清洗头结构原理相同，也可以采用其他具备360°转动能力的喷头结构进行替代；本申请中不再进行详细阐述；

作为本实施例中一种优选的实施方式，所述底座100固定地点可以由工作人员进行选定，清洗过程每次更换不低于三个地点；

作为本实施例中一种优选的实施方式，所述吸盘组件120包括：

安装板122，所述安装板122上设置真空管121；

吸盘123；所述吸盘123包括上背板1231和胶圈1232，所述真空管121自安装板122延伸进入上背板1231与胶圈1232包围形成的真空区域；

所述胶圈1232远离上背板1231的一面贴合于等离子刻蚀机腔室400内壁，所述真空管121在外部设有的真空设备作用下将上背板1231与胶圈1232包围形成的真空区域中空气抽出，在大气压作用下，所述胶圈1232被压合于等离子刻蚀机腔室400内壁，完成等离子刻蚀机用清洗机构与等离子刻蚀机腔室400结合的目的；

在本实施例中，所述吸盘组件120数量不低于四组分布于底座100四个边角处，所述吸盘组件120可以帮助等离子刻蚀机用清洗机构固定在等离子刻蚀机腔室400内部不同的区域；通过位置变换使得清洗头300对更多区域进行不同角度的冲洗，提升等离子刻蚀机用清洗机构的清洗效果；

本发明还提供了一种等离子刻蚀机用清洗机构的使用方法，包括：

步骤一、将等离子刻蚀机腔室400内相关设备进行拆除，并对部分部件进行包裹；

步骤二、选择合适的区域，将底座100布置在等离子刻蚀机腔室400内部，通过底座100上设有的真空管口140将吸盘组件120内空气抽出，让等离子刻蚀机用清洗机构与等离子刻蚀机腔室400紧密连接；

步骤三、依次向底座100上的清洗头300内部依次输送酸液、碱液和纯水，所述清洗头300形成高速射流对等离子刻蚀机腔室400内壁进行冲洗，将等离子刻蚀过程中形成氧化物完成清理；

步骤四、在真空管口140处解除吸盘组件120真空效果，解除等离子刻蚀机用清洗机构与等离子刻蚀机腔室400的连接，并重新选取其他区域，重复步骤二和步骤三。

步骤五、将等离子刻蚀机用清洗机构从等离子刻蚀机腔室400拆除，并对等离子刻蚀机腔室400内壁采用热风机进行烘干处理，将相关设备重新装配回等离子刻蚀机腔室400，完成清理工作。

在本实施例中，所述底座100上设有真空管口140，所述真空管口140分别通过管道与若干真空管121连通，所述真空管口140可以直接与外接的真空设备连接，通过真空抽取方式将吸盘组件120变成负压状态，且所述真空管口140处设有电磁阀，完成真空后可以通过电磁阀切断管路连通，并将外接管路从真空管口140处拆除，不影响清洗过程；

需要说明的是，对于前述的各实施例，为了简单描述，故将其都表述为一系列的动作组合，但是本领域技术人员应该知悉，本发明并不受所描述的动作顺序的限制，因为依据本发明，某些步骤可能采用其他顺序或者同时进行。其次，本领域技术人员也应该知悉，说明书中所描述的实施例均属于优选实施例，涉及的动作和模块并不一定是本发明所必须的。

以上实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对发明的保护范围进行限制。显然，所描述的实施例仅仅是本发明部分实施例，而不是全部实施例。基于这些实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明所要保护的范围。尽管参照上述实施例对本发明进行了详细的说明，本领域普通技术人员依然可以在不冲突的情况下，不作出创造性劳动对本发明各实施例中的特征根据情况相互组合、增删或作其他调整，从而得到不同的、本质未脱离本发明的构思的其他技术方案，这些技术方案也同样属于本发明所要保护的范围。