小异厚差高颜色均匀性的超精细纳米涂层制备工艺

技术领域

本发明涉及表面处理技术，特别涉及产品表面纳米涂层制备技术及使用装配，具体的，是一种小异厚差高颜色均匀性的超精细纳米涂层制备工艺。

背景技术

产品表面纳米涂层制备过程中，产品装载至挂具上后，推入表面纳米涂层制备炉，产品受靶材原子撞击，形成纳米涂层，部分场合中，产品表面需要形成均匀的纳米涂层，现阶段的方式，采用进行多次处理，即进行产品的一个方向挂设后，推入表面纳米涂层制备炉，进行当前方向纳米涂层制备，后再进行下一方向的挂设、纳米涂层制备，直至全方向都接收纳米涂层制备，存在问题：

1)各个方向的衔接处，存在重叠或漏空，重叠导致当前区域膜厚大，漏空导致当前区域无纳米涂层，产品表面纳米涂层均匀性不足或存在物纳米涂层区产品不合格；

2)纳米涂层的厚度和有无纳米涂层，显示不同颜色，现阶段的制备方法，无法保证产品颜色的一致性。

因此，需要提供一种小异厚差高颜色均匀性的超精细纳米涂层制备工艺来解决上述问题。

发明内容

本发明的目的是提供一种小异厚差高颜色均匀性的超精细纳米涂层制备工艺。

本发明通过如下技术方案实现上述目的：

一种小异厚差高颜色均匀性的超精细纳米涂层制备工艺，步骤包括：

1)将产品挂设于自旋转治具上；

2)推入纳米涂层制备炉；

3)自旋转治具接入纳米涂层制备炉的转动驱动，整体进行转动；

4)同步的，自旋转治具上的产品进行自转，自转过程中，产品表面的每个区域接收同样时长的靶材原子撞击；

5)产品表面的每个区域受相同时间靶材原子撞击过程，形成膜厚差异≤0.1μm超精细小异厚差纳米涂层；

5-1)产品表面的每个区域受相同时间靶材原子撞击过程，形成颜色均匀性△E≤0.5的高颜色均匀性纳米涂层；

5-2)形成小异厚差高颜色均匀性的超精细纳米涂层。

进一步的，产品以2-8s每圈速度进行自转。

进一步的，产品以5s每圈速度进行自转。

进一步的，自旋转治具以4-12s每圈速度进行公转。

进一步的，自旋转治具包括挂具架，挂具架上均匀设置有若干挂具模块，挂具模块包括转动设置于挂具架上的转动单架，转动单架下部设置有产品公转驱动接入部，转动单架上设置有若干产品挂柱，转动单架底部还对应产品挂柱设置有产品自转驱动结构。

进一步的，产品自转驱动结构包括连接于产品挂柱上的自转行星轮，对应自转行星轮设置自转轨迹轮。

进一步的，自转行星轮在转动单架进行转动时，以对应的以自转轨迹轮为参照，进行自转，公转自转一体化结构。

进一步的，自转轨迹轮为圆盘体，每个自转行星轮表面对接圆盘体轨迹槽的内表面。

进一步的，圆盘体上还设置有圆盘转动阻挡体。

与现有技术相比，本发明将产品设置为可自转方式，在进行表面纳米涂层制备时，产品表面的每个区域受相同时间靶材原子撞击过程，形成异厚差高颜色均匀性的超精细纳米涂层。

附图说明

图1是自旋转治具的结构示意图。

图2是产品自转驱动结构的示意图。

具体实施方式

实施例1：

本实施例展示一种小异厚差高颜色均匀性的超精细纳米涂层制备工艺，步骤包括：

1)将产品挂设于自旋转治具上；

2)推入纳米涂层制备炉；

3)自旋转治具接入纳米涂层制备炉的转动驱动，整体进行转动；

4)同步的，自旋转治具上的产品进行自转，自转过程中，产品表面的每个区域接收同样时长的靶材原子撞击；

5)产品表面的每个区域受相同时间靶材原子撞击过程，形成膜厚差异≤0.1μm超精细小异厚差纳米涂层；

5-1)产品表面的每个区域受相同时间靶材原子撞击过程，形成颜色均匀性△E≤0.5的高颜色均匀性纳米涂层；

5-2)形成小异厚差高颜色均匀性的超精细纳米涂层。

其中：产品以2-8s每圈速度进行自转。

产品以5s每圈速度进行自转。

自旋转治具以4-12s每圈速度进行公转。

实施例2：

参阅图1-2，本实施例展示一种自旋转治具，包括挂具架，挂具架上均匀设置有若干挂具模块100，挂具模块包括转动设置于挂具架上的转动单架1，转动单架1下部设置有产品公转驱动接入部2，转动单架1上设置有若干产品挂柱3，转动单架1底部还对应产品挂柱3设置有产品自转驱动结构4。

产品自转驱动结构4包括连接于产品挂柱3上的自转行星轮41，对应自转行星轮41设置自转轨迹轮42。

自转行星轮41在转动单架1进行转动时，以对应的以自转轨迹轮42为参照，进行自转，公转自转一体化结构。

自转轨迹轮42为圆盘体，每个自转行星轮41表面对接圆盘体的轨迹槽43的内表面。

圆盘体上还设置有圆盘转动阻挡体44。

与现有技术相比，本发明将产品设置为可自转方式，在进行表面纳米涂层制备时，产品表面的每个区域受相同时间靶材原子撞击过程，形成异厚差高颜色均匀性的超精细纳米涂层。

以上所述的仅是本发明的一些实施方式。对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明创造构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。