一种插层MoO3材料及其制备方法

技术领域

本发明涉及材料制备技术领域，尤其涉及一种插层MoO

背景技术

将客体材料插入主体层状材料的范德华间隙可以调整主体材料的结构、物理和化学性质。MoO

目前这种插层材料的制备过程都需要桥接剂，例如可以采用吡嗪作为桥接剂，来制备微米级MoO

因此，现有技术还有待于改进和发展。

发明内容

鉴于上述现有技术的不足，本发明提供了一种插层MoO

本发明为解决上述技术问题所采用的技术方案如下：

一种插层MoO

将α-MoO

将所述含有氧空位的MoO

本发明选择亚甲基蓝溶液MB作为桥接剂，会使20纳米左右的MoO

优选的，所述含有氧空位的MoO

具体的，本发明中含有氧空位的MoO

优选的，所述将所述含有氧空位的MoO

向亚甲基蓝溶液加入含有氧空位的MoO

具体的，由MoO

优选的，采用乙醇、去离子水中的一种或两种对所述沉淀进行清洗处理。

优选的，所述静置处理的时间为3～24小时。

优选的，所述液相剥离溶剂包括N-甲基吡咯烷酮和水。

具体的，本发明中N-甲基吡咯烷酮NMP和水作为液相剥离溶剂，块状α-MoO

优选的，所述N-甲基吡咯烷酮和水的质量比为1:1～2:1。

优选的，所述将α-MoO

一种本发明上述制备方法所制备得到的插层MoO

优选的，所述插层MoO

有益效果：

本发明公开了一种插层MoO

附图说明

图1为本发明方法制备插层MoO

图2为本发明实施例冻干MoO

图3为本发明实施例静置3小时的MoO

图4为本发明实施例静置3小时的MoO

图5为本发明实施例静置0.5小时的MoO

图6为本发明实施例静置3小时的MoO

图7为本发明实施例MoO

图8为本发明实施例MB-MoO

图9为其他形貌的MB-MoO

具体实施方式

本发明提供一种插层MoO

本发明提供了一种插层MoO

将α-MoO

将所述含有氧空位的MoO

在一些实施方式中，所述含有氧空位的MoO

在一些实施方式中，所述将所述含有氧空位的MoO

向亚甲基蓝溶液加入含有氧空位的MoO

在一些实施方式中，采用乙醇、去离子水中的一种或两种对所述沉淀进行清洗处理。

在一些实施方式中，所述静置处理的时间为3～24小时，例如，3小时，5小时，7小时，9小时，13小时，17小时，20小时，24小时。

在一些实施方式中，所述液相剥离溶剂包括N-甲基吡咯烷酮和水。

在一些实施方式中，所述N-甲基吡咯烷酮和水的质量比为1:1～2:1。在一些实施方式中，N-甲基吡咯烷酮和水的质量比为1：1。

在一些实施方式中，所述将α-MoO

在一些优选的实施方式中，所述所述加热温度为120摄氏度，加热时间为3小时，所述离心转速为10000转/分钟，离心时间为10分钟。

在一些实施方式中，还提供采用本发明上述方案所述的制备方法而制备得到的插层MoO

在一些实施方式中，所述插层MoO

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例，仅在于说明本发明而决不限制本发明。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

实施例

一种插层MoO

MoO

MB-MoO

性能检测试验

对本发明实施例制备的MoO

本发明实施例制备的MB-MoO

对本发明实施例制备的MB-MoO

具体的，从图5也可以看出MB-MoO

对本发明实施例制备的MoO

本发明制备的MB-MoO

综上所述，本发明提供的一种插层MoO

应当理解的是，本发明的应用不限于上述的举例，对本领域普通技术人员来说，可以根据上述说明加以改进或变换，所有这些改进和变换都应属于本发明所附权利要求的保护范围。