涂布装置的流体控制结构

技术领域

本发明涉及一种涂布装置，特别涉及一种涂布装置的流体控制结构。

背景技术

现有技术的涂布设备中，用来控制流体的供给方式，通常使用的是空气脉冲方式，或根据流体材料特性选择的喷射方式、容积计量方式、以及推进器方式等等。而当涂布设备在停止流体供给时，由于残留压力使得在针头供液口处的流体仍会继续流往涂布面，因此，现有技术控制流体供停的技术，存在造成涂布面的涂布区的流体厚度或大小不均匀的缺点。

为解决上述问题，因此有改良流体供停的方式被提出，其中，较佳的改良者的特征在于使用二片陶瓷垫片做为控制流体供停的技术手段，其主要技术内容为在各个陶瓷垫片中心处分别开设有圆孔，通过控制陶瓷垫片的相对位置来控制流体供给和停止。当二片陶瓷垫片的轴心错位(dislocation)时，停止供给流体；当二片陶瓷垫片轴心位在同轴位置(coaxial)时供给流体，达到瞬间开关的控制功能。惟此一改良需另外加设陶瓷垫片控制模块，以致机构设计较为复杂，也有不符经济效益的缺点。

本发明有鉴于上述各现有技术的缺点，乃亟思更优异的改良，在经由不断的研究实验后，始成功研发完成本发明的涂布装置的流体控制结构。

发明内容

为了改良前述现有技术的缺失，达到精确且快速地控制流体供给和停止，提升涂布效果的目的，本发明提供了一种涂布装置的流体控制结构。

本发明揭露一种涂布装置的流体控制结构，包含：一涂布单元、一流体供给单元以及一控制单元，流体供给单元连接涂布单元以供给涂布使用的流体，通过控制单元连接流体供给单元可调节供给流体的压力，且利用控制单元控制涂布单元进行涂布工程。

其中，流体供给单元包括供液件和液室。

涂布单元包括一针头、一顶针和阀体，阀体开设有一容置空间供容设针头和顶针。针头形成一中空状空间，一端开设有一喷嘴，中空状空间朝喷嘴方向呈渐缩锥度；控制单元控制一传动件带动顶针在阀体的容置空间内上下位移，顶针具有与针头内径相同的渐缩锥度，达到如同开关作用般地控制流体供给和停止。

前述的控制单元可以控制顶针位移的速度和位置，如流速计般地调节流体的供应量，供应量的多少视实际情况调节，或者完全停止供给。

前述的针头的喷嘴形状根据不同的应用场合，可配合变更设计以达到最佳的涂布效果。

前述的顶针配合针头的喷嘴形状，使用不同的锥度。

本发明的涂布装置可应用在底部填充、晶圆精密封装、LED(light-emittingdiode，发光二极管)荧光胶高速填充、焊晶(die bond)银胶、锡膏精密涂布、LCD Tuffy(液晶显示器蓝胶)、遮光胶无接触涂布、触控面板侧喷保护、软板芯片电阻电容保护、以及PUR(聚氨酯)热熔胶细线喷涂等等。

通过本发明的涂布装置的流体控制结构，即可在所应用制程上的快速和精准的涂布在指定的位置，不会产生滴漏或垂流的现象，达到更佳的涂布效果。

附图说明

图1为本发明的涂布装置的流体控制结构的应用示意图；

图2为本发明的涂布控制的示意图；

图3A为本发明另一不同结构针头的立体-剖面图；

图3B为本发明另一不同结构针头的立体-剖面图；

图4A为本发明不同锥度的顶针的示意图；

图4B为本发明另一不同锥度的顶针的示意图；

图5为本发明的流体控制结构开启状态的剖面示意图；

图6为本发明的流体控制结构关闭状态的剖面示意图；

图7A为本发明的实际涂布的胶层形状俯视图；

图7B为本发明的实际涂布的胶层厚度侧视图。

附图标记说明：

1：涂布单元；10：针头；101：容置空间；102：喷嘴；11：顶针；12：阀体；2：流体供给单元；3：控制单元；5：涂布面；51：胶层。

具体实施方式

为了使所属技术领域中具有通常识者能够充分了解本发明的技术特征、内容与优点及其所能达到的功效，兹将本发明配合附图，并以实施例的表达形式详细说明如下，而其中所使用的图式，其主旨仅为示意及辅助说明书之用，未必为本发明实施后的真实比例与精准配置，故不应就所附的图式的比例与配置关系解读、局限本发明于实际实施上的权利范围。

请参阅图1、2，为本发明的涂布装置的流体控制结构和控制示意图，涂布装置的流体控制结构包含：一涂布单元1、一流体供给单元2以及一控制单元3，流体供给单元2连接涂布单元1以供给涂布使用的流体，通过控制单元3连接流体供给单元2可调节供给流体的压力，且利用控制单元3控制涂布单元1进行涂布制程。

在一可选实施例中，上述的流体供给单元2由供液件(图中未示)和液室(图中未示)组成，涂布流体由供液件输送至液室，再由液室供给至针头10。

请同时参阅图4A、4B，涂布单元1包括一针头10、一顶针11和阀体12，阀体12开设有一容置空间供容设针头10和顶针11。针头10形成一中空状空间101，一端开设一喷嘴102，中空状空间101朝喷嘴102方向呈渐缩锥度；控制单元3控制一传动件(图中未示)带动顶针11在针头10的中空状空间101上下位移，且具有与针头10内径相同的渐缩锥度，达到如同开关作用般地控制流体的供给量或停止供给。

图3A为本发明的针头10的立体示意图和剖面图，由图中可知，针头10内部空间沿喷嘴102方向呈渐缩锥度，其中，喷嘴102呈细长结构，适用于狭缝式涂布的场合。图3B为另一种型式针头10的立体示意图和剖面图，由图中同样可知，针头10内部空间沿喷嘴102方向呈渐缩锥度，喷嘴102为一般高度的型态，适用于一般平整涂布面的场合。

图4A为本发明顶针11的结构示意图，此一实施例中的顶针11，与传动件连接的一端呈圆柱状，另一端与针头10搭配使用，呈尖锥构造。图4B为不同锥度的顶针11的结构示意图，此实施例中的顶针11，与传动件连接的一端呈圆柱状，另一端与针头10搭配使用，呈弧形尖锥构造。

请再参阅图5，为本发明涂布装置的流体控制结构呈开启状态(供给流体)时的剖面示意图，当流体经由液室连接至喷嘴，于进行涂布制程时，由于本发明使用常压所以流体因压力作用而被挤至液室，液室内的流体即流到针头10前端的喷嘴102，对涂布面5进行涂布。

图6所示，为当停止供给流体时，顶针11向下移动至与针头10的渐缩锥度接触的位置，此时，由于顶针11的尖锥结构设计，余留在喷嘴102口的流体，不会被顶针11挤到涂布面5，所以，涂布面5形成一致且平整的塑形，得到良好的涂布质量。

本发明涂布装置的流体控制结构实际装设使用在机台时，涂布作业配合利用控制单元3经由程控，控制单元3同时控制面板做水平移动，在图7A、7B所示为使用本发明涂布装置的流体控制结构在设定的作业区域中进行涂布实际完成的样品，在涂布制程中，当要在已经涂布有横线的区域涂布直线时，在针头到达横线和直线的交错点位置处，顶针即向下移动关闭流体供给，过了交错点位置后，顶针再向上移动开启流体供给，因此在横线和直线的交错点位置处所涂布的流体呈现均匀一致的形状。

图7A的棋盘状涂布结果即是利用本发明针头和顶针具有锥度的结构特征所完成在涂布面5的实际涂布形状图，胶层51一致均匀。图7B为实际涂布的胶层厚度图，胶层平整一致。

在一可选实施例中，针头的喷嘴形状根据不同的应用场合做更换。

在一可选实施例中，顶针为陶瓷材质或钨钢材质。

在一可选实施例中，顶针配合针头的喷嘴形状，使用不同的锥度。前述锥度呈尖锥或弧形尖锥构造。

由以上的实施例可知，本发明的特征在于涂布结构的改良，通过顶针与针头的尖状锥形构造，达到开关调节控制流体的供给，涂布制程和功效更快速和精准。

以上所述仅为举例性，用以说明本发明的技术内容的可行具体实施例，而非用于限制本发明。本发明所属技领域具有通常知识者基于说明书中所揭示内容的教示所为的等效置换、修改或变更，均包含于本发明的申请专利范围中，未脱离本发明的权利范畴。