显示面板的制备方法及显示面板

技术领域

本申请设计显示设备技术领域，具体涉及显示面板的制备方法及显示面板。

背景技术

在现有的液晶显示器中，在同一个光罩内同时做不同的产品，可以灵活应对市场，提高竞争力，满足不同客户的需求。

然而，存在不同的产品客户要求的规格不一样，会使得在同一个光罩内生产存在兼容问题。

发明内容

第一方面，本申请提供了一种显示面板的制备方法，所述显示面板的制备方法包括：

提供第一透明基板；

在所述第一透明基板的一侧形成彼此绝缘的第一导电层及第二导电层，其中，所述第二导电层相较于所述第一导电层背离所述第一透明基板；

形成位于所述第二导电层一侧的色阻胚层；

对位于不同产品设计区的所述色阻胚层进行曝光，以得到多个色阻层，其中，不同的所述色阻层位于开口区的厚度不同，位于非开口区的厚度相同；

在所述色阻层对应非开口区形成过孔，以显露部分第二导电层；及

在所述色阻层背离所述第一透明基板的一侧形成透明导电层，所述透明导电层部分位于所述过孔且电连接所述第二导电层。

其中，所述色阻胚层包括第一色阻胚层及第二色阻胚层，所述对位于不同产品设计区的所述色阻胚层进行曝光，以得到多个色阻层，其中，不同的所述色阻层位于开口区的厚度不同，位于非开口区的厚度相同，包括：

采用第一照光强度对所述第一色阻胚层的第一非开口区及所述第二色阻胚层的第二非开口区进行曝光，其中，所述第二色阻胚层与所述第一色阻胚层为同性光阻；及

采用第二照光强度对所述第二色阻胚层的第二开口区进行曝光，并采用第三照光强度对所述第一色阻胚层的第一开口区进行曝光，其中，所述第二照光强度与所述第三照光强度不同。

其中，当所述第一色阻胚层及所述第二色阻胚层为负性光阻时，所述对位于不同产品设计区的所述色阻胚层进行曝光，以得到多个色阻层，其中，不同的所述色阻层位于开口区的厚度不同，位于非开口区的厚度相同，还包括：

控制所述第三照光强度大于所述第二照光强度；

所述在所述色阻层对应非开口区形成过孔，以显露部分第二导电层，包括：

采用第四照光强度对所述第一非开口区的部分区域进行曝光形成第一过孔，并采用所述第四照光强度对所述第二非开口区的部分区域进行曝光形成第二过孔，以显露部分第二导电层。

其中，所述对位于不同产品设计区的所述色阻胚层进行曝光，以得到多个色阻层，其中，不同的所述色阻层位于开口区的厚度不同，位于非开口区的厚度相同，还包括：

控制所述第一照光强度等于所述第三照光强度，或者，控制所述第一照光强度等于所述第二照光强度。

其中，所述对位于不同产品设计区的所述色阻胚层进行曝光，以得到多个色阻层，其中，不同的所述色阻层位于开口区的厚度不同，位于非开口区的厚度相同，还包括：

控制所述第一照光强度为100％照光强度；

所述在所述色阻层对应非开口区形成过孔，以显露部分第二导电层，还包括：

控制所述第四照光强度为0％照光强度。

其中，所述对位于不同产品设计区的所述色阻胚层进行曝光，以得到多个色阻层，其中，不同的所述色阻层位于开口区的厚度不同，位于非开口区的厚度相同，还包括：

控制所述第一照光强度大于或等于照光强度阈值，其中，大于所述照光强度阈值的照光强度与所述照光强度阈值相比，所述第一色阻胚层及所述第二色阻胚层被照射的区域生成的厚度相同。

其中，在所述对位于不同产品设计区的所述色阻胚层进行曝光，以得到多个色阻层，其中，不同的所述色阻层位于开口区的厚度不同，位于非开口区的厚度相同之后，所述显示面板的制备方法还包括：

在所述色阻层上设置间隔胚层；及

采用第五照光强度对所述间隔胚层进行曝光显影，以形成厚度相同的多个主间隔垫，其中，所述主间隔垫位于所述非开口区。

其中，在所述在所述色阻层上设置间隔胚层之后，所述显示面板的制备方法还包括：

采用第五照光强度对所述间隔胚层进行曝光显影，以形成厚度相同的多个次间隔垫，其中，所述次间隔垫与所述主间隔垫的厚度相同，所述次间隔垫位于所述非开口区和/或所述开口区。

其中，在所述采用第五照光强度对所述间隔胚层进行曝光显影，以形成厚度相同的多个主间隔垫，其中，所述主间隔垫位于所述非开口区之后，所述显示面板的制备方法还包括：

在所述多个主间隔垫的一侧设置第二透明基板，其中，所述第二透明基板抵接所述多个主间隔垫；及

进行切割以得到多种产品。

其中，所述在所述第一透明基板的一侧形成彼此绝缘的第一导电层及第二导电层，其中，所述第二导电层相较于所述第一导电层背离所述第一透明基板，包括：

在所述第一透明基板的一侧第一胚层，并对所述第一胚层进行曝光，以得到由第一绝缘层包裹的第一导电层，其中，所述主间隔垫在所述第一透明基板的正投影至少部分为位于所述第一导电层所在的区域内；及

在所述第一绝缘层背离所述第一透明基板的一侧设置第二胚层，并对所述第二胚层进行曝光，以得到由第二绝缘层包裹的第二导电层，其中，所述第二导电层与所述第一导电层绝缘。

本申请实施方式提供的显示面板1的制备方法在同一个第一透明基板上制备多种产品，且不同产品的开口区的色阻厚度不同，以使得不同种产品具有不同的色域，同时不同产品的非开口区的色阻厚度相同，以有利于不同种的产品在所述非开口区形成孔径相同的过孔，从而提高了所述显示面板的品质，进而解决了在同一个光罩内生产多种色域的产品的兼容问题。因此，本申请实施方式提供的显示面板的制备方法能够利用同一个光罩实现多种不同色域的产品的制备，且多种产品的品质保持一致。

第二方面，本申请还提供了一种显示面板，所述显示面板由第一方面所述的显示面板的制备方法制备而成。

本申请实施方式提供的显示面板对应第一方面提供的显示面板的制备方法制备所得到的产品，即，多种不同色域的所述显示面板能够通过所述显示面板的制备方法利用同一个光罩制备得到，且多种不同色域的所述显示面板的品质能够保持一致。因此，本申请提供的显示面板的制备成本低，且多种不同色域的所述显示面板的品质能够保持一致。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例的技术方案，下面将对实施方式中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本申请一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本申请一实施方式提供的显示面板的制备方法的流程图。

图2为图1中制备的显示面板的俯视图。

图3为图2中显示面板的层叠结构示意图。

图4为图2中显示面板的开口区及非开口区的示意图。

图5为图2中显示面板的色阻层的三色分布示意图。

图6为图1中对色阻胚层进行曝光的流程图。

图7为图6中曝光生成不同产品的开口区及非开口区的示意图。

图8为图6中控制第二照光强度及第三照光强度的流程图。

图9为图1中形成过孔的流程图。

图10为图6中一实施方式控制第一照光强度的流程图。

图11为本申请一实施方式中色阻厚度与照光强度的关系示意图。

图12为图6中另一实施方式控制第一照光强度的流程图。

图13为图1中控制第四照光强度的流程图。

图14为图6中又一实施方式控制第一照光强度的流程图。

图15为图1中制备主间隔垫的流程图。

图16为图1中制备次主间隔垫的流程图。

图17为图1中得到多种产品的流程图。

图18为图1中制备第一导电层及第二导电层的流程图。

附图标号：显示面板1；第一透明基板10；第一导电层20；第二导电层30；色阻层40；开口区41；第一开口区411；第二开口区412；非开口区42；第一非开口区421；第二非开口区422；过孔43；第一过孔431；第二过孔432；第一色阻层44；第二色阻层45；红色层46；绿色层47；蓝色层48；主间隔垫50；次间隔垫60；第二透明基板70；第一绝缘层80；第二绝缘层90；透明导电层100；产品2；第一产品21；第二产品22；第一照光强度L1；第二照光强度L2；第三照光强度L3；第四照光强度L4；照光强度阈值Lm。

具体实施方式

下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有付出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

本申请的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别不同对象，而不是用于描述特定顺序。此外，术语“包括”和“具有”以及它们任何变形，意图在于覆盖不排他的包含。例如包含了一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备没有限定于已列出的步骤或单元，而是可选地还包括没有列出的步骤或单元，或可选地还包括对于这些过程、方法、产品或设备固有的其他步骤或单元。

在本文中提及“实施例”或“实施方式”意味着，结合实施例或实施方式描述的特定特征、结构或特性可以包含在本申请的至少一个实施例中。在说明书中的各个位置出现该短语并不一定均是指相同的实施例，也不是与其它实施例互斥的独立的或备选的实施例。本领域技术人员显式地和隐式地理解的是，本文所描述的实施例可以与其它实施例相结合。

本申请提供了一种显示面板1的制备方法。请一并参照图1、图2、图3、图4及图5，图1为本申请一实施方式提供的显示面板的制备方法的流程图；图2为图1中制备的显示面板的俯视图；图3为图2中显示面板的层叠结构示意图；图4为图2中显示面板的开口区及非开口区的示意图；图5为图2中显示面板的色阻层的三色分布示意图。在本实施方式中，所述显示面板1的制备方法包括步骤S10、S20、S30、S40、S50及S60。在本实施方式中，制备的所述显示面板1为液晶显示面板1，所述显示面板1应用于液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)。在本实施方式中，利用同一个光罩(mask)制备多种产品2，且不同种产品2具有不同的色域，且不同产品2的非开口区42的厚度相同，从而有利于使得不同产品2的过孔43大小均相同，进而改善面板品质，使得多组产品的品质能保持一致。具体地请参照如下步骤。

S10，提供第一透明基板10。

在本实施方式中，所述第一透明基板10为阵列玻璃(Array Glass)。

S20，在所述第一透明基板10的一侧形成彼此绝缘的第一导电层20及第二导电层30，其中，所述第二导电层30相较于所述第一导电层20背离所述第一透明基板10。

在本实施方式中，所述第一导电层20可以为但不限于为金属导体材料或半导体材料等。所述第二导电层30可以为但不限于为金属导体材料或半导体材料。

S30，形成位于所述第二导电层30一侧的色阻胚层。

在本实施方式中，用同一个色阻胚层制备多种产品2，制备效率更高，且制备成本低。

S40，对位于不同产品设计区的所述色阻胚层进行曝光，以得到多个色阻层40。

在本实施方式中，不同产品设计区的所述色阻胚层对应制备不同色域的产品2，在对不同产品设计区的所述色阻胚层进行曝光后，能够得到多种产品2对应的多个色阻层40。其中，不同的所述色阻层40位于开口区41的厚度不同，位于非开口区42的厚度相同，即，不同的产品2在所述开口区41的色阻厚度不同以实现不同的产品2具有不同的色域，且不同的产品2在所述非开口区42的色阻厚度相同，有利于不同的产品2在所述非开口区42形成孔径相同的过孔43。

在本实施方式中(请参见图5)，所述色阻层40包括红色(Red，R)层46、绿色(Green，G)层47及蓝色(Blue，B)层48。不同色域的所述产品2中，位于所述开口区41的色阻层40厚度不同，位于所述非开口区42的色阻层40厚度相同，对比的是不同色域的所述产品2中同一颜色的色阻。具体地，不同色域的所述产品2中，位于所述开口区41的R层厚度不同，位于所述开口区41的G层厚度不同，位于所述开口区41的B层厚度不同，位于所述非开口区42的R层厚度相同，位于所述非开口区42的G层厚度相同，位于所述非开口区42的B层厚度相同。

可选地，本实施方式中的色阻层40通过曝光制备，具体地通过半色调掩膜光罩(Half Tone Mask mask，HTM mask)制备。

需要说明的是，在本申请实施方式中，厚度或高度是指在所述第一透明基板10指向所述色阻层40的方向上的尺寸。

S50，在所述色阻层40对应非开口区42形成过孔43，以显露部分第二导电层30。

在本实施方式中，由于不同的产品2在所述非开口区42的色阻厚度相同，因此能够通过相同的照光强度在所述色阻层40的非开口区42形成孔径相同的过孔43。所述过孔43也称为像素过孔43或RGB过孔43。

S60，在所述色阻层40背离所述第一透明基板10的一侧形成透明导电层100，所述透明导电层100部分位于所述过孔43且电连接所述第二导电层30。

在本实施方式中，所述透明导电层100为透明氧化铟锡(IndiumTinOxide，ITO)。

需要说明的是，图2、图3及图4以所述显示面板1包括两种产品2进行示意，可以理解地，图2、图3及图4不应该理解为对本申请中显示面板1包括产品2的种类及数量进行限定。为便于区分，将两种产品2分别命名为第一产品21与第二产品22，且第一产品21对应第一开口区411、第一非开口区421及第一过孔431，第二产品22对应第二开口区412、第二非开口区422及第二过孔432。

综上所述，本申请实施方式提供的显示面板1的制备方法在同一个第一透明基板10上制备多种产品2，且不同产品2的开口区41的色阻厚度不同，以使得不同种产品2具有不同的色域，同时不同产品2的非开口区42的色阻厚度相同，以有利于不同种的产品2在所述非开口区42形成孔径相同的过孔43，从而提高了所述显示面板1的品质，进而解决了在同一个光罩内生产多种色域的产品2的兼容问题。因此，本申请实施方式提供的显示面板1的制备方法能够利用同一个光罩实现多种不同色域的产品2的制备，且多种产品2的品质能保持一致。

请参照图6及图7，图6为图1中对色阻胚层进行曝光的流程图；图7为图6中曝光生成不同产品的开口区及非开口区的示意图。在本实施方式中，所述色阻胚层包括第一色阻胚层及第二色阻胚层，所述第一色阻胚层与所述第二色阻胚层对应不同色域的产品2，即第一色阻胚层对应所述第一产品21，第二色阻胚层对应所述第二产品22。上述步骤S40具体包括步骤S401及S402。

S401，采用第一照光强度L1对所述第一色阻胚层的第一非开口区421及所述第二色阻胚层的第二非开口区422进行曝光。

在本实施方式中，所述第二色阻胚层与所述第一色阻胚层为同性光阻，因此采用第一照光强度L1对所述第一色阻胚层的第一非开口区421及所述第二色阻胚层的第二非开口区422进行曝光，能够使得所述第一色阻胚层曝光后得到的第一色阻层44在所述第一非开口区421的厚度，等于所述第二色阻胚层曝光后得到的第二色阻层45在所述第二非开口区422的厚度。

可选地，所述第一色阻胚层与所述第二色阻胚层均为负性光阻或者均为正性光阻。

S402，采用第二照光强度L2对所述第二色阻胚层的第二开口区412进行曝光，并采用第三照光强度L3对所述第一色阻胚层的第一开口区411进行曝光。

在本实施方式中，所述第二照光强度L2与所述第三照光强度L3不同，因此，所述第二色阻胚层曝光后得到的第二色阻层45在所述第二开口区412的厚度，与所述第一色阻胚层曝光后得到的第一色阻层44在所述第一开口区411的厚度不同，从而使得所述第一色阻胚层对应得到的产品2与所述第二色阻胚层对应得到的产品2的色域不同。

请参照图7、图8及图9，图8为图6中控制第二照光强度及第三照光强度的流程图；图9为图1中形成过孔的流程图。在本实施方式中，当所述第一色阻胚层及所述第二色阻胚层为负性光阻时，上述步骤S40还包括步骤S411，上述步骤S50还包括步骤S501。

S411，控制所述第三照光强度L3大于所述第二照光强度L2。

在本实施方式中，由于所述第一色阻胚层及所述第二色阻胚层为负性光阻，因此，所述第一色阻胚层经由所述第三照光强度L3曝光后得到的第一色阻层44在所述开口区41的厚度，大于所述第二色阻胚层经由所述第二照光强度L2曝光后得到的第二色阻层45在所述开口区41的厚度。

S501，采用第四照光强度L4对所述第一非开口区421的部分区域进行曝光形成第一过孔431，并采用所述第四照光强度L4对所述第二非开口区422的部分区域进行曝光形成第二过孔432。

在本实施方式中，所述第四照光强度L4小于所述第一照光强度L1，因此，采用所述第四照光强度L4能够分别在所述第一非开口区421及所述第二非开口区422进行曝光形成孔径相同的第一过孔431及第二过孔432，且显露部分所述第二导电层30。

请参照图10，图10为图6中一实施方式控制第一照光强度的流程图。在本实施方式中，上述步骤S40还包括步骤S421。

S421，控制所述第一照光强度L1等于所述第三照光强度L3，或者，控制所述第一照光强度L1等于所述第二照光强度L2。

在本实施方式中，控制所述第一照光强度L1与所述第二照光强度L2或所述第三照光强度L3相同，能够减少制备所述显示面板1所需的照光强度种类，从而减少制备成本及时间。当所述第一照光强度L1等于所述第二照光强度L2时，所述第二色阻层45在所述第二开口区412及所述第二非开口区422的厚度相同。当所述第一照光强度L1等于所述第三照光强度L3时，所述第一色阻层44在所述第一开口区411及所述第一非开口区421的厚度相同。

请一并参照图7、图11、图12及图13，图11为本申请一实施方式中色阻厚度与照光强度的关系示意图；图12为图6中另一实施方式控制第一照光强度的流程图；图13为图1中控制第四照光强度的流程图。在本实施方式中，上述步骤S40还包括步骤S431，上述步骤S50还包括步骤S511。

S431，控制所述第一照光强度L1为100％照光强度。

在本实施方式中，由图11可得出当照光强度超过一定值之后，色阻厚度保持不变，可以理解为色阻厚度处于饱和状态。因此，当控制所述第一照光强度L1为100％照光强度后，所述第一色阻胚层在所述第一非开口区421的厚度与所述第二色阻胚层在所述第二非开口区422的厚度相同，且厚度稳定，因此，有利于保持后续生成过光孔的孔径尺寸稳定，从而使得所述过孔43变异量较小，进而改善面板品质。此外，100％照光强度易于控制，在制备工序上更为简单。

S511，控制所述第四照光强度L4为0％照光强度。

在本实施方式中，通过0％的照光强度分别在所述第一非开口区421及所述第二非开口区422形成第一过孔431及第二过孔432，能够使得所述第一过孔431及所述第二过孔432的孔径尺寸稳定。此外，通过完成遮挡即可实现0％的照光强度，在制备工序上易于控制，从而使得制备更为简单。

请参照图11及图14，图14为图6中又一实施方式控制第一照光强度的流程图。在本实施方式中，上述步骤S40还包括步骤S441。

S441，控制所述第一照光强度L1大于或等于照光强度阈值Lm。

在本实施方式中，由图11可得出当照光强度超过照光强度阈值Lm后，色阻厚度保持不变。即，大于所述照光强度阈值Lm的照光强度与所述照光强度阈值Lm相比，所述第一色阻胚层及所述第二色阻胚层被照射的区域生成的厚度相同，且厚度稳定，从而使得所述第一色阻层44在所述第一非开口区421的厚度与所述第二色阻层45在所述第二非开口区422的厚度相同且厚度稳定，有利于保持后续生成过光孔的孔径尺寸稳定，从而使得所述过孔43变异量较小，进而改善面板品质的一致性。

举例而言，所述第一产品21为32寸的面板，且第一色域为75％，所述第二产品22为24寸的面板，且第二色域为65％。在相关技术中，所述第一产品21的第一非开口区421所采用的曝光强度Lx大于所述照光强度阈值Lm，处于饱和状态，从而使得所述第一产品21在所述第一非开口区421的色阻厚度稳定，因此，后续生成的第一过孔431的孔径稳定。所述第二产品22的第二非开口区422所采用的曝光强度Ly小于照光强度阈值Lm，且处于图11中色阻厚度随照光强度变化较大处，即所述曝光强度Ly发生轻微变化，也会造成所述第二非开口区422处的色阻厚度发生较为明显的变化，因此后续生成的第二过孔432的孔径不稳定，不同位置的第二过孔432会存在均匀性问题，从而导致面板的品质一致性下降。相较于相关技术，本申请实施方式提供的显示面板1的制备方法中，控制所述第一照光强度L1同时对所述第一非开口区421及所述第二非开口区422进行曝光，且所述第一照光强度L1大于所述照光阈值，从而使得所述第一非开口区421处的色阻厚度与所述第二非开口区422的色阻厚度形同且均处于饱和状态，因此，后续在所述第二非开口区422处的第二过孔432孔径稳定，能够改善面板品质一致性的问题。

请参照图3及图15，图15为图1中制备主间隔垫的流程图。在本实施方式中，在上述步骤S40之后还包括步骤S70及S80。

S70，在所述色阻层40上设置间隔胚层。

S80，采用第五照光强度对所述间隔胚层进行曝光显影，以形成厚度相同的多个主间隔垫50，其中，所述主间隔垫50位于所述非开口区42。

在本实施方式中，由于前述步骤S40制备得到的所述多个色阻层40位于所述非开口区42的厚度相同，因此，所述多个主间隔垫50位于所述非开口区42能够使得所有的所述多个主间隔垫50在所述显示面板1内所处的高度相同，从而有利于保持所述显示面板1的平整。

请参照图3及图16，图16为图1中制备次主间隔垫的流程图。在本实施方式中，在上述步骤S70之后还包括步骤S90。

S90，采用第五照光强度对所述间隔胚层进行曝光显影，以形成厚度相同的多个次间隔垫60，其中，所述次间隔垫60与所述主间隔垫50的厚度相同，所述次间隔垫60位于所述非开口区42和/或所述开口区41。

在本实施方式中，采用与生成所述主间隔垫50相同照光强度的第五照光强度曝光生成所述次间隔垫60，以使得所述次间隔垫60与所述主间隔垫50的厚度相同，通过设置所述次间隔垫60能够节省曝光成本。

其中，所述次间隔垫60在所述显示面板1内所处的高度低于所述主间隔垫50在所述显示面板1内所处的高度。具体地，以所述第一色阻胚层与所述第二色阻胚层均为负性光阻为例。在一实施方式中，所述第一照光强度L1大于所述第二照光强度L2且大于所述第三照光强度L3，所述非开口区42的色阻厚度大于所述开口区41的色阻厚度，所述次间隔垫60位于所述开口区41。在另一实施方式中，所述第一照光强度L1包括第一子照光强度及第二子照光强度，其中，所述第一子照光强度用于对部分非开口区42进行曝光，所述第二子照光强度对另外部分非开口区42进行曝光，且所述第一子照光强度大于所述第二照光强度L2且大于所述第三照光强度L3且大于所述第二子照光强度，则被所述第一子照光强度曝光的所述部分非开口区42的色阻厚度大于所述开口区41的色阻厚度，且大于被所述第二子照光强度曝光的所述另外部分非开口区42的色阻厚度，所述主间隔垫50位于被所述第一子照光强度曝光的所述部分非开口区42，所述次间隔垫60位于所述开口区41和/或位于被所述第二子照光强度曝光的所述另外部分非开口区42。

可选地，步骤S90与步骤S80可同时进行，以节省曝光成本。

请参照图3及图17，图17为图1中得到多种产品的流程图。在本实施方式中，在上述步骤S80之后还包括步骤S100及S110。

S100，在所述多个主间隔垫50的一侧设置第二透明基板70，其中，所述第二透明基板70抵接所述多个主间隔垫50。

S110，进行切割以得到多种产品2。

在本实施方式中，所述第二透明基板70设于所述多个主间隔垫50背离所述第一透明基板10的一侧，由于所述多个主间隔垫50的厚度相同，且在所述显示面板1内所处的高度相同，因此，所述第二透明基板70能够同时抵接所述多个主间隔垫50，使得所述显示面板1整体平整，从而使得面板品质较佳。其中，所述第二透明基板70为彩色滤光玻璃(ColorFilter Glass，CF Glass)，也称为CF基板。在完成所述第二透明基板70的设置之后，可根据多种产品2的产品设计区进行切割得到所述多种产品2对应的显示面板1。

请参照图18，图18为图1中制备第一导电层及第二导电层的流程图。在本实施方式中，上述步骤S60包括步骤S601及步骤S602。

S601，在所述第一透明基板10的一侧第一胚层，并对所述第一胚层进行曝光，以得到由第一绝缘层80包裹的第一导电层20。

在本实施方式中，所述主间隔垫50在所述第一透明基板10的正投影至少部分为位于所述第一导电层20所在的区域内，以使得所述非开口区42尺寸较小，从而提升开口率，进而使得所述显示面板1的出光效果更好。

S602，在所述第一绝缘层80背离所述第一透明基板10的一侧设置第二胚层，并对所述第二胚层进行曝光，以得到由第二绝缘层90包裹的第二导电层30。

在本实施方式中，所述第二导电层30与所述第一导电层20绝缘，具体地，所述第二导电层30与所述第一导电层20通过所述第二绝缘层90及所述第一绝缘层80进行绝缘。可选地，所述第一绝缘层80为栅极绝缘(GI)层，所述第二绝缘层90为PV1层。

请再次参照图2，在本实施方式中，所述显示面板1由前述任意一实施方式所提供的显示面板的制备方法制备而成。

在本实施方式中，所述显示面板1为液晶显示面板，广泛应用于各种液晶显示设备，例如，手机、平板电脑、笔记本电脑、掌上电脑、个人计算机(Personal Computer，PC)、个人数字助理(Personal Digital Assistant，PDA)等。

在本实施方式中，所述显示面板1对应前述实施方式提供的显示面板1的制备方法制备所得到的产品2，即，多种不同色域的所述显示面板1能够通过所述显示面板1的制备方法利用同一个光罩制备得到，且多种不同色域的所述显示面板1的品质能够保持一致。因此，本申请提供的显示面板1的制备成本低，且多种不同色域的所述显示面板1的品质能够保持一致。

尽管上面已经示出和描述了本申请的实施例，可以理解的是，上述实施例是示例性的，不能理解为对本申请的限制，本领域的普通技术人员在本申请的范围内可以对上述实施例进行变化、修改、替换和变型，这些改进和润饰也视为本申请的保护范围。