对金属材料的镀覆、用金属材料对材料的镀覆、表面化学处理、金属材料的扩散处理、真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆、金属材料腐蚀或积垢的一般抑制

本发明公开了一种镁合金表面Li‑Al LDH膜的快速制备方法，包括以下步骤：S1：对镁合金基底进行前处理；S2：将步骤S1处理后的镁合金基底进行多弧离子镀膜处理；S3：将步骤S2处理后的镁合金在前驱体溶液中进行浸渍处理；所述前驱体溶液的溶质为硝酸锂和氢氧化锂，溶剂为去离子水；S4：将步骤S3处理后的镁合金表面用去离子水冲洗，再用热空气烘干。本发明将多弧离子镀与浸渍处理相结合，首先通过多弧离子镀在镁合金表面得到与基底结合力高的铝膜，然后将铝膜改性后的镁合金放在特定的前驱体溶液中浸渍处理，获得镁合金表面的Li‑Al LDH膜，该制备方法过程简单、耗时少，能耗低，且制得的Li‑Al LDH膜层致密性高、结合力强、耐蚀性好。

本发明涉及一种采用自粗化工艺增加胶管用钢丝表面粗糙度的方法，涉及一种钢丝表面处理方法，本发明通过原位聚合的方法，在钢丝表面形成大量高附着力微米级颗粒的方法提高钢丝表面的粗糙度。处理后的钢丝表面微观粗糙，粗化层均匀、细致、不影响工件的外观，该钢丝用作高压胶管的骨架材料可使胶管具有承压力高，脉冲性能优越；管体结合紧密，使用柔软，在压力下变形小；优良的耐曲绕性和耐疲劳性等优点。该发明工艺流程短，没有使用污染环境的易挥发溶剂或重金属等有毒粗化液，环境友好，成本低廉，易于操作。

本发明公开一种蒸汽及气体软氮化一体化处理装置，一种蒸汽及气体软氮化一体化处理装置，包括一体化处理炉，该一体化处理炉内安装有悬空设置的放置架，该放置架内相应放置需要蒸汽处理以及气体软氮化处理的工件，且该一体化处理炉中还相应设置有加热装置、加压装置以及冷却装置，一体化处理炉上还连接安装有进气管，该进气管又相应并联有水蒸气管路、N2气体管路、NH3气体管路以及CO2气体管路。本发明的一体式装置和方法，可使整体生产效率提升80％，电力能耗下降30％，投资减少50％，并且高精度的工件变形能够达到客户要求，工艺控制简便、稳定可靠。

本发明公开了一种大尺寸红外光学元件低应力保护增透膜系的制备方法，包括以下步骤：1)大尺寸红外光学元件无损清洗；2)采用离子辅助电子束蒸发工艺在清洗后的大尺寸红外光学元件表面依次镀制光学过渡层及应力匹配层，形成张应力层，张应力层厚度不低于400nm，应力值不低于200MPa；3)通过RF‑PECVD法在步骤2)所得张应力层上制备类金刚石薄膜作为压应力层，厚度不高于700nm，压应力不高于350MPa，即得大尺寸红外光学元件低应力薄膜。所得薄膜应力低，满足大尺寸红外光学元件低应力保护增透膜系的工艺需求，解决大尺寸红外光学元件成膜应力高的膜层脱落问题，有效提升了大尺寸红外光学元件的恶劣环境下的适应性及可靠性。

本申请实施例提供的磁控溅射设备及磁控溅射成膜方法中，包括相对设置的第一阴极组件以及第二阴极组件。在采用本申请实施例提供的磁控溅射设备形成阴极时，可以调整磁场的方向，控制等离子体形成的区域，限制等离子体在第一旋转靶材以及第二旋转靶材之间形成。然后采用制程气体Ar轰击旋转靶材的区域限制在旋转靶材的相对位置。因此被轰击出来的高能Ag和IZO的小粒子不会沉积在器件上，只有接近垂直方向的低能量Ag和IZO的小粒子才会沉积在器件上形成阴极，从而可以降低阴极形成过程中对有机功能层的损伤，提高有机发光二极管显示器件的良率。

本发明公开了一种航空航天不锈钢管道用酸洗钝化液，按重量百分比计，包括下述组分：柠檬酸10‑15％、植酸3‑5％、双氧水5‑10％、烷基糖苷0.5‑1％、乳化剂TX‑101‑2％、纳米Ce‑没食子酸‑S iO2复合材料0.2‑0.5％、硅烷偶联剂1‑2％、缓蚀剂0.05‑0.2％、余量为水。本发明的酸洗钝化液不含硝酸等重环境污染物质，环保、安全性好，而且具有优良的耐腐蚀防护效果，能够满足更高标准的腐蚀防护要求。

本发明提供了一种锅炉超温防治用环境障涂层及其制备方法，涉及粉末增材制造技术领域，为解决现有隔热涂层无法长期可靠使用的问题而设计。该锅炉超温防治用环境障涂层包括设置在炉管表面的过渡层和设置在过渡层表面的隔热层，其中，过渡层连续且厚度均匀；沿炉管的轴向，隔热层分段设置，且每段隔热层中，均形成有基本沿轴向交替的波峰特征和波谷特征。本发明使得炉管能够突破传统均匀隔热涂层的应变容限，从而有效降低因炉管沿轴向的变形而引起的涂层剥落的应力，使得环境障涂层能够长期可靠使用。

本申请公开一种磁控管装置及磁控溅射设备，磁控管装置用于作用靶材组件而溅射粒子。磁控管装置包括第一磁控管、第二磁控管和第一驱动机构，其中：第一驱动机构与第一磁控管和第二磁控管均相连，第一驱动机构用于驱动第一磁控管和第二磁控管移动而使其中一者靠近靶材组件、且另一者远离靶材组件；在第一磁控管靠近靶材组件的情况下，第一磁控管与靶材组件的环带区域对应布置；在第二磁控管靠近靶材组件的情况下，第二磁控管与靶材组件的中部区域对应布置。上述方案能够防止靶材的中部区域沉积溅射粒子。

一种复配型金属钝化剂的生产工艺，第一步：制备金属钝化剂一，第二步：制备金属钝化剂二，第三步：根据原油中重金属含量将金属钝化剂一和金属钝化剂二比例混合；本发明能够抑制进料中的重金属离子，如镍、钒、铁、钠等对裂化催化剂的污染，即指对催化剂活性和选择性的影响，降低了氢气产生，减少焦炭生成，提高了汽油收率，增加装置处理能力及原料油中的掺渣油的比例，提高了转化率，延长了催化剂的寿命。

本发明公开了一种适用于铝合金无铬钝化的锆钛基复合钝化液及钝化工艺，所述无铬钝化液的组成为：六氟锆酸0.1~5g/L、六氟钛酸0.1~5g/L、稀土盐0.1~0.5g/L、添加剂0.1~0.5g/L，使用氢氧化钠或氨水调节钝化液pH为3.7~4.2，其余为去离子水。本发明提出的一种适用于铝合金无铬钝化的钝化工艺，将铝合金表面预处理后置于无铬钝化液中常温钝化2~5min，之后在热水中封闭处理1~2min，热风烘干后在铝合金表面得到高耐蚀性的无铬钝化膜。本发明的无铬钝化液及钝化工艺绿色环保，制备工艺操作简单，耐腐蚀性能强，适用于对铝合金表面的防腐蚀处理，具有良好的经济效益。

本公开涉及埋地管道阴极保护测试方法及系统，该方法包括：保持阴极保护电流被连续施加在阴极保护管路上，以使所述阴极保护管路及所述试片被充分极化；保持所述试片与所述阴极保护管路的电性连接，测试并采集所述试片的通电电位；在第一预设时间t1内，断开所述试片与所述阴极保护管路的电性连接，测试并采集所述试片的瞬时断开电位；在第二预设时间t2后，测量所述试片的自然腐蚀电位；依据所述通电电位与第一预设值范围的比较，判断所述阴极保护管路是否处于正常保护状态；依据所述瞬时断开电位，判断阴极保护管路处于过保护状态或欠保护状态；依据所述自然腐蚀电位，验证阴极保护管路是否处于为保护状态。本发明的方法及系统智能化程度较高。

本发明公开了一种铸铁件不生锈电饭煲内胆用热处理设备，通过温度控制单元控制反应炉的炉内温度，以使环境温度与后续反应过程相匹配，然后进行共渗反应，实现同一个反应组件即可完成电饭煲内胆的热处理的多道工序，相对于现有的热处理设备，工作部件少，制造成本低，由于只在同一个反应组件内进行处理，无需进行电饭煲内胆胚体的转移，使得处理过程简洁，操作难度低，处理时间短，工作效率高；共渗反应所采用的反应液由氨水以及溶解于氨水内的碳铵和尿素组成，通过破碎单元对反应液进行破碎，使得反应液的分子结构变小，进而使得电饭煲内胆的渗透处理效果好，实现了铸铁件电饭煲内胆不生锈，经久耐用，避免了铸铁材料的浪费，达到环保的目的。

本发明公开了一种发电机空芯铜导线氧化物的柔性酸洗方法。柔性酸洗剂为由包括抗坏血酸、磷酸盐、乙二胺四乙酸二钠和有机酸组成的溶质稀释于水形成的低浓度溶液，该柔性酸洗剂选择性地溶解发电机空芯铜导线内表面无钝化作用的CuO，而保留具有钝化作用的Cu2O。本发明通过改变所述的复合酸洗剂中各组分配比和浓度调节，结合溶液pH值调控，使得清洗环境处于还原性环境以实现对发电机空芯铜导线氧化物的柔性化学清洗。本发明还通过预先调控复合酸洗剂中C/N/P之比简化清洗废液的后处理。

本发明公开了一种用于物理气相沉积设备真空腔体内遮挡件冷却的装置，涉及物理气相沉积技术领域。物理气相沉积设备包括真空腔体、衬底和遮挡件，真空腔体用于进行物理气相沉积，真空腔体的顶部设置有靶材，衬底设置在真空腔体内且位于靶材的下方，衬底用于放置待处理物品，遮挡件呈环状，其顶部边缘延伸至真空腔体的顶部，底部边缘延伸至衬底的外侧边缘，遮挡件配置成其外壁与真空腔体的内壁之间具有预设空间；装置包括：冷却设备，设置在预设空间中且与遮挡件的外壁接触以与遮挡件进行热交换。通过本发明，能够控制遮挡件的温度，使得溅射产品的一致性和稳定性得到提高，从而可以提升产品良率。

本发明属于不锈钢表面抗高温氧化处理技术领域，尤其涉及在316L不锈钢表面制备抗高温氧化镀层的方法，包括以下步骤：第一步、对316L不锈钢工件进行热浸镀铝硅，冷却后得到镀铝工件，镀液中硅的含量为1‑5wt％Si。第二步、将得到的镀铝工件再进行扩散处理，真空扩散温度为800‑900℃，并在此温度下保温1‑3h，得到镀层扩散相最外侧分别为Fe2Al5、FeAl2、FeAl扩散相的渗铝工件。该方法针对316L不锈钢基体进行设计，将热浸镀铝硅与真空扩散处理工艺相结合。本发明工艺制备的镀层与基体结合为冶金结合，工艺过程相对简单，成本较低，抗高温氧化性能优良，易生产加工等优点。

本发明提供一种成分可调的TixCr1‑xNy纳米涂层、制备方法及其应用，包括以下步骤：通过调控Ti和Cr靶的磁射功率以能够调控TixCr1‑xNy涂层中的Ti元素、Cr元素和N元素的配比；这样在保证该涂层良好的力学性能和耐腐蚀性能的基础上，有效调控该涂层的电导率，进而使得该涂层既具有良好的耐腐蚀性能，又具有良好的导电性能，全面提高了涂层的性能。

本发明属于溅射镀膜技术领域，公开了一种提高旋转靶材利用率的溅射方法及溅射设备。该提高旋转靶材利用率的溅射方法中，在线获取位于真空室内的所述靶材的形貌信息；根据所述靶材的形貌信息自动生成所述靶材的外径形貌拟合图；根据所述外径形貌拟合图，自动控制所述靶材轴向各处的磁场强度，以使所述靶材均匀消耗。在线获取靶材刻蚀情况并自动调整磁场强度，不需要对真空室破除真空后取出靶材调整更方便，且有利于提高调整频率，从而能够及时调整靶材轴向各处的磁场强度，有利于增大靶材利用率的调整幅度。本发明提供的溅射设备能够在线获取靶材表面刻蚀情况并调整对应位置磁场强度，不需人工操作，效率高，调整及时，能明显改善靶材的利用率。

本发明公开了一种紧凑型雾化辅助CVD薄膜制备装置，包括机箱，该机箱上滑动设有雾化单元、缓冲腔体、加热单元和尾气收集单元，所述雾化单元与缓冲腔体连通，石英腔体的一端与所述缓冲腔体连通，另一端与尾气收集单元连通，所述石英腔体内设衬底样品，所述石英腔体穿设在所述加热单元并通过该加热单元进行加热，前驱体溶液经过所述雾化单元雾化后进入所述缓冲腔体，由所述缓冲腔体进入所述石英腔体内进行薄膜制备。本方案加热单元整体可以移动，不仅可以有效改变石英腔体内薄膜沉积区域竖直方向的温度梯度，而且水平方向也具有温度场可调整性，这对于探索薄膜生长机制提供了条件。

本发明涉及一种N掺杂C膜的制备方法，其特征在于：（1）选择衬底材料，高纯石墨为溅射靶材，N2为离子束的N+源；（2）对衬底材料依次用丙酮、酒精、去离子水进行超声清洗，吹干；（3）把衬底材料放入溅射腔中，启动磁控溅射设备并抽真空，在真空度达到1.0~3.0*10－4Pa时，通入溅射Ar气，使C靶起辉，设定工艺参数，在Si片上制备C膜；关闭C靶，开启离子束沉积系统，通入N2作为氮源，通过离子束发射N+轰击C膜，与衬底C膜发生反应并实现掺杂；（4）取出样品，放入250‑400℃、N2气氛炉中1.5‑3h保温退火，制得N掺杂C薄膜。本发明优点：工艺简单，可控性强；以N2为离子源，不引入其他杂质元素，成膜几率高；保温退火，提高了掺杂均匀性及薄膜的结晶质量。

本发明公开了一种二氧化钛抗菌抗黏附复合表面的制备方法，包括以下步骤：S1：选取钛板作为基底；S2：采用阳极氧化技术，通过电解液在钛基底上刻蚀出一层多孔二氧化钛纳米管阵列；S3：将得到的二氧化钛纳米管阵列表面在500℃煅烧5h，得到锐钛矿型二氧化钛；S4：增强二氧化钛在可见光波段的吸收，实现太阳光光催化抗菌，通过连续离子层吸附反应在二氧化钛纳米管阵列表面沉积一层AgCl纳米粒子。该发明中的技术方案所提供的材料表面具有高效的太阳光催化杀菌性能，具有极高的防细菌黏附率，可广泛的应用于生物医疗、食品加工设备、海洋防污、船舶、航天航空等领域，为解决钛合金材料表面的防细菌黏附问题提供了新的思路。

本申请公开了一种薄膜沉积装置及其支撑机构，该支撑机构包括：加热板，包括相背设置的第一表面和第二表面；主支撑板，位于所述第二表面一侧，用于支撑所述加热板；在第一方向上，所述主支撑板具有相对的第一端部和第二端部，所述第一方向平行于所述加热板和载板相接触的平面；辅支撑板，位于所述第一端部和所述第二端部，且位于所述加热板和所述主支撑板之间。本申请提供的薄膜沉积装置及其支撑机构，能够提高装置内的温度均匀性和电场均匀性，从而提高薄膜沉积均匀性。

本发明提供一种FC型接头光纤端面镀膜夹具、系统及使用方法。该FC型接头光纤端面镀膜夹具包括夹具底座和光纤夹具，夹具底座上设置有若干个定位槽，各定位槽为台阶状通孔，定位槽的前半部分设置有用于固定光纤夹具的第一螺纹，光纤夹具的前部设置有与定位槽的第一螺纹相匹配的第二螺纹，光纤夹具的后部设置有与FC光纤接头的螺纹相匹配的第三螺纹，用于固定FC接头光纤，且光纤夹具中间设置有与FC接头光纤陶瓷插芯相匹配的通孔。本发明可以控制光纤端面和监控片上表面完全处于同一水平面，有助于提高光纤端面镀膜的质量和效率；与常规光学镜片镀膜夹具具有良好的兼容性，且结构简单，操作非常方便，可以同时进行光纤端面和镜片镀膜，适用性广。

本发明提供Sb2O3薄膜材料及基于溶胶‑凝胶法制备Sb2O3薄膜材料的方法和应用，属于电子材料与元器件领域。制备方法是将Sb2O3前驱体溶液旋涂在衬底上面，得到湿膜；制得的湿膜首先在80‑120℃下蒸干10‑15min，然后在300‑400℃下热处理5‑15min，取出冷却至室温，得到一层未完全晶化的Sb2O3薄膜；重复以上步骤多次，得到多层未完全晶化的Sb2O3薄膜；将薄膜在450‑600℃于空气氛围中晶化0.5‑2h，得到完全晶化的Sb2O3薄膜，即获得具有纯度高、致密性好、平均晶粒尺寸小、电子迁移率高等优点的薄膜。

本发明属于金属表面处理技术领域，具体公开了一种热作模具钢的复合表面处理方法。本发明通过将热作模具钢在含有稀土元素0.05～0.5％、Mg0.03～0.3％、余量为铝的复合镀液中进行热浸镀处理；然后再置于为K2SiO3、K2B4O7、KOH、NaOH和甘油的混合电解液中进行微弧氧化处理，从而实现了对热作模具钢的表面复合处理。复合表面处理层与热作模具钢结合良好，具有不易脱落的优势，并显著提高了热作模具钢的硬度、热疲劳、热熔损等性能。

本发明提供了一种环保型铜带酸洗设备，包括酸洗槽、干燥装置，铜带途径酸洗槽后得以酸洗处理，途径干燥装置后得以烘干；干燥装置包括吸水刮刷结构、加热结构、抽气结构、尾气净化结构；吸水刮刷结构对铜带外壁的酸洗液进行吸收、并进行刮刷；加热结构对吸水刮刷结构的吸水部件进行加热烘干，使吸收的酸洗液进行挥发；抽气结构对挥发的酸洗液蒸汽进行抽吸、并送至尾气净化结构处；尾气净化结构对进入的酸性气体进行吸收、中和净化；其结构新颖，可对铜带进行酸洗，并对酸洗后的铜带进行干燥，及对干燥过程中产生的废气进行净化处理，实现整体连贯的加工，也可促进环保。

本发明公开了一种金属陶瓷涂层及其制备方法和应用。本发明的金属陶瓷涂层的制备方法包括以下步骤：1)将Fe基粉末、TiB2粉末和纳米CeO2粉末作为复合粉体进行第一阶段湿法球磨，再加入粘结剂后进行第二阶段湿法球磨，得到复合浆料；2)将复合浆料喷雾造粒，得到CeO2掺杂的金属陶瓷复合粉末；3)将CeO2掺杂的金属陶瓷复合粉末进行等离子体球化处理，得到球化处理的粉末；4)将球化处理的粉末通过活性燃烧高速燃气喷涂系统喷涂在基体表面，即得金属陶瓷涂层。本发明的金属陶瓷涂层具有组织结构均匀致密、陶瓷相分布均匀、氧化夹杂少、孔隙率低、耐磨性能优异、与基体结合强度高等优点，适合用于金属表面防护。

本发明公开了一种环保性无铬镀锌铝镁钢板专用钝化剂及钝化工艺，属于金属材料表面处理领域。钝化剂包括树脂组分、缓蚀组分、耐蚀组分和助剂；其中，所述缓蚀组分包括硅钛盐、磷酸盐、钼酸盐中的一种或两种或三种，所述耐蚀组分为有机改性硅烷PUB。钝化工艺为：于镀锌铝镁钢板表面涂覆权利要求1～5任意一项所述的钝化剂，其中，涂覆辊的辊速V与镀锌铝镁钢板表面的粗糙度A、钝化剂与镀锌铝镁钢板表面的接触角B三者之间存在关系式：V＝100+60A‑0.25B。本发明通过分析不同镀层成分的表面状态并对产线工艺进行调整(包括线速度与带料辊速)生产出一种附着性与耐蚀性均良好的适用于低铝锌铝镁镀层的彩涂前处理工艺。

本发明提供一种蒸镀坩埚、用蒸镀坩埚在基板上蒸镀功能性材料的方法，该蒸镀坩埚包括坩埚本体和坩埚帽，坩埚帽用于与坩埚本体盖合形成蒸镀腔；基板与坩埚帽相对设置，且基板面向坩埚帽的一侧表面设有多个成膜区；其中，坩埚帽上设有多个贯通坩埚帽的通孔，且多个通孔与基板上的至少一部分成膜区一一对应设置。本发明通过在坩埚帽上设置与至少一部分成膜区对应的多个通孔，使得功能性材料通过多个通孔制作在基板对应的成膜区内，从而无需使用掩膜板，能够降低生产成本。

本专利公开了一种织构化巴氏合金涂层减摩表面及其制备方法，属于机械运动摩擦副表面技术领域，复合改性表面包括圆形微凹坑阵列、巴氏合金涂层、多层织构。圆形微凹坑阵列为激光加工而成的规则分布的表面凹坑织构；巴氏合金涂层为热喷涂到基体表面减少激光加工热影响的掩膜；多层织构由激光加工生成的凹坑阵列和巴氏合金的表面间隙构成。本发明通过设置巴氏合金涂层和激光表面织构化处理形成的复合改性表面，能够显著降低激光加工对表面性能的不利影响，减少加工过程中产生的硬质熔融金属及其氧化物堆积形成的毛刺，并且形成的多层织构有利于磨粒的储存和流体动压润滑的形成，从而减少微切削磨损的发生，改善摩擦副的摩擦磨损性能。

本发明提供了一种铝钪合金靶材及其制备方法，所述制备方法包括：将金属铝和金属钪混合进行真空磁悬浮熔炼，得到铝钪合金熔体；将得到的铝钪合金熔体加入冷却模具进行冷却浇注，得到铝钪合金毛坯；将得到的铝钪合金毛坯进行热等静压处理，得到铝钪合金靶材。本发明所述方法根据金属组分的特性，采用真空磁悬浮熔炼的方式实现原料的充分合金化，保证合金的纯度和成分均匀性，再经冷却浇注得到规则形状的合金毛坯，最后经热等静压将合金致密化，使合金内部缺陷闭合，从而得到高纯度、成分均匀、氧含量及缺陷率低的铝钪合金，各项性能满足使用需求；所述方法操作简便，原料利用率高，可有效降低成本，工艺稳定，易实现大批量生产。

本发明公开了一种镀膜转架，包括：产品挂杆，其通过下端转动设于架体的底面上；挂杆自转控制机构，设于架体的底面下方，包括：摆臂，正交固设于挂杆的下端上，摆臂的两端上分设有一对纵向摇柄；内侧向限位轨道，其沿挂杆的公转轨迹的内侧设置，并形成闭环结构，内侧向限位轨道包括圆弧轨道段和朝向圆弧内侧的峰形转折轨道段；当挂杆跟随架体公转时，通过圆弧轨道段对两个摇柄形成的侧向抵挡限制挂杆自转，当挂杆公转至将位于前侧的一个摇柄导向转折轨道段时，利用摆臂受到的偏转作用而实现两个摇柄之间的前后位置互换，从而带动使挂杆进行一次自转动作，实现周期性地对挂杆上安装的产品进行快速翻面，以提高沉积速率和膜层均匀性。

本发明提出一种高强度镀锌板的涂镀装置及涂镀方法，涉及镀锌板涂镀加工技术领域，包括底板、收卷模块、涂镀模块与清理模块，底板上依次固定安装有收卷模块、清理模块和涂镀模块，清理模块和涂镀模块位于收卷模块中间，清理模块位于涂镀模块的左方，此外本发明能够解决：1.现有的镀锌板的涂镀装置对钢板表面的碎屑清理的效果差，并且现有的镀锌板的涂镀装置只对钢板的上下两个面进行清理，而对钢板的侧端无法进行清理。2.现有的镀锌板的涂镀装置在涂镀的过程中，镀锌液无法流动，因此长时间的静置容易导致镀锌液出现沉淀的现象，从而进一步导致钢板表面的镀锌液效果差，并且钢板表面的锌层会出现厚薄不一致的情况。

本发明涉及一种燃气管道阴极保护桩监测系统，包括设置在埋地燃气管道附近的保护桩，所述保护桩内设有监测模块、通讯模块，所述保护桩附近还设有牺牲阳极更换腔，所述牺牲阳极更换腔内设有可更换的牺牲阳极，牺牲阳极更换腔内设有更换桶，更换桶内安装有呈圆柱状的牺牲阳极；本申请通过采用呈圆柱状的牺牲阳极且牺牲阳极的中心开设有电极穿孔，中心导电柱穿设在电极穿孔内且侧壁上设有可与电极穿孔的内壁抵触的导电弹片，可竖向移动牺牲阳极，便于牺牲阳极的更换；中心导电柱上设置的多组导电弹片可使得中心导电柱与牺牲阳极导电连接可靠，有效地解决了牺牲阳极更换不便、接触不可靠的问题。

本发明涉及一种镀膜装置。一种镀膜装置，用于为待镀膜件镀膜，包括：真空室；至少一个转盘，至少一个转盘位于真空室内，转盘内具有用于容纳待镀膜件的盘腔，盘腔内设置有扰动棒，扰动棒与盘腔的底壁之间具有间隙；以及传动机构，传动机构位于真空室内，传动机构用于带动转盘绕自身中心轴线相对扰动棒转动，以致扰动棒改变待镀膜件在盘腔内的滚动方向。转盘相对于扰动棒转动时，间隙的存在使得扰动棒与盘腔的底壁之间不会产生摩擦，从而能够避免扰动棒与盘腔的底壁由于摩擦而产生的剐蹭物粘附在待镀膜件的表面，进而能尽量地保证待镀膜件表面的膜层均匀性。

本发明公开了一种晶圆片镀膜表面颗粒控制的方法，包括以下步骤：步骤(1)、采用超声波水洗方式对硅片进行清洗；步骤(2)、采用表面颗粒扫描仪对硅片预镀制面进行扫描；步骤(3)、加料准备；步骤(4)、将硅片放置到镀膜机真空腔室内样品架上对基片进行抽真空；步骤(5)、抽真空至3.0*10‑3Pa开始对两种材料进行预熔；步骤(6)、材料熔好后使用高能量氩离子对所述硅片待镀制面进行轰击；步骤(7)、在硅片朝下面镀制锗材料1310.98‑1311nm，镀制硫化锌材料1167.47‑1168nm；步骤(8)、镀制完膜层之后，对滤光片进行退火。本发明通过石墨隔热垫环的使用减缓锗材料温度的流失，使锗材料温度保持在较高较稳定的状态，锗材料的喷溅明显减少，实现产品表面质量大幅改善。

本发明涉及一种电解铜箔表面处理机用辊的绝缘陶瓷涂层及其制造方法，绝缘陶瓷涂层从下至上依次包括底层、中间层和面层，所述底层采用哈氏合金C276合金粉经超音速火焰喷涂工艺形成，厚度为50～100µm；所述中间层采用哈氏合金C276和氧化铝‑氧化钛混合粉末经等离子喷涂工艺形成，厚度为100～200µm；所述面层由氧化铝粉末经等离子喷涂工艺形成，厚度为500～2000µm。本发明的涂层制造灵活，由于采用陶瓷涂层，基本无磨损，表面粗糙度不因磨损而改变，不会产生磨损颗粒，且不会由于磨损颗粒导致对铜箔产品形成凹凸点的危害；耐腐蚀，表面不易积垢，传动中对箔的影响小；良好的绝缘性，可耐15000V电压，省去了支撑部分的绝缘结构，不存在因断箔造成的短路电击隐患。

本发明提供金属板以及蒸镀掩模的制造方法，其能够在第1面上稳定地设置宽度窄的抗蚀剂图案。金属板的制造方法具备准备由包含镍的铁合金构成的板材的准备工序。利用X射线光电子分光法实施了由板材得到的金属板的第1面的组成分析，在将作为结果得到的镍氧化物的峰面积值与镍氢氧化物的峰面积值之和设为A1、将铁氧化物的峰面积值与铁氢氧化物的峰面积值之和设为A2的情况下，A1/A2为0.4以下。

本发明涉及膜制备方法领域，尤其是石墨烯导热膜制备方法。该方法的步骤为：A、镍箔清洗；B、在坩埚中放入粉末状的固态碳源，然后将镍箔水平放在坩埚口，再将耐高温框架水平压在镍箔上，接着整体倒置放入炉腔惰性气氛保护常压加热，通过控制生长温度和保温时间，在镍箔另一面就可以生长出石墨烯厚膜。该发明相比于石墨烯导热膜通常使用的两种成型方法，不仅解决了对于250nm~10um厚度的石墨烯导热膜不易成型的问题，对微电子器件散热具有重要意义，而且无需高温石墨化处理工艺，生产周期短，能耗低，工艺易于扩展。

本发明为一种钛合金表面纳米金刚石颗粒增强耐磨涂层的制备方法，属于金属材料表面改性技术领域。该方法先采用砂纸将钛合金基体材料表面打磨粗化，然后刷涂一层有机胶粘剂，将纳米尺度的金刚石粉末和含Ti的金属/合金粉末进行混合并撒在胶粘剂表面，利用胶粘剂将粉末固定，烘干后在粉末上方覆盖石墨纸并压紧，然后将其放入真空设备中进行高温加热处理，随炉冷却至室温后取出工件并去掉石墨纸，再将工件放入马弗炉中进行低温加热处理，消除应力的同时通过氧化去除表面残余石墨纸，最后即得到钛合金表面纳米金刚石颗粒增强耐磨涂层。该方法制备的涂层和基体之间可实现冶金结合，同时具有良好的耐磨性，制备方法简单，适合进行工业化生产。

本发明公开了一种铜纳米晶薄膜材料及其制备方法和应用，属于化学镀领域。本发明的铜纳米晶薄膜材料采用具有双络合、双还原剂体系的化学镀铜液经过化学镀法制得，当所述化学镀铜液按以下组分组成时：五水硫酸铜10‑20g/L、第一络合剂12‑20g/L、第二络合剂15‑25g/L、稳定剂10‑32mg/L、二价镍盐0.1‑0.8g/L、阳离子表面活性剂1‑5mg/L、次磷酸钠15‑45g/L、甲醛4‑15mL/L、氢氧化钠7‑18g/L，余量为去离子水，获得的铜纳米晶薄膜材料的晶粒尺寸为50‑450nm，致密性和热稳定性高，可以与基体材料形成良好的结合力。

本发明涉及一种连续化镀膜制备系统，包括高能电子束轰击装置、超敏磁过滤装置和纳米层沉积装置，所述高能电子束轰击装置与超敏磁过滤装置相连通，所述超敏磁过滤装置与受电场控制的纳米层沉积装置相连通；所述纳米层沉积装置包括镀膜仓，所述镀膜仓内设置有用来缠绕沉积基底的多卷轴联动装置，所述镀膜仓设有磁过滤进口和气体源出口，所述磁过滤进口与超敏磁过滤装置的等离子体出口相连通。本发明提供的制备系统，采用等离子体活化技术、超敏磁过滤技术、纳米层沉积技术及多元一体化技术制备连续化镀膜制备系统，实现大面积、膜层厚度可调、膜层均匀及机械强度高的复合涂层。

本发明涉及蒸镀掩模的制造方法以及金属板的检查方法。本发明提供一种金属板的制造方法以及蒸镀掩模的制造方法，该金属板能够制作抑制了贯通孔的尺寸偏差的蒸镀掩模。长度方向的金属板的板厚的平均值为规定值±3％的范围内。另外，在将长度方向的金属板的板厚的平均值设为A，将长度方向的金属板的板厚的标准偏差乘以3而得到的值设为B时，(B/A)×100(％)为5％以下。此外，在将宽度方向的金属板的板厚的标准偏差乘以3而得到的值设为C，将为了计算出宽度方向的金属板的板厚的标准偏差而沿着宽度方向测定金属板的板厚时得到的、宽度方向的中央部的金属板的板厚的值设为X时，(C/X)×100(％)为3％以下。

本申请具体涉及在银币表面制备二氧化硅膜的方法、二氧化硅膜和银币，属于原子层沉积领域，包括步骤：前驱体沉积：将第一前驱体沉积在衬底表面，得到沉积膜；前驱体反应：将第二前驱体与所述沉积膜进行反应，得到二氧化硅层；循环进行所述前驱体沉积和所述前驱体反应，直至所述二氧化硅层的厚度达到目标厚度，得到二氧化硅膜；其中，所述第二前驱体包括含硅前驱体和含氧前驱体。通过首先在衬底上沉积第一前驱体，得到沉积膜，然后再将含氧前驱体和含硅前驱体与沉积膜反应，得到二氧化硅层，多次循环沉积后得到二氧化硅膜，二氧化硅膜硬度高，耐磨性强，进而沉积在银币表面时使得银币表面耐磨性强。

本发明的飞机发动机叶片的维修装置，连接于工业机器人的机械手上，包括：变频超声聚焦单元、电控检测单元以及激光熔覆单元，所述变频超声聚焦单元包括：连接于机械手的换能器、变幅杆以及可调超声聚焦锥，所述可调超声聚焦锥通过变幅杆与换能器连接；激光熔覆单元包括：激光发射器和与粉末箱联通的粉末输送管，所述激光发射器与粉末输送管均连接于机械手上；电控检测单元，控制变频超声聚焦单元的工作电压激光熔覆单元的送粉量以及机械手的运动。有益效果：避免现有固定频率超声振动辅助激光熔覆技术在飞机发动机叶片维修中因叶片的曲面、斜面形状不断变化，导致叶片修复区熔覆层的粉末滑移，叶片修复区的曲面、斜面部分熔覆层变薄、分层的问题。

本发明的实施例提供了一种粉末冶金制品的氮化工艺方法，涉及热处理技术领域，其首先对工件进行清洗，然后将工件送入真空炉，并且在渗氮温度下周期性地对真空炉进行抽真空操作和通氮化气体的操作，从而实现对工件实现真空脉冲氮化，最后冷却工件并出炉。相较于现有技术，本发明通过脉冲气体氮化工艺，可通过控制气氛中氮含量比，或氮氢的比例，可以提高工件表面硬度，改善白亮层不均匀现象，减少了工作的噪音，提高了耐磨、耐蚀特性，还可进一步扩大粉末冶金制品的用途，与其他氮化工艺相比，可以说是提高粉末冶金件氮化质量的一个很好得途径，且不需要磨削直接装机使用，降低后期加工成本。

本发明提供了一种轴类零件的激光熔覆装置，包括椭圆状壳体、锥形光学元件、旋转夹具和送粉机构；所述椭圆状壳体的内部空腔分别安装锥形光学元件和旋转夹具，且所述锥形光学元件位于椭圆状壳体的第一焦点处；所述旋转夹具上安装工件，所述工件位于椭圆状壳体的第二焦点处，用于使工件在第二焦点处旋转；激光束从椭圆状壳体的第一焦点处射入，通过锥形光学元件产生发散状的光束，利用椭圆状壳体的内部空腔反射到工件表面，用于使工件表面预热和熔覆；所述送粉机构用于给椭圆状壳体的内部空腔输送熔覆用的粉末。本发明提高了轴类零件的熔覆效率、熔覆质量以及粉末的利用率。

本发明公开了一种纳米复合MeSiCN涂层的制备装置及其制备方法，在真空室内无需增加额外结构设计，并能够有效解决现有多弧离子镀工艺中加入含有碳、氮和硅元素的有机硅气体后，靶表面很容易生成导电差的反应物，导致放电不稳定、基体获得电流降低，涂层质量不好的问题；本发明在金属靶前通入有机硅气体后，金属蒸汽和反应气体被磁场增强脉冲多弧发射出来的高密度电子离化，沉积在工件表面形成MeSiCN纳米复合涂层；本发明具有设备和工艺简单、沉积速度快、成本低、膜基结合强度高等优点。

本发明公开了一种金属表面涂层的离子喷涂装置及其工艺，包括喷涂箱，喷涂箱内部设置有喷涂腔室，喷涂腔室的顶端设置有离子喷枪，离子喷枪向固定在喷涂腔室内部的金属基体的表面进行等离子喷涂；喷涂腔室内部竖直设置有分隔板以及环绕设置在分隔板两侧的U型支撑板，分隔板将喷涂腔室分为预热腔室以及工作腔室，U型支撑板横向穿过设置在预热腔室和工作腔室内且滑动安装有运输机构，运输机构用于带动金属基体从预热腔室移动至工作腔室，离子喷枪设置在工作腔室端部，工作腔室上设置有冷却装置。发明实现金属基体在进行喷涂前达到理想温度并在喷涂过程中受到冷却并保持理想温度，且将喷涂时的工作温度引入至预热工作上，实现能量的多级利用。

本发明公开了一种连续真空镀膜系统及其功能单元和运行方法。所述连续真空镀膜系统包括：上料室和下料室；以及多个功能单元，每个功能单元包括依次相连的第一过渡室、功能室和第二过渡室，所述上料室、多个所述功能单元和所述下料室依次相连，其中所述上料室和相邻的所述功能单元的所述第一过渡室相连，所述下料室和相邻的所述功能单元的所述第二过渡室相连，相邻两个所述功能单元中的一者的所述第二过渡室和相邻两个所述功能单元中的另一者的所述第一过渡室相连。根据本发明实施例的连续真空镀膜系统具有处理效率和处理量高、处理效果好、制造成本和制造难度低、运行成本低等优点。

本发明提供一种耐高温氧化、自润滑的多层涂层刀具及其制备方法，包括基体和采用化学气相沉积(CVD)方法沉积在基体表面的多层涂层，所述多层涂层包括第一子涂层TiaAlbSicN(a+b+c＝1，0